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3,3',5,5'-四甲基联苯胺与钼磷酸纳米晶分子杂化材料的合成与表征

, 闻荻江 , 徐玲 , 王振平

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.01.007

以3,3',5,5'-四甲基联苯胺(TMB)与Keggin结构钼磷酸H3PMo12O40杂化,合成得到新型分子杂化材料,经元素分析及IR、ICP、XRD等手段表征,确定其分子结构为(TMB)3PMo12O40,TEM显示该分子杂化材料颗粒直径在40nm~60nm,分布均匀,属球形颗粒纳米晶,UV-vis和ESR谱证明(TMB)3PMo12O40分子杂化材料为电荷转移型超分子化合物,并具有显著的光敏性和电催化活性.

关键词: 纳米晶 , 分子杂化材料 , 电荷转移 , 钼磷酸 , 3,3',5,5'-四甲基联苯胺

激光熔覆添加碳化钨的镍基合金层的组织和硬度研究

, 牛焱

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.02.017

为促进激光熔覆在金属材料表面改性中的进一步应用,利用光学显微镜、扫描电镜、显微硬度计和电子探针微区成分分析,研究了Q235钢基体上激光熔覆添加有WC的Ni基合金层的特性及其演变,讨论了熔覆层合金成分和显微硬度的变化规律,力求得到熔覆粉的最佳WC含量.结果表明,当添加WC低于30%(质量分数)时,激光熔覆不出现裂纹;而当WC质量分数增加到30%(质量分数)时,熔覆层平均硬度增加,出现裂纹.在熔覆层中WC完全熔化并溶解,凝固组织主要由枝晶和枝晶间共晶组成,熔覆层呈胞状或条带状快凝亚稳的两相组织.

关键词: 激光熔覆 , 镍基合金 , WC , 微观结构 , 快速固化

AlN/SiO2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性

, 赵文济 , 孔明 , 黄碧龙 , 李戈扬

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00562

采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO2层厚的AlN/SiO2纳米多层膜, 利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能, 研究了多层膜微结构与力学性能随SiO2 层厚的变化, 考察了AlN/SiO2 纳米多层膜的高温抗氧化性. 结果表明, 受AlN层晶体结构的模板作用, 溅射条件下以非晶态存在的SiO2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体, 并与AlN形成共格外延生长结构, 多层膜相应产生硬度升高的超硬效应. SiO2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长, 致使多层膜的外延生长结构受到破坏, 其硬度也随之降低. 高温退火研究表明, 高硬度的AlN/SiO2 纳米多层膜的抗氧化温度为800℃, 与AlN单层膜相当. SiO2 层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度, 但是并不能提高其抗氧化温度.

关键词: AlN/SiO2纳米多层膜 , epitaxial growth , superhardness effect , oxidation resistance

反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能

, 昕蔚 , 李广泽 , 李戈扬

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.06.014

采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响.结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaCl结构.少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度.氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa.进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变.

关键词: 反应磁控溅射 , Ti(O,N)复合涂层 , 微结构 , 力学性能

Si对Ni--xAl合金900℃氧化行为的影响

, 牛焱

金属学报

研究了三元Ni--6Si--xAl (x=6, 10, 15, 原子分数,%)合金在900℃, 0.1 MPa 纯氧气中的氧化行为. 二元Ni--Al合金形成了外NiO膜, 并伴随有Al的内氧化. 而所有三元合金锈层底部均形成了连续完整的外Al2O3膜, 防止了Al的 内氧化, 从而显著降低了三元合金的腐蚀速率. 因此, 与二元Ni--Al合金相比, Si的存在能非常有效的减少形成Al2O3膜所需的临界Al含量. 在对Wagner 关于二元合金中最活泼组元由内氧化向外氧化转变判据理论进行扩展的基础上, 阐述了第三组元Si的作用.

