周杨
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吕运容
,
程四祥
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吴祥
腐蚀与防护
国内某大型炼油企业常减压装置常压塔在2013年大修停工腐蚀调查期间发现了严重的腐蚀问题,根据设备的设计参数、工艺参数、原料及污水采样数据分析,对设备腐蚀部件进行了基于风险的腐蚀分析,识别了该部位的失效模式和损伤机理,根据分析结果提出了腐蚀控制建议.
关键词:
常压塔
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盐酸腐蚀
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有机氯
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腐蚀控制
魏俊超
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周杨
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崔毅
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陈义旺
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章培标
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陈学思
高分子材料科学与工程
纳米羟基磷灰石/聚合物复合材料在骨组织工程中得到广泛应用,但是纳米羟基磷灰石与聚合物的相容性非常差,在使用过程中易出现相分离现象,限制了其应用。通过在纳米羟基磷灰石表面接枝有机高分子,可以改变其表面性质、有效地改善HA与聚合物的相容性,从而提高复合材料的性能。文中综述了最近几年纳米羟基磷灰石表面改性的相关研究,着重对纳米羟基磷灰石表面接枝聚合物的相关反应方法(开环聚合、自由基聚合、缩合反应等)进行介绍。
关键词:
羟基磷灰石
,
表面改性
,
组织工程
王再德
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陈玲
,
焦明泉
,
李潇
,
周杨
材料保护
为了提高无铬达克罗技术的耐蚀性,使无铬达克罗在成膜过程中形成致密钝化膜,在无铬达克罗涂液中添加不同钝化剂,采用胶带试验、弯曲试验、划痕试验、盐雾试验、硝酸铵快速检测法等评价了涂层性能,采用电化学工作站测量涂层的极化曲线、开路电位等,考察了锌铝涂层的性能和对铁基体的电化学保护情况.结果表明,添加钼酸盐后的钝化效果最好.
关键词:
无铬达克罗
,
钝化
,
涂层
,
性能
,
电化学测量
周杨
,
江美福
材料科学与工程学报
近年来,Si基ZnO∶ Al透明导电薄膜界面处Si的渗透对薄膜性能的影响引起了人们的关注.本文采用射频磁控溅射法,在石英和Si衬底上沉积了不同厚度的Al、Si弱掺杂(1 wt.%)的ZnO薄膜(AZO∶ Si),系统研究了膜厚(等价于Si的渗透深度)对薄膜电学、光学性质的影响.结果显示,膜厚在几十nm时,薄膜的电阻率、载流子浓度和迁移率都强烈地依赖于膜厚,在膜厚为19nm时,载流子浓度和迁移率接近最小,电阻率较大,且呈现p型导电特性.随着膜厚增加,载流子浓度和迁移率都变大,电阻率减小并趋于稳定,膜厚在396nm附近时电阻率最小是7× 10-3Ω ·cm,此时的载流子浓度和迁移率分别是1.54×1020cm-3和5.66 cm2V-1s-1.膜厚达300nm以上时,Si的影响已可忽略.结合薄膜的X射线衍射(XRD)图谱、X射线光电子能谱(XPS)和紫外—可见光(UV-Vis)透射光谱探讨了膜厚(Si的渗透深度或过渡层厚度)对薄膜性能的影响及其相关机制.
关键词:
AZO∶Si
,
磁控溅射
,
膜厚
,
电光性质
徐汝军
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李恩
,
周杨
,
郭高凤
宇航材料工艺
doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2010.05.021
讨论了TM0n0模圆柱腔法测量介质复介电常数的原理,提出了一种TM0n0模圆柱腔设计的改进方法,研制了测试夹具,通过与未改进腔体比较和对石英样品复介电常数的测量.结果证明,该腔体大量抑制了圆柱腔的干扰模式数量,减小了测试误差,提高了测试准确度.
关键词:
微波测量
,
复介电常数
,
圆柱腔
周杨
,
李小武
,
张广平
,
张哲峰
材料科学与工艺
为了更细致地揭示面心立方金属单晶体的循环变形机制,利用扫描电镜电子通道衬度(SEM-ECC)技术观察研究了Schmid因子为0.5的[4 18 41]单滑移取向铜单晶体的循环饱和位错结构.实验表明,在单滑移铜单晶体中,胞结构除了在高应变幅下的循环变形中出现外,还可能出现在循环应力-应变(CSS)曲线平台区的较低塑性应变幅下.驻留滑移带(PSBs)会随应变幅的增大而在试样表面聚集成内部含有位错胞的粗滑移带,带内的位错胞结构被认为是由于带内滑移阻力增大引起的应变集中所致形成的.此外,CSS曲线高应变幅区起始部分对应的循环饱和位错结构观察揭示出迷宫结构和胞结构是由PSBs逐渐演变而成的.
关键词:
铜单晶
,
循环变形
,
位错结构
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SEM-ECC
,
驻留滑移带PSBs