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  • 论文(49)

用于Cu互连阻挡层的非晶Ni-Al薄膜研究

霍骥川 , 刘保亭 , 邢金柱 , 周阳 , 李晓红 , 李丽 , 张湘义 , 王凤青 , 王侠 , 英才

功能材料

以非晶Ni-Al薄膜作为Cu互连的阻挡层材料,采用射频磁控溅射法构架了Cu/Ni-Al/Si的异质结.利用原子力显微镜、X射线衍射仪和四探针测试仪研究了不同温度下高真空退火样品的表面形貌、微观结构与输运性质.实验发现非晶Ni-Al薄膜在高达750℃的退火温度仍能保持非晶结构,各膜层之间没有明显的反应...

关键词: Cu互连 , Ni-Al , 扩散阻挡层

沉积温度对磁控溅射生长SrRuO_3薄膜结构和性能的影响

王宽冒 , 张沧生 , 李曼 , 周阳 , 王玉强 , 王侠 , 英才 , 刘保亭

人工晶体学报

采用射频磁控溅射法在(001)SrTiO_3基片上制备了SrRuO_3薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪等分析方法系统研究了沉积温度对SrRuO_3薄膜结构、表面形貌及输运性质的影响.实验结果表明:当生长温度低于550 ℃时,SrRuO_3薄膜为多晶结构;当温度在5...

关键词: SrRuO_3 , 磁控溅射 , 外延薄膜

磁控溅射法制备用作铜互连阻挡层的钛-铝薄膜

邢金柱 , 刘保亭 , 霍骥川 , 周阳 , 李晓红 , 李丽 , 张湘义 , 英才 , 王侠

机械工程材料

采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上首先沉积了厚度40 nm的非晶钛-铝薄膜,然后在其上又原位生长了厚度100 nm的铜薄膜,制备了铜膜/钛-铝膜/硅试样;对试样分别在400~800℃内进行真空退火处理,用原子力显微镜、X射线衍射仪、四探针测试仪对试样的表面形貌、结晶状态及方块电阻进行了分析.结...

关键词: 铜互连 , 阻挡层 , 钛-铝薄膜 , 射频磁控溅射

掺磷nc-Si:H薄膜的微结构与光电特性

刘利 , 马蕾 , 吴一 , 范志东 , 郑树凯 , 刘磊 , 英才

人工晶体学报

采用常规射频等离子体增强化学气相沉积方法,以高氢稀释的SiH4为源气体和以PH3为掺杂剂,制备了磷掺杂的氢化纳米晶硅薄膜.结果表明,薄膜的生长速率随PH3/SiH4流量比(Cp)增加而显著减小.Raman谱的研究证实,随CP增加,薄膜的晶化率经历了先增大后减小的过程,当C,=1.0%,晶化率达到最大...

关键词: 磷掺杂氢化纳米晶硅薄膜 , 晶化率 , 界面体积分数 , 光吸收系数 , 暗电导率

玻璃基Pt/Pb(Zr 0.4 Ti 0.6 )O3/ITO电容器的结构及物理性能研究

周阳 , 程春生 , 赵敬伟 , 郑红芳 , 赵庆勋 , 英才 , 刘保亭

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00242

采用溶胶凝胶方法在玻璃基ITO电极上制备了Pt/ Pb(Zr 0.4 Ti 0.6 )O3(PZT)/ITO电容器.采用X射线衍射仪、铁电测试仪、分光光度计对其微观结构、电学性能及光学性能进行...

关键词: Pt/PZT/ITO , sol-gel method , electric property

蓝宝石衬底上磁控溅射法室温制备外延ZnO薄膜

周阳 , 仇满德 , 付跃举 , 邢金柱 , 霍骥川 , 英才 , 刘保亭

人工晶体学报

在室温条件下,采用磁控溅射方法在蓝宝石(0001)衬底上制备了外延的ZnO薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、可见-紫外分光光度计系统研究了ZnO薄膜微观结构和光学特性.AFM测量结果表明ZnO薄膜具有较为均匀的ZnO晶粒,表面平整,具有较小的均方根粗糙度(0.9 nm);X射...

关键词: ZnO薄膜 , 射频磁控溅射 , 外延生长

La0.5Sr0.5CoO3/Pb(Zr0.4Ti0.6)O3/La0.5Sr0.5CoO3铁电电容器的结构和性能研究

陈江恩 , 刘保亭 , 孙杰 , 郭延岭 , 马蕾 , 娄建忠 , 英才

人工晶体学报

采用磁控溅射法和脉冲激光沉积法,在SrTiO3(001)衬底上制备了La0.5Sr0.5CoO3(70 nm)/Pb(Zr0.4Ti0.6)O3(70 nm)/La0.5Sr0.5CoO3(70 nm) (LSCO/PZT/LSCO)铁电电容器异质结.X射线衍射结果表明:LSCO和PZT薄膜均为外延...

关键词: 铁电电容器 , PZT , 外延薄膜 , 导电机制

玻璃基Pt/Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3/ITO电容器的结构及物理性能研究

周阳 , 程春生 , 赵敬伟 , 郑红芳 , 赵庆勋 , 英才 , 刘保亭

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00242

采用溶胶-凝胶方法在玻璃基ITO电极上制备了Pt/Pb((Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3(PZT)/ITO电容器.采用X射线衍射仪、铁电测试仪、分光光度计对其微观结构、电学性能及光学性能进行了测量.结果表明PZT薄膜结晶良好,具有(101)高度择优取向.铁电电容器具有良好的保持特性和抗疲劳...

关键词: Pt/PZT/ITO , 溶胶-凝胶法 , 电学性能

纳米晶粒多晶Si薄膜的低压化学气相沉积

英才 , 马蕾 , 康建波 , 范志东 , 简红彬

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.029

利用低压化学气相沉积(LPCVD)方法,以充Ar的SiH4作为反应气体源,在覆盖有热生长SiO2层的p-(100)Si衬底上制备了具有均匀分布的纳米晶粒多晶Si膜(nc-poly-Si).采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼谱等检测手段,测量和分析了沉积膜层的表面形貌、晶粒尺寸...

关键词: LPCVD , 纳米晶粒 , 多晶Si膜 , 结晶成核 , 晶粒融合

石英衬底上大晶粒多晶Si薄膜的制备与结构表征

马蕾 , 郭延岭 , 张志刚 , 江子荣 , 娄建忠 , 英才

人工晶体学报

利用高频感应加热化学气相沉积工艺,以H2稀释的SiH4作为反应气体源,在未抛光的粗糙石英衬底上直接沉积制备了具有均匀分布的大晶粒多晶Si膜.采用扫描电子显微镜、X射线衍射和可见-紫外分光光度计等检测手段,测量和分析了沉积膜层的表面形貌、晶粒尺寸、择优取向与光反射等特性.结果表明,多晶Si膜中Si晶粒...

关键词: 高频感应加热化学气相沉积 , 石英衬底 , 多晶Si膜 , 结构特性

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