关键词: Ni--6Si--xAl , null , null

金属大应变非局部非弹性损伤本构关系的宏观实验研究

罗冬梅 , 郑昭明 , , 李光霞

钢铁研究 doi:10.3969/j.issn.1001-1447.1999.04.014

利用弹塑性有限变形理论推导了大应变情况下的非局部非弹性损伤本构方程,以20号钢为例,用快速测量网格测量了其受拉时损伤点附近几个点的变形值,用数学回归方法得到了非局部影响函数 ,确定了大应变非局部非弹性损伤本构关系中的内变量.并由所得内变量确定了损伤演变规律,比较全面地描述了金属大应变应变应力-应变变化规律.

关键词: 非局部非弹性损伤 , 内变量 , 损伤演变

Si对Ni-xAl合金900℃氧化行为的影响

, 牛焱

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.08.016

研究了三元Ni-6Si-xAl(x=6,10,15,原子分数,%)合金在900℃,0.1 MPa纯氧气中的氧化行为.二元Ni-Al合金形成了外NiO膜,并伴随有Al的内氧化.而所有三元合金锈层底部均形成了连续完整的外Al2O3膜,防止了Al的内氧化,从而显著降低了三元合金的腐蚀速率.因此,与二元Ni-Al合金相比,Si的存在能非常有效的减少形成Al2O3膜所需的临界Al含量.在对Wagner关于二元合金中最活泼组元由内氧化向外氧化转变判据理论进行扩展的基础上,阐述了第三组元Si的作用.

关键词: Ni-6Si-xAl , 三元合金 , 氧化 , 硅效应

AlN/SiO2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性

, 赵文济 , 孔明 , 黄碧龙 , 李戈扬

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.03.029

采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO2层厚的AlN/SiO2纳米多层膜,利用X射线衍射仪,高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO2层厚的变化,考察了AIN/SiO2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AIN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应. SiO2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AIN/SiO2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当. SiO2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度.

关键词: AlN/SiO2纳米多层膜 , 外延生长 , 超硬效应 , 抗氧化性

(C16H20N2)3PMo12O40/PVA复合薄膜的制备及其光化学和电化学性质

, 闻荻江 , 徐玲 , 王振平 , 牛彩红

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2006.01.004

在制备的具有超分子特性的新型有机-无机配合物(C16H20N2)3PMo12O40中,3,3′,5,5′-四甲基联苯胺(C16H20N2,TMB)与杂多酸阴离子PMo12O3-40(PMA)之间存在明显的电荷转移作用,紫外光可促进TMB的氧化,转而促进(TMB)3PMA分子内的电子转移. 将此化合物掺杂到聚乙烯醇(PVA)中形成复合薄膜后,由于PVA氢键的传导和包合作用,对(TMB)3PMA光色性有较好的稳定和保护作用. 在H2SO4介质中,(TMB)3-PMA/PVA复合薄膜在Au电极上能进行多步准可逆电化学反应,且该修饰电极对IO-3有明显的电催化活性.

关键词: 四甲基联苯胺 , 钼磷杂多酸 , 聚乙烯醇 , 光化学性能 , 电催化活性

过渡金属杂多酸PW11M光催化还原制备金纳米粒子及其形貌

牛彩红 , , 王振平 , 李正 , 李蓉

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.07.013

以掺杂不同过渡金属离子的Keggin结构杂多酸为光催化剂和还原剂,通过光化学还原法制备金纳米粒子.研究发现,纳米金的形成速度、形貌与杂多化合物中掺杂的过渡金属种类、光照时间以及异丙醇的用量等有很大的关系.相同实验条件下,PW11 Zn、PW11 Fe的光催化还原速率明显高于PW11 Ni、PW11Cu,且前2种杂多化合物容易制得均匀而稳定性好的球形颗粒,而后2种则易形成一些三角形或六边形片状纳米粒子:增加紫外光照时间,一定范围内有利于纳米金的形成及形貌的完整;异丙醇用量的增加可以缩短反应时间,提高纳米颗粒的均匀性和稳定性.

关键词: 杂多化合物 , 光催化还原 , 金纳米粒子

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