吴皇
,
易茂中
,
周文艳
,
庞伟林
,
冉丽萍
复合材料学报
doi:10.13801/j.cnki.fhclxb.20160422.001
为了提高炭/炭(C/C)复合材料的耐烧蚀性能,以孔隙率为38%的C/C复合材料为坯体,Zr-Cu混合粉末为熔渗剂,采用反应熔渗法制备了ZrC-Cu-C/C复合材料。通过氧-乙炔焰烧蚀实验,研究了熔渗剂成分对复合材料高温耐烧蚀性能的影响。利用 XRD、SEM和 EDS对烧蚀前后 ZrC-Cu-C/C 复合材料的相组成和微观结构进行了分析。结果表明：ZrC-Cu-C/C复合材料烧蚀前主要存在C、ZrC和Cu相,有微量Zr残余；烧蚀20 s后表面主要存在炭基体、ZrO2、CuO、Cu2 O及残余的ZrC和Cu。随熔渗剂中Zr含量增加,复合材料的线烧蚀率和质量烧蚀率均呈现先减小后增大的趋势,以60% Zr-Cu(质量分数)为熔渗剂制备的 ZrC-Cu-C/C复合材料的抗烧蚀性能最佳,其线烧蚀率和质量烧蚀率分别为0.0018 mm·s-1和0.0013 g·s-1。ZrC-Cu-C/C复合材料的烧蚀机制为以C的升华、ZrO2的熔化及Cu的蒸发和汽化为主的热物理烧蚀、ZrC和C氧化的热化学烧蚀以及高压热流冲刷引起的机械剥蚀的综合作用。
关键词:
锆铜混合粉末
,
反应熔渗法
,
ZrC-Cu-C/C复合材料
,
烧蚀性能
,
烧蚀机制
周文艳
,
冉丽萍
,
彭可
,
葛毅成
,
易茂中
复合材料学报
doi:10.13801/j.cnki.fhclxb.20151112.005
采用熔盐法在低密度炭/炭(C/C)坯体内孔表面制备了Mo2C涂层,然后通过无压熔渗制备了C/C-Cu复合材料,研究了C/C-Cu复合材料的组织结构及载流摩擦磨损性能.结果表明:熔融Cu可自发渗入制备了Mo2C内涂层的C/C坯体,复合材料中Cu相与C/C坯体形成相互贯穿的连通网络结构,Mo2C涂层与Cu和热解炭(PyC)间均有良好的界面结合,反应生成Mo2C过程中的催化石墨化及应力石墨化共同作用使C/C-Cu复合材料中Mo2C涂层附近PyC的有序度提高.随载荷增大,C/C-Cu复合材料的摩擦系数逐渐降低,体积磨损率增大,而对偶的质量损失逐渐降低;载荷较大时材料磨损表面被摩擦膜覆盖的面积增大,但因粘着磨损摩擦膜的粗糙程度提高.材料磨损过程中还发生了氧化磨损,且载荷增大磨损表面O含量提高.
关键词:
C/C-Cu复合材料
,
Mo2C涂层
,
熔渗
,
显微组织
,
摩擦磨损性能
陈芳
,
易回阳
,
吴一鸣
影像科学与光化学
以活性艳橙溶液为模拟废水,通过H2O2/TiO2超声(US)协同作用光降解活性艳橙溶液,探讨了TiO2催化剂用量、H2O2用量、活性艳橙溶液的初始浓度、pH值、TiO2催化剂锻烧温度等对活性艳橙溶液降解率的影响,并比较了几种不同作用方式对活性艳橙溶液的降解效果.结果表明:UV/H2O2/TiO2/US协同作用降解活性艳橙溶液的效果最好;当活性艳橙溶液的初始浓度为20 mg·L-1,pH＝5,TiO2用量为0.4 g·L-1,H2O2用量为0.4 ml·L-1时,降解率可达92.06%.
