周广宏
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王湘鸣
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印凤
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庄国志
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夏木建
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丁红燕
稀有金属材料与工程
采用磁控溅射法制备了Ti/TiB2周期性(T=2,3,4,6,12)多层膜,利用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜分析了薄膜的相结构和表面(断面)形貌,采用纳米压痕仪、多功能摩擦摩损试验机和显微硬度计研究了多层膜的纳米硬度、弹性模量、膜基结合力以及断裂韧性.结果表明:Ti/TiB2多层膜具有清晰的纳米层状结构,薄膜表面致密平整,与基体保持着良好的物理结合.多层膜的硬度和弹性模量随着调制周期的增加而增大,在周期T=12时,多层膜的硬度和弹性模量达到最大值,分别为35.8和349 GPa;多层膜的断裂韧性随着周期的增加呈现出先增大而后减小的趋势,当周期T=6时多层膜的断裂韧性最好,其断裂韧度为2.17 MPa·m1/2.分析认为多层膜中的Ti子层可使裂纹尖端产生钝化作用,从而引起裂纹扩展路径发生偏转,提高了多层膜的断裂韧性.
关键词:
Ti/TiB2多层膜
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调制周期
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力学性能
周广宏
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丁红燕
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朱庆灵
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张娜
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侯化龙
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曹维克
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庞利群
材料热处理学报
通过在电解液中添加适量的氟化铵和羟基磷灰石(HA)颗粒,采用微弧氧化法在AZ31B镁合金表面制备了含有F-和HA的活性陶瓷涂层,研究了F-的加入对涂层的组织形貌、耐蚀性能、亲水性能和血液相容性能的影响.结果表明:电解液中添加F-能有效抑制含HA陶瓷膜层的表面微裂纹的形成,并提高了陶瓷涂层的耐蚀性,腐蚀电位从-1.208 V提高至-0.978 V,腐蚀电流密度降低一个数量级,腐蚀速率减缓了近4倍.此外,F-能提高含HA陶瓷膜层的亲水性能,其静态水的接触角从18.7°降为6.8°,表面血小板粘附量显著减少,呈现出良好的血液相容性.
关键词:
镁合金
,
微弧氧化
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HA涂层
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耐蚀性
,
血液相容性
周广宏
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王寅岗
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祁先进
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黄一中
稀有金属材料与工程
利用磁控溅射法制备Substrate/Seed Ta(5 nm),Co75Fe25(5 nm)/Cap Ta(8 nm)铁磁膜,通过透射电镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和X射线衍射(XRD)等分析测试手段,研究Ga+离子辐照对CoFe磁性薄膜的矫顽力及薄膜的组织、结构的影响,利用SRIM2003软件模拟分析离子辐照后Ga、Ta等元素在CoFe薄膜中的深度分布情况.研究结果表明:采用低剂量(<1×1013ion·cm-2)的Ga+离子辐照对薄膜的矫顽力和磁性薄膜的组织,结构影响不大;随着辐照剂量的逐渐增大,磁性薄膜的矫顽力减小,晶粒变大,<111>方向的织构明显减弱;当辐照剂量>1×1015ion·cm-2时,注入到CoFe薄膜中的Ta、Ga原子及Ga+离子在与原子碰撞过程中形成空位、间隙原子等多种晶体缺陷,促进晶体向非晶体的转变.
关键词:
CoFe薄膜
,
聚焦离子束
,
Ga+离子辐照
,
磁性
周广宏
,
潘旋
,
朱雨富
,
王寅岗
稀有金属材料与工程
研究了磁场冷却前后Ni5oMn37In13磁驱动形状记忆合金薄膜在低温下的磁学行为.结果表明:磁场冷却后的Ni50Mn37In13薄膜在10K温度下表现出一定的交换偏置效应.在特征温度Tf以下,零场冷却状态下的Ni50Mn37In13合金处于超自旋玻璃态,而经磁场冷却后发生了从自旋玻璃态向磁有序的超铁磁结构的变化.超铁磁结构中的超铁磁团簇与反铁磁基体构成了铁磁/反铁磁耦合,从而导致了交换偏置的产生.
关键词:
交换偏置
,
磁驱动形状记忆合金
,
薄膜
董兴盛
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司乃潮
,
司松海
,
周广宏
钢铁钒钛
以凹凸棒黏土(ATP)为基体,通过原位溶胶-凝胶工艺,制备出凹土基复合光催化剂(ATP-SnO2-TiO2)光催化甲醛.采用X射线衍射(XRD),透射电镜(TEM)等分析测试技术对复合体进行表征.考察制备条件对其物理结构和光催化性能的影响,并对不同光催化剂性能进行研究.结果表明,在凹凸棒黏土表面负载SnO2-TiO2后光催化性能得到明显提高,复合体中TiO2负载量为50%(质量比)、SnO2与TiO2质量比为1∶4、800℃煅烧的复合光催化剂活性最强,光照射3h后对30 mg/L的甲醛溶液的降解率可达99%以上,显示出优异的光催化性能.
关键词:
TiO2
,
光催化剂
,
原位溶胶-凝胶
,
凹凸棒黏土
,
降解
潘旋
,
周广宏
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蒋素琴
,
朱雨富
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.10.024
通过激光加热对 Ni81 Fe19(15 nm )/Ni45 Mn55(x nm)磁性双层膜进行快速退火处理,系统研究了激光辐照参数对交换偏置场(H ex )大小的影响。结果表明,激光的能量密度强烈影响双层膜交换偏置效应,并存在一个能量密度的阈值(约为150 mJ/cm2),此时磁性双层膜能够产生较明显的交换偏置现象。磁性双层膜的H ex 随着能量密度的进一步增加逐渐变大,但随后减小直至完全消失。当 NiMn 层厚度为25 nm时,经激光加热退火处理后双层膜的H ex 最大值约为26.2 kA/m,略大于常规退火后的 H ex 值(22.3 kA/m)。
关键词:
NiMn
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磁性薄膜
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交换偏置场
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激光加热退火