李万俊
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孔春阳
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秦国平
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阮海波
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杨天勇
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梁薇薇
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孟祥丹
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赵永红
材料导报
获得高质量稳定的p型ZnO薄膜是实现ZnO基光电器件化的关键.目前,国际上公认V族元素中的N替代O位(No)是实现p型ZnO较理想的掺杂途径.但p-ZnO:N薄膜的导电性能会随着时间、光照、温度条件发生变化,稳定性不足.大量的理论和实验研究表明N基二元共掺( N-X)可以提高N在ZnO薄膜中的固溶度,浅化N的受主能级,且在很大程度上能够改善p型ZnO的导电性能,有利于获得稳定的p型ZnO薄膜.为此,从N基施主受主共掺、双受主共掺以及其它共掺方面综述了N-X共掺p型ZnO薄膜的研究现状.
关键词:
p型ZnO薄膜
,
N-X共掺
,
稳定性
崔玉亭
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游素琴
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武亮
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马勇
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孔春阳
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杨晓红
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潘复生
稀有金属材料与工程
采用多种测量手段,对制备出的转变温度在室温以上的Ni_(46)Mn_(35)Ga_(19) 单晶的物性进行表征.电阻和交流磁化率结果表明,该材料的磁转变和马氏体相变是同时发生的.定温磁化强度测量得出材料磁熵变的增长速率高达9.0 J/kg·K·T,在1274 kA/m(1.6 T)的磁场下,磁熵变达13.8 J/kg·K.此外,应变测量表明,伴随该磁熵变,材料展现出应变量分别高达-0.89%和-1.90%的自发和磁控双向形状记忆效应.
关键词:
形状记忆效应
,
磁熵变
,
磁转变
,
马氏体相变
游素琴
,
崔玉亭
,
武亮
,
孔春阳
,
马勇
,
杨晓红
,
潘复生
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2009.03.016
证实了Ni53.2Mn22.6Ga24.2单晶发生的两步马氏体相变行为是完全热弹性的.在磁场作用下,该材料的马氏体相变和中问马氏体相变展现出相同的应变特征,且具有磁控双向形状记忆效应.磁场下应力-应变特性的测量结果表明,磁场不但对压应力诱发马氏体相变过程中变体重取向所需应力的大小有影响,而且使原来不可逆的形变成为可逆,这种磁控超弹性特性预示了该合金用作磁控超弹性元器件材料的可能性.
关键词:
Ni-Mn-Ga合金
,
马氏体相变
,
形状记忆效应
,
超弹性
朱仁江
,
孔春阳
,
秦国平
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王楠
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戴特力
,
方亮
材料导报
采用离子注入技术对射频磁控溅射制备的ZnO薄膜进行N掺杂,通过退火实现了ZnO薄膜的p型转变.利用X射线衍射(XRD)和Hall实验对样品热退火前后的性能进行了研究.实验数据表明,该掺杂方法能得到稳定的p型ZnO薄膜,其电学性能随热退火温度的升高和时间的延长而进一步改善,其中在950℃、7min退火条件时,载流子浓度为1.68E+16cm-3,电阻率为41.5Ω·cm.
关键词:
氧化锌薄膜
,
p型
,
离子注入
,
制备
朱仁江
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孔春阳
,
马勇
,
王万录
,
廖克俊
材料导报
ZnO薄膜作为第三代半导体功能材料,高质量的p型掺杂是基于光电器件应用的关键.概述了ZnO薄膜V族元素氮、磷、砷(N、P、As)p型掺杂的研究进展,分析对比了3种元素的掺杂和p型转变特性,简单介绍了共掺杂技术,提出了有待进一步研究的问题.
关键词:
氧化锌
,
p型掺杂
,
共掺杂
,
V族元素