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光刻技术在半导体器件大规模生产中发挥重要作用.今天,多数先进半导体生产都已经应用ArF准分子激光浸润光刻技术.双重图像曝光和侧壁图像转移技术使ArF准分子激光浸润光刻技术延伸到32纳米半节距(HP)器件的制造成为可能.为了制造更小尺寸的器件,必须开发新的制造工艺.极端紫外线光刻是制造22纳米半节距甚至更小尺寸半导体器件的先进下一代光刻技术解决方案.另外,其他技术解决方案,如纳米压印光刻技术和无掩模直描光刻技术等也被考虑用于制造更小节点尺寸的器件,但是目前这些方案仅仅处在研发阶段,而且在现阶段就已经呈现出在大规模生产中的诸多困难.本文从材料的角度对光刻技术进行一个整体描述,并对光刻技术未来趋势进行讨论.

关键词: 光刻技术 , 纳米器件 , 分辨力增强 , 光刻胶材料

方山口石煤提钒焙烧相变机理的研究

林海玲 , 范必威

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2001.04.008

对石煤提钒焙烧过程相变机理的研究是在石煤提钒工业生产中的主要研究课题之一.借助X衍射分析手段,详细研究了方山口石煤无添加剂焙烧和加添加剂氯化钠焙烧过程中,矿样中主要物相随温度升高的变化.得出了方山口石煤钠化焙烧过程中主要物相变化的化学反应方程式.

关键词: 石煤 , 提钒 , 焙烧 , 机理

佳化幅选寻址LCD模块响应时间的测量方法

刘忠安 , 铁斌

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.1999.04.009

对通过佳化幅值选择寻址法驱动的常规矩阵显示和多路寻址字符型LCD显示模块, 提出了一种通过控制模块直流工作电压来测量模块响应时间的测量方法, 并说明了该方法的原理及实测效果.

关键词: 佳化幅值选择寻址法 , LCD模块 , 响应时间

首座"沿边型"钢厂在阿拉山口口岸诞生

楼辉映

金属世界 doi:10.3969/j.issn.1000-6826.2004.01.003

关键词:

一种含0.5%镍的热浸镀锌合金的应用分析

邵建新

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.05.017

为了改善含硅钢材的热浸镀性能,对一种低镍合金--泰镍佳(0.5%锌镍合金)进行了普通热镀锌进程中的金属学研究和实际应用的可行性分析,发现只有锌池中的镍含量稳定在0.04%～0.06%时,才能有效地抑制锌铁间的反应,从而为解决圣德林钢材热镀锌提供了有效的方法.使用泰镍佳合金可在改善镀件表面质量的同时,达到降低镀层厚度、提高镀层的力学性能和防腐蚀性能的目的,为控制锌池成分提供了简易快捷的方法,同时,节约了用锌量、降低了生产成本.

关键词: 含硅钢 , 锌镍合金 , 热浸镀锌

一种TiO2修饰的Pd/Al2O3选择性加氢用催化剂的研究

南军 , 谢海峰 , 柴永明 , 李彦鹏 , 刘晨光

催化学报

研制了一种用TiO2修饰的Pd/Al2O3(Pd/Al2O3-TiO2)选择性加氢催化剂,并采用N2吸附,XRD,SEM,FT-IR,TPD和TPR等手段对催化剂进行了表征,考察了催化剂的催化性能.结果表明,Pd/Al2O3-TiO2催化剂具有较小的比表面积;低的表面酸性,且以弱酸中心为主;TiO2在Al2O3表面呈高度分散,并集中于载体到一定的深度;用含钛溶液浸渍次数以1次为佳.载体中TiO2的添加使得PdO更易于被还原.用这种复合氧化物作载体制备的催化剂表现出更高的加氢活性和选择性,优于单纯以Al2O3作载体的催化剂.

关键词: 钯 , 氧化铝 , 氧化钛 , 复合氧化物 , 负载型催化剂 , 苯乙烯 , 环己烯 , 选择性加氢