涂峰
,
夏正才
,
张国庆
,
彭刚
,
李衷怡
,
刘洁
,
刘莉
,
熊曹水
,
熊永红
,
袁松柳
稀有金属材料与工程
实验研究了La2/3Ca1/3MnO3系统晶界上掺杂(YSZ)对其输运性能和磁电阻效应(MR)的影响.样品是由溶胶-凝胶法制成的.通过对样品的电输运特性的测量表明,在掺杂量(x)低于2%时,掺杂引起电阻的增大并降低了金属-绝缘体转变温度:当掺杂量高于2%时电阻逐渐减小,且转变温度增加.而低场磁电阻效...
关键词:
钙钛矿结构
,
晶界
,
低场磁电阻效应
张文忠
,
蔡晓兰
,
胡翠
,
周蕾
,
王子阳
,
彭刚
,
郭鲤
,
朱伟
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.01.033
搅拌桨转速在800/1 000 r/min下,对多壁碳纳米管(MWCNTs)进行湿式球磨0.5和1.0h.通过激光粒度仪、XRD、TEM、Raman光谱和TG-DTA,分别对球磨后MWCNTs的结构形貌、断裂机理和缺陷进行分析.结果表明,湿式球磨0.5和1h,可以快速切断MWCNTs得到U字形端口的...
关键词:
多壁碳纳米管
,
湿式球磨
,
断裂机理
,
缺陷
杨应平
,
袁松柳
,
夏正才
,
刘洁
,
彭刚
,
张国宏
,
张力江
稀有金属材料与工程
采用溶胶-凝胶法制备了不同颗粒尺寸的La2/3Ca1/3Mn1-xCuxO3(x=0.04)系列试样.X射线衍射实验说明Cu掺杂和不同温度烧结没有改变晶体的结构.电阻-温度实验曲线表明,随颗粒尺寸的减小,半导体-金属转变温度(Tp)向低温方向移动.磁电阻曲线显示,随颗粒尺寸的减小,与颗粒晶界有关的磁...
关键词:
颗粒磁电阻
,
溶胶-凝胶
,
Cu掺杂
,
La2/3Ca1/3Mn1-xCuxO3
类伟巍
,
沈龙海
,
刘丹
,
李雪飞
,
彭刚
,
崔启良
,
邹广田
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00400
采用直流电弧法使金属钽和氮气直接反应制备出了TaN纳米粉．利用XRD、XPS、TEM等测试方法对所制备的TaN纳米粉进行了表征．结果表明: 所制备的纳米粉为单一的立方相TaN, 纳米颗粒的平均粒度为5~10nm．实验中还发现氮气的气压对制备纯立方相TaN具有关键性作用, 并讨论了立方相TaN的形成机...
关键词:
立方相TaN
,
nanocrystallites
,
dc arc discharge method
周应秋
,
杨航
,
黄晓琨
,
于晓燕
,
何彪
,
何焰蓝
,
彭刚
材料导报
研究了空气掺杂对化学气相沉积(CVD)法制备的双层石墨烯底栅型场效应管电输运性能的影响.分别在大气、真空(＜1 Pa)、氮气以及不同湿度环境中测试了石墨烯场效应管的电学性能,测试结果表明大气中水分子和氧气分子的吸附导致的空穴掺杂作用使石墨烯的电学性能发生了严重退化,随着石墨烯表面吸附水分子和氧气分子...
关键词:
化学气相沉积
,
石墨烯
,
场效应管
,
空气掺杂
,
载流子迁移率
类伟巍
,
沈龙海
,
刘丹
,
李雪飞
,
彭刚
,
崔启良
,
邹广田
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2007.03.004
采用直流电弧法使金属钽和氮气直接反应制备出了TaN纳米粉.利用XRD、XPS、TEM等测试方法对所制备的TaN纳米粉进行了表征.结果表明:所制备的纳米粉为单一的立方相TaN,纳米颗粒的平均粒度为5～10nm.实验中还发现氮气的气压对制备纯立方相TaN具有关键性作用,并讨论了立方相TaN的形成机理.
关键词:
立方相TaN
,
纳米粉
,
直流电弧法
冯艳
,
张华
,
李玉龙
,
彭刚
材料保护
将光纤光栅(FBG)传感器嵌入金属构件中,可以获得智能金属构件.要成功地将FBG传感器嵌入金属基体内部,就必须对FBG进行保护,以免FBG传感器在埋入过程中遭受高温等因素的破坏.研究了在FBG传感器表面进行化学复合镀Ni-P-ZrO2的方法及镀液配方,设计了适合FBG施镀的搅拌方式.结果表明,化学复...
关键词:
化学复合镀Ni-Pi-ZrO2
,
光纤Bragg光栅
,
金属化保护
李佳
,
于军
,
彭刚
,
王耘波
,
高俊雄
,
周文利
功能材料
用sol-gel法成功制备了Bi3.15Nd0.85Ti3O12铁电薄膜,XRD结果表明制备的BNT薄膜具有(117)和(00l)的混合取向,FE-SEM显示薄膜表面光滑致密,颗粒均匀.剩余极化Pr和矫顽场Ec分别为29.5μC/cm2和100kV/cm,经过109次循环后几乎无疲劳.
关键词:
sol-gel
,
Bi3.15Nd0.85Ti3O12
,
铁电薄膜
于军
,
王晓晶
,
雷青松
,
彭刚
,
徐玮
人工晶体学报
采用射频(RF)磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氢化纳米硅薄膜,研究了沉积压力(4～9 Pa)对薄膜结构和性能的影响.利用XRD、SEM、紫外-可见光分光光度计、傅立叶红外吸收光谱仪(FT-IR)及四探针电阻测试仪等对薄膜结构和性能进行了表征.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺...
关键词:
氢化纳米硅
,
磁控溅射
,
沉积压力
,
光学带隙
