赵立新
,
彭鸿雁
,
陈玉强
,
罗玉杰
,
陈宝玲
,
徐闰
,
黄健
,
王林军
,
夏义本
,
金曾孙
新型炭材料
采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响.结果表明:氢等离子体处理后,类金刚石膜的场发射性能明显提高,其发射阈值电场由26 V/μm下降到19 V/μm.氢等离子体刻蚀除去了类金刚石膜生长表面的富含石墨的薄层,露出的新表面具有较低的功函数;膜表面的悬键被氢原子饱和,进一步降低了电子亲和势,改善了膜的场发射性能.
关键词:
类金刚石膜
,
氢等离子体处理
,
场发射
周文静
,
史伟民
,
伍丽
,
李爱民
,
唐健敏
,
秦娟
,
王林军
,
夏义本
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.05.016
本文采用CuPc作为电子给体,C_(60)作为电子受体制备了ITO/CuPc/C_(60)/Al异质结太阳能电池.实验表明器件中活性层(CuPc/C_(60))对太阳能电池的光电性能有很大的影响.主要原因是有机物的激子扩散长度大约是十几纳米左右,产生的激子大多数在未到达异质结之前就已经复合.本文讨论了活性层(CuPc/C_(60))的厚度比,并获得其最优比例.
关键词:
有机太阳能电池
,
酞菁铜
,
富勒烯
,
厚度
彭兰
,
王林军
,
闵嘉华
,
张继军
,
陈军
,
梁小燕
,
严晓林
,
夏义本
功能材料
研究了碲锌镉(CZT)晶片表面的机械研磨和机械抛光工艺.采用不同粒度的Al2O3磨料对CZT晶体表面进行机械研磨和机械抛光,并研究了工艺参数变化对CZT晶体表面质量、粗糙度、研磨速度和抛光速度的影响.结果表明,机械研磨采用粒度2.5μm的Al2O3磨料,最佳的研磨压力和研磨盘转速分别为120g/cm.和75r/min,研磨速度为1μm/min;机械抛光采用粒度0.5μm的Al2O3抛光液,最佳的抛光液浓度为6.5%(质量分数),抛光速度为0.28μm/min.AFM测试得到机械研磨后晶片表面粗糙度Ra值为13.83nm,机械抛光4h后,Ra降低到4.22nm.
关键词:
碲锌镉
,
机械研磨
,
机械抛光
,
研抛速度
,
粗糙度
王志明
,
夏义本
,
杨莹
,
方志军
,
王林军
,
居建华
,
张伟丽
,
范轶敏
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.026
为了在氧化铝上制备(100)定向织构的金刚石薄膜,必须先提高金刚石的成核密度。在微波
等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统中,采用低压成核的方法,在氧化铝陶瓷上沉积出高成核密
度的金刚石薄膜。扫描电镜显示其成核密度可达108cm-2。在此基础上,沉积出(100)织构的金
刚石薄膜。
关键词:
MPCVD
,
金刚石膜
,
氧化铝
,
气体压力
,
成核密度
居建华
,
夏义本
,
张伟丽
,
王林军
,
史伟民
,
黄志明
,
李志锋
,
郑国珍
,
汤定元
功能材料
采用功率密度分别为300、750和1500W/mm2的氩离子激光器,对由射频等离子化学气相沉积(RF-CVD)法制备的掺氮类金刚石薄膜进行了激光退火处理.并用傅立叶红外吸收光谱和显微Raman等手段,对所得样品进行了研究.结果表明:C-N键比C-H键更为稳定,一方面氮原子的引入制约了C-H键的生成,在激光退火中减少了因C-H键分解而引起薄膜的石墨化;另一方面生成的C-N键不易受热分解;因此随着氮含量的增加,薄膜中C-N成分增加,从而提高了类金刚石薄膜的热稳定性.
关键词:
类金刚石薄膜
,
激光退火
,
拉曼光谱
,
热稳定性
居建华
,
夏义本
,
张伟丽
,
王林军
,
史伟民
,
黄志明
,
李志锋
,
郑国珍
,
汤定元
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.010
采用显微拉曼光谱研究了掺氮的类金刚石薄膜,该薄膜分别经过能量密度为300,750和
1500W/mm2氩离子激光的退火处理。分析结果表明氮原子在类金刚石薄膜中形成了C-N键制
约了C-H键的形成。由于C-N键的键能比C-H键的键能大得多,因此在激光退火过程中C-N
键不易分解。所以随着氮含量的增加,类金刚石薄膜的激光退火后石墨化程度明显降低,具有比较
好的热稳定性。而非掺氮的类金刚石薄膜由于C-H键含量比较高,因此激光退火后容易石墨化。
关键词:
类金刚石薄膜
,
激光退火
,
拉曼光谱
,
热稳定性
任玲
,
王林军
,
苏青峰
,
刘健敏
,
徐闰
,
彭鸿雁
,
史伟民
,
夏义本
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.04.011
采用热丝辅助化学气相沉积(HFCVD)方法生长得到25μm厚的[100]取向金刚石膜,用以制备辐射探测器.在100 V偏压下,测得暗电流为16.1 nA,55Fe X射线(5.9 keV)和241Am α粒子(5.5 MeV)辐照下的净光电流分别为15.9nA和7.0nA.光电流随时间的变化先快速增加随后由于"pumping"效应逐渐达到稳定.X射线和α粒子辐照下的平均电荷收集效率分别为45%和19%,并由Hecht理论计算得到对应的电荷收集距离为11.25μm和4.75μm.
关键词:
金刚石膜
,
辐射探测器
,
光电流
,
电荷收集效率
阮建锋
,
夏义本
,
王林军
,
刘健敏
,
蒋丽雯
,
崔江涛
,
苏青峰
,
史伟民
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.02.003
利用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,通过逐次调整气压、碳源浓度等生长参数,沉积了晶粒尺寸逐层减小的多层式金刚石薄膜.场发射扫描电镜(FE-SEM)和原子力显微镜(AFM)测试显示其表层晶粒平均尺寸约为20nm,厚度和表面平均粗糙度分别为35.81μm和18.8nm(2μm×2μm),皆能满足高频声表面波器件用衬底的要求.实验结果表明,多层式生长方法是制备声表面波器件用金刚石衬底的理想方法.
关键词:
纳米金刚石
,
HFCVD
,
表面粗糙度
,
声表面波
王志明
,
夏义本
,
杨莹
,
方志军
,
王林军
,
居建华
,
范轶敏
,
张伟丽
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.020
在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.
关键词:
金刚石薄膜
,
MPCVD
,
氧化铝陶瓷
,
系统压强
,
成核