关键词:
超声波
,
TiO2
,
协同作用
,
活性艳橙
,
降解
张波
,
彭书传
,
王世亮
,
张泽滨
,
吴敏伟
材料导报
通过静态吸附实验方法,研究了有机改性凹凸棒石吸附活性艳蓝KN-R的动力学行为.研究结果表明:准二级动力学模型能很好地描述活性艳蓝KN-R在有机改性凹凸棒石上的动力学行为,平衡吸附量q2随着KN-R初始浓度、振荡速度、温度的增加而增加.有机改性凹凸棒石吸附活性艳蓝KN-R主要是外表面吸附,吸附活化能为39.2 kJ/mol,说明其为物理吸附、化学吸附综合作用的过程,其速率由化学过程与外扩散共同控制.
关键词:
有机改性
,
凹凸棒
,
吸附
,
活性艳蓝KN-R
,
动力学
李婧娴
,
董声雄
,
苗晶
膜科学与技术
doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2009.01.002
采用湿相转化法制备了以活性艳蓝KN-R为印迹分子的醋酸纤维素(CA)-聚偏二氟乙烯(PVDF)分子印迹膜(MIM).实验结果表明在一定的制备条件下可制得具有较大吸附结合率的MIM,此时的铸膜液组成为:活性艳蓝KN-R质量浓度硼ω1为0.1%,共混组成比ω(CA):ω(PVDF)=9.5:0.5,聚合物质量浓度ωp,为14%,添加剂LiCl质量浓度ωa为7.5%.所制得的MIM是一种特异分子吸附膜,对印迹分子具有亲和性,其分离机理属于延迟渗透机理.在一定范围(0～0.1%)内,随着印迹分子活性艳蓝KN-R质量浓度增大,MIM的吸附选择性提高.由吸附焓△H0及MIM与印迹分子间结合力强弱的测定结果可知,MIM与印迹分子之间的结合作用力以疏水/范德华力与氢键作用为主.
关键词:
湿相转化法
,
活性艳蓝KN-R
,
分子印迹膜(MIM)
,
共混膜
周银
,
王宇
,
卢士香
,
徐文国
,
苏苏
人工晶体学报
采用溶胶-凝胶法制备了不掺杂和掺杂铝离子、镧离子以及两种离子共掺杂的ZnO,并用X射线衍射(XRD),高分辨透射电镜(HRTEM),紫外-可见(UV-Vis)吸收光谱对其进行了表征.用紫外灯作为光源,一定浓度的活性艳蓝X-BR溶液为光催化反应模型污染物,研究了各种离子掺杂ZnO的光催化性能,考察了掺杂量对降解率的影响.结果表明,镧离子和铝离子掺杂浓度为2 at%和3 at%的共搀杂ZnO的光催化性能最好;在室温下,加入催化剂浓度为0.1 g/L,降解时间为45 min时,对活性艳蓝X-BR溶液的降解率达到96.63%.
关键词:
溶胶-凝胶
,
纳米氧化锌
,
光催化降解
,
镧铝共掺杂
李聪
,
成岳
,
马朝云
,
刘宇
硅酸盐通报
按nAl2O3:nSiO2∶ nNaO∶ nH2O=1∶14∶ 6∶250的摩尔比,100℃10 h水热合成出微孔NaY分子筛,按n(SiO2)∶n(CTAB)∶n(H2O)=0.6∶1∶30的摩尔比配制成MCM48的溶胶液,再将NaY混合到MCM-48的晶化液中,110℃晶化72 h后取出漂洗烘干,再在550℃焙烧去除有机模板剂,获得NaY/MCM-48微介孔复合分子筛,采用XRD、SEM和TEM等手段对合成分子筛进行了表征.考查了分子筛的投加量、pH值、温度、吸附时间等对吸附活性艳兰KN-R染料废水脱色率的影响,研究了三种分子筛对活性艳兰的吸附等温线,吸附动力学和热力学.研究结果表明:NaY/MCM-48微介孔复合分子筛,对活性艳兰KN-R的吸附效果较好,当NaY/MCM-41微介孔复合分子筛的投加量为0.3 g/L、活性艳兰KN-R染料浓度20 mg/L,溶液pH =4、吸附时间为60 min,温度为55℃时吸附结果最好,脱色率以达到了96.6％.这三种分子筛可用Langmuir和Freundlich等温吸附方程描述,其中NaY,MCM-48分子筛与Freundlich等温吸附方程具有更好的相关性,而NaY/MCM--48复合分子筛与Langmuir等温吸附方程具有更好的相关性;拟二级吸附动力学反应模型与实验数据之间有更好的相关性,可以用方程lnK=-△H/RT+ lnCe来进行拟合.
