郑静地
,
邹友生
,
宋贵宏
,
宫骏
,
刘越
,
孙超
,
闻立时
金属学报
利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层. 研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性
能的影响. 结果表明, 在较小偏压下, (Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向; 偏压在--150 V时, 涂层无择优取向; 但随偏压继续升高, 出现(200)和 (220) 择优取向. 在添加Ti过渡层时, 涂层与基体形成致密均匀的良好结合. 同时通过设计梯度涂层, 获得了厚度达105 um的无裂纹(Ti,Al)N涂层.
关键词:
(Ti
,
Al)N coating
,
SiCp/Al composite
,
arc ion plating
邹友生
,
汪伟
,
宋贵宏
,
汪爱英
,
孙超
,
黄荣芳
,
闻立时
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.014
采用电弧离子镀方法,在Si(100)基底上分别在高纯Ar、高纯H2和C2H2的气氛下沉积类金刚石膜,利用激光Raman谱和X射线光电子能谱(XPS)对沉积膜的结构进行了分析.结果表明与在高纯H2和C2H2气氛下相比,在高纯Ar中沉积类金刚石膜Raman谱的ID/IG值最小,膜中sp3C含量最高为35.55%.纳米压痕仪测量结果表明不同气氛下沉积膜的硬度和弹性模量分别在16.7～34.8GPa和143.2～236.9GPa之间变化.在高纯Ar气氛下沉积膜的硬度和弹性模量最大分别为34.8GPa和236.9GPa.
关键词:
电弧离子镀
,
类金刚石膜
,
微观结构
,
力学性能
郑静地
,
邹友生
,
宋贵宏
,
宫骏
,
刘越
,
孙超
,
闻立时
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2004.07.014
利用电弧离子镀技术在SiCp/2024Al基体上制备(Ti,Al)N涂层.研究了偏压对涂层的相组成、晶格常数和成分的影响及不同过渡层对涂层与基体结合性能的影响.结果表明,在较小偏压下,(Ti,Al)N涂层呈(111)择优取向;偏压在-150 V时,涂层无择优取向;但随偏压继续升高,出现(200)和(220)择优取向.在添加Ti过渡层时,涂层与基体形成致密均匀的良好结合.同时通过设计梯度涂层,获得了厚度达105 μm的无裂纹(Ti,Al)N涂层.
关键词:
(Ti
,
Al)N涂层
,
复合材料
,
电弧离子镀
,
偏压
宋贵宏
,
郑静地
,
刘越
,
孙超
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.035
利用电弧离子镀,在不锈钢和SiCP增强2024铝基复合材料基底上沉积TiAlN薄膜.结果表明:TiAlN膜层直接沉积在不锈钢基底上,膜层呈[111]择优取向;然而,TiAlN膜层沉积在不锈钢基底的TiAl过渡层上,膜层呈[220]方向择优取向;并且随着过渡层从零开始增厚,TiAlN膜层的织构系数T(111)逐渐减小,而T(200)逐渐增大,但膜层一直以[220]方向择优取向,内应力的存在可能是膜层产生[220]方向择优取向的原因.在复合材料基底TiAl过渡层上沉积,随着负脉冲偏压的增加,TiAlN膜层的择优取向由[111]向[200]转变.在不锈钢基底上,没有TiAl过渡层时,膜层表面相对光滑,大颗粒较少;有了TiAl过渡层,表面大颗粒较多;TiAl过渡层不同沉积时间对膜层表面影响不大,颗粒尺寸相差无几.没有TiAl过渡层时,膜层结合强度很差,有了TiAl过渡层,结合强度明显增加,但结合强度的大小随过渡层沉积时间(厚度)变化.
关键词:
电弧离子镀
,
TiAlN膜层
,
织构
,
TiAl过渡层
,
结合强度
,
内应力
胡南昌
,
尚丽娟
,
田素贵
,
宋贵宏
钢铁研究学报
采用修正的θ函数影射概念对单晶镍基高温合金的蠕变曲线进行了拟合和预测.根据一系列的实验数据建立了蠕变方程中有关参数的数学表达式,据此对1 040℃、137 MPa下的蠕变寿命进行了预测,预测精度达96%,远高于用早期的θ函数影射概念预测结果.该方法仅需确定3个参数,简化了计算,同时,线性参数表达式确保了预测精度.
