李昭宁
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王六定
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王小冬
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席彩萍
,
沈中元
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赵景辉
,
吴宏景
人工晶体学报
本文利用第一性原理研究了化学掺杂(N和B)对Armchair石墨纳米带(AGNR)电子性质的影响.结果发现:N和B原子有不同的最佳掺杂位置,掺杂使AGNR分别成为n型或P型半导体.纳米带宽度不同时,掺杂对AGNR电子结构如能级、能隙、轨道分布等有不同影响.
关键词:
化学掺杂
,
石墨纳米带
,
第一性原理
席彩萍
材料开发与应用
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜.利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱仪对其进行表征,研究刻蚀时间对碳纳米管形貌的影响.结果表明:催化剂刻蚀时间对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,刻蚀时间为10 min时可获得定向性好、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管.
关键词:
碳纳米管
,
刻蚀时间
,
扫描电镜(SEM)
王小冬
,
王六定
,
席彩萍
,
李昭宁
,
赵景辉
人工晶体学报
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,以Ni为催化剂,在Si基底上沉积出定向性良好的碳纳米管.用扫描电镜表征了催化剂颗粒大小和相应的碳纳米管形貌.深入研究了催化剂膜厚对碳纳米管牛长的影响.结果表明:不同度的催化剂薄膜经刻蚀形成的颗粒密度、尺寸、分布等对碳纳米管的合成质量起主要作用.催化剂厚度≤5 nm时,形成的颗粒密度较小而且分布不均,制备的碳纳米管产量低、定向性差.催化剂厚度≥15 nm时,形成的颗粒较大,粘连在一起,生长时大部分被非晶碳包覆,几乎没有碳纳米管的生长.催化剂厚度为10 nm时,形成的颗粒密度大、分布较均,制备的碳纳米管纯度高、定向性好.
关键词:
碳纳米管
,
Ni薄膜
,
催化剂
,
膜厚
席彩萍
,
王六定
,
王小冬
,
李昭宁
人工晶体学报
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,在镀Ni催化剂的Si基底上成功制备出多壁碳纳米管薄膜.采用扫描电镜研究了沉积温度对碳管形貌的影响,进一步通过扩散机制分析了多种形貌CNTs的生长机制.结果表明:沉积温度对催化剂的刻蚀和碳纳米管薄膜的形成起着决定作用,获得定向性良好、分布均匀、密度适中的碳纳米管的最佳温度是700℃.
关键词:
多壁碳纳米管
,
沉积温度
,
PECVD
席彩萍
材料开发与应用
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜.利用扫描电镜和拉曼光谱仪对其进行表征.结果表明:氢气流量对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,获得分布均匀、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管的最佳氢气流量为30 sccm.
关键词:
碳纳米管
,
PECVD
,
氢气流量
席彩萍
材料开发与应用
采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜,利用扫描电镜(SEM)对其进行表征.结果表明:催化剂刻蚀压强对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,获得定向性好、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管的最佳的刻蚀压强为200 Pa.
关键词:
碳纳米管
,
刻蚀压强
,
扫描电镜(SEM)
材料导报
借助扫描电镜(SEM)和能谱分析(EDAX)等分析手段,对彩涂钢板镀锌层的均匀性、基板进行了研究.结果表明,本批彩涂钢板的基板存在镀锌不均以及锌层严重氧化等质量问题,是导致整批彩涂钢板发生表面油漆剥离,并造成部分钢卷加工成型的构件失效的主要原因.
关键词:
彩涂钢板
,
镀锌层
,
失效分析
唐春华
,
唐彬
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2006.09.009
改进了彩膜磷化工艺,将磷化剂的成本降低了50%.给出了改进后的工艺配方,介绍了各成分的作用,分析了酸度、处理方式、干燥时间对磷化膜质量的影响.应用表明,膜层色泽均匀,耐磨性和附着力好.
关键词:
彩膜磷化
,
磷化膜质量
,
色泽
,
耐磨性
,
附着力