关键词:
NaY/MCM-48复合分子筛
,
活性艳兰KN-R染料
,
脱色率
,
吸附等温线
,
动力学和热力学
冯长根
,
李鑫
,
曾庆轩
,
周绍箕
功能材料
采用聚丙烯强碱阴离子交换纤维对活性艳黄等几种活性染料进行静态吸附、动态吸附和再生实验,并与同类型树脂相比较.结果表明,强碱阴离子交换纤维对活性艳黄的吸附曲线符合Langmuer等温方程,吸附反应以液膜扩散为主,反应速率随温度和pH值的升高而增加,并且远大于树脂的吸附反应速率.动态吸附表明,强碱阴离子交换纤维对活性艳蓝、活性艳黄和活性艳红的吸附处理量依次增大.利用硝酸乙醇混合溶液再生,再生效率85.7%,纤维能够反复多次使用,可以作为活性染料废水的脱色剂使用.
关键词:
离子交换纤维
,
活性染料
,
吸附
,
脱色
南小英
,
成岳
,
徐风琴
硅酸盐通报
以四丙基溴化铵(TPABr)为模板剂合成ZSM-5分子筛并采用XRD、SEM进行了表征,研究ZSM-5分子筛、铁屑和铁屑/ZSM-5分子筛对染料废水的处理效果,分别考察了染料废水浓度、pH、反应时间、ZSM-5分子筛和铁屑投加量对活性艳兰KN-R染料废水脱色的影响.研究结果表明:铁屑/ZSM-5分子筛联合处理染料废水的效果优于单独使用铁屑和ZSM-5分子筛；在铁屑投加量50 g/L,ZSM-5分子筛投加量为4 g/L,pH值为6,反应60 min条件下,活性艳兰染料废水的脱色率可达到99.05％.
关键词:
ZSM-5分子筛
,
铁屑
,
活性艳兰KN-R
,
染料废水
,
脱色率
马春
,
陈丽凤
,
马红超
,
董晓丽
稀土
以离子液体1-庚基-3-甲基咪唑溴盐([C7mim] Br)为反应介质,采用水热法制备钆铈修饰纳米ZnO光催化剂.通过SEM、TEM、XRD、UV-Vis等手段对所制备的样品的形貌、物相和结构进行表征.结果表明,以离子液体[C7mim] Br为反应介质制备的ZnO与(Gd3+,Ce4+)-ZnO均属纤锌矿结构;钆铈修饰则有效抑制了ZnO晶粒的生长,使得光响应范围发生红移,且增强了ZnO的可见与紫外光区光吸收.以氙灯为光源,有机染料活性艳蓝为目标降解物,考察纳米ZnO及(Gd3+,Ce4+)-ZnO的光催化活性.光催化活性测试显示(Gd3+,Ce4+)-ZnO对活性艳蓝的去除率(92.36％)远高于ZnO(52.49％),Gd3+、Ce4+共修饰能够显著提高ZnO的可见光活性.
关键词:
钆铈修饰
,
纳米氧化锌
,
离子液体
,
光催化氧化