关键词:
单晶镍基高温合金
,
寿命预测
,
蠕变
宋贵宏
,
柳晓彤
,
孟雪
,
王亚明
,
陈立佳
,
贺春林
人工晶体学报
利用高真空磁控溅射设备并顺序沉积Cr、Ti和Si层并随后在500℃真空退火6h,在Si(100)衬底上,获得不同Ti掺杂量的CrSi2薄膜.场发射扫描电镜观察表面形貌显示,沉积薄膜具有7～8 nm的晶粒且尺寸比较均匀,Ti含量增加,晶粒尺寸略有增加;X射线衍射谱显示沉积薄膜具有单一CrSi2点阵(111)晶面择优取向,在1.16at％到1.74at％的Ti含量范围内,随Ti含量的增加,CrSi2纳米薄膜的(111)择优取向的程度下降,同时,Ti含量增加,薄膜CrSi2点阵常数增加,这表明Ti在CrSi2晶体中以替位形式存在.随着Ti含量增加,沉积薄膜的霍尔系数降低,空穴浓度增加,同时薄膜空穴载流子的迁移率和Seebeck系数单调下降;受空穴浓度增加和迁移率降低的影响,随Ti含量增加,沉积薄膜电导率和功率因子呈现先增加达到最大值后又下降的趋势.
关键词:
CrSi2薄膜
,
电导率
,
迁移率
,
Seebeck系数
宋贵宏
,
宫骏
,
孙超
,
黄荣芳
,
闻立时
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2000.04.019
本文测量HFCVD生长的金刚石膜的红外透射率.结果表明,膜中的缺陷、杂质和非金刚石相在透射谱中产生吸收带;膜表面的粗糙度和组织形貌对透射率有较大的影响.形核表面面对红外光源时,由于减少表面散射而透射率较高;定向或高取向膜的透射率高于混杂取向膜的透射率,表明晶格取向和晶界分布影响膜的透射性能.
关键词:
金刚石膜
,
热丝化学气相沉积
,
红外透射率
,
晶体形貌
宋贵宏
,
张硕
,
李锋
,
陈立佳
稀有金属材料与工程
研究铝合金上电弧离子镀(Ti,Al)N膜层的腐蚀性能.通过对3种N2气分压下沉积膜层的阳极极化曲线、电化学阻抗谱、盐雾腐蚀失重曲线以及表面形貌的分析表明:沉积过程氮分压较低时,膜层中含有富金属相,耐腐蚀性能较低;增加氮分压使膜层中金属与非金属呈理想配比时,膜层的耐腐蚀性明显增加;膜层在缺陷处产生点蚀、电偶腐蚀,并通过形成裂纹、碎屑脱落使质量显著减小.
关键词:
Al合金
,
腐蚀
,
(Ti,Al)N膜
,
电弧离子镀
,
氮分压
宋贵宏
,
李锋
,
陈立佳
,
杜昊
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.005
为了探索和研究在铝合金和镁合金衬底上电弧离子镀沉积梯度的(Ti,Al)N涂层的沉积工艺并确定沉积涂层的基本性能,从而为该涂层的应用奠定理论基础.采用试验和比较的方法.结果表明:在铝合金衬底上可以成功地沉积厚度可达60μm的梯度(Ti,Al)N涂层,涂层与衬底的界面没有缺陷、空洞,与衬底的结合强度很好;而在AZ31镁合金衬底上,由于衬底上含有镁的氧化物,沉积涂层极易脱落.常规的研磨、抛光等方法无法克服由于镁活性大、氧化速率快所形成的氧化膜造成沉积涂层极易脱落现象.X射线衍射谱表明,沉积涂层为TiN结构,Al以替位的形式占据TiN中Ti的位置,形成(Ti,Al)N涂层,没有AlN结构出现;涂层中,Ti和Al原子比近似为1:1,与靶材的成分相同.得出结论:通过改变沉积过程中N2气的分压,可以在铝合金衬底上沉积出硬度和成分梯度变化的厚涂层,但在镁合金上涂层极易脱落;铝合金上的梯度厚涂层可以解决衬底材料硬度低而涂层硬度高所存在的不协调的问题.
关键词:
(TiAl)N涂层
,
电弧离子镀
,
铝合金
,
镁合金
,
梯度涂层
