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在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究

黎午升 , , 崔承镇 , 史大为 , 郭建 , 孙双 , 薛建设

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142904.0544

实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究.用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩膜下2.5 μm等间隔线的光强分布.根据设备参数模拟分析离焦量为15、30 μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后,实际比较测量了相同条件下各自曝光剂量范围和切面坡度角.实验结果表明:相位移掩膜能使镜像投影曝光机分辨力以下间距(线宽)的工艺容限增大1倍,并使相应曝光量下间距(线宽)的分布更集中,从而增加细线化的稳定性.使用相位移掩膜能提高镜像投影曝光机的解像力.

关键词: 相移掩膜 , 等间隔线 , 模拟 , 曝光容限 , 解像力

量子点发光在显示器件中的应用

张锋 , 薛建设 , 喻志农 , 周伟峰 ,

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122702.0163

介绍了量子点材料的发光原理、基本结构,以及量子点LED的特性、制备方法以及其在显示领域的最新进展.量子点LED由于具有发光纯度高、使用寿命长、可由溶液法制备等独特的优点,越来越受到人们 的重视,成为显示领域新的研究热点.

关键词: 量子点 , 发光二极管 , 显示器件 , 色域

白色光阻材料在O GS工艺中的应用

冯京 , 徐传祥 , 张方振 , , 张锋 , 姚琪

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163106.0525

分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况.验证了白色光阻材料在 OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件.首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高温性能以及在不同厚度下白色光阻材料的色度变化.然后对白色光阻材料和触摸屏制作工艺进行工艺整合,提出了采用白色光阻加黑矩阵的双层结构,可以保证白色光阻材料的 OD值,防止后面的金属线被透视出来,其中白色光阻的厚度控制在15μm,黑矩阵的厚度在1.2μm.在后续的 Photo 工艺时,调整工艺参数,加大了 PR 的厚度并加大曝光显影时间,成功解决了这种高段差造成的金属线 Open和 Remain问题,并采用 OGS工艺制作了白色光阻触摸屏样品.

关键词: 白色光阻 , 色度 , 耐化性 , 光密度

非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管关键工艺研究

高锦成 , 李正亮 , 曹占锋 , 姚琪 , 关峰 ,

硅酸盐通报

为优化金属氧化物薄膜晶体管( IGZO-TFT)的特性,采用射频磁控溅射法沉积IGZO薄膜作为半导体活性层,制备出具有刻蚀阻挡层( Etch stop layer ,ESL)结构的IGZO TFT,在2.5 G试验线上研究了IGZO沉积过程中O2浓度、IGZO沉积后N2 O等离子体处理、ESL的制备温度和ESL沉积过程中N2 O/SiH4的比例等关键工艺条件对IGZO TFT的阈值电压( Vth )的影响。实验结果表明:IGZO沉积过程中O2浓度的增加、IGZO沉积后N2 O等离子体处理和ESL制备温度的降低会导致IGZO TFT的Vth正偏移。

关键词: 铟镓锌氧化物薄膜晶体管 , 刻蚀阻挡层 , N2 O等离子体 , 阈值电压

用主量化学组成研究汝瓷和钧瓷的原料来源

邱霞 , 赵维娟 , 李国霞 , 郭敏 , 谢建忠 , 孙洪巍 , 承焕生 , 孙新民 , 赵青云 , 赵文军 , 鲁晓珂

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2006.03.009

将84个清凉寺窑汝瓷和钧台窑钧瓷样品进行质子激发X射线荧光分析,得到每个样品胎和釉的7种主量化学组分.将所有样品的7种主量化学组成数据进行散布分析,以确定汝瓷和钧瓷原料来源是否相同.从散布分析图可以看出,汝瓷釉和钧瓷釉样品的原料产地和配方明显不同,汝瓷胎和钧瓷胎样品的原料产地和成分接近,但有所不同.

关键词: 主量化学组成 , 散布分析 , 质子激发X射线荧光分析

瓷、钧瓷和刘家门窑青瓷的多元统计分析

肖朋飞 , 赵红梅 , 李融武 , 赵文军 , 李国霞 , 赵维娟 , 承焕生

硅酸盐通报

本文采用质子激发X射线荧光分析(PIXE)技术测试了34个汝瓷样品、30个蓝色系列钧瓷样品(不含红釉系列)和17个刘家门窑青瓷样品的主量化学组成含量,根据这些样品的主量化学组成含量数据,应用多元统计分析方法进行分析.结果表明:汝瓷、钧瓷和刘家门窑青瓷的釉样品能够较好的区分开;但是3种瓷胎并不能很好的分开.

关键词: , , 刘家门窑青瓷 , PIXE , 因子分析

中国宋钧瓷釉的实验与研究

张义 , 宁建新 , 王洪伟 , 孙晓岗

硅酸盐通报

宋钧瓷作为中国钧瓷领域中的最高水平,它不仅仅是唐钧瓷釉和早期宋钧瓷釉的扩展和延续,更是一个时代的创造.在给世人留下宝贵财富的同时,也留下一些需待解决的问题.诸如,菟丝纹、蚯蚓走泥纹的产生原因,乳光、分相、窑变的形成机理等等,是本文探讨的主要问题.本文在研究唐钧花釉、宋代天青、天蓝釉的基础上,采用了当地及周边地域原料,并分别采用了现代及传统的制作工艺以及柴烧、煤烧和气烧的烧成方法最终成功烧制出完美的宋钧瓷艺术效果.实验结果表明,利用当地及周边地域原料和不同的制作工艺,采用不同的烧成方式恢复钧瓷釉的艺术效果是切实可行的,通过实验证实了钧瓷釉不同特征的形成原因与工艺过程的相应关系,为钧瓷的进一步研究提供了可借鉴的科学依据,并从不同角度论述了钧瓷菟丝纹、蚯蚓走泥纹的形成原理及其乳光、分相、窑变的形成原因及相关问题.

关键词: , 菟丝纹 , 蚯蚓走泥纹 , 分相 , 乳光

浪油田污水腐蚀影响因素

刘丽玲 , 袁国翠 , 牛耀玉 , 田超

腐蚀与防护

浪油田污水处理系统污水水质、腐蚀挂片等数据分析,结果表明,该污水处理系统腐蚀严重.为了确定腐蚀影响因素,进行了污水流速、温度、pH等因素对腐蚀速率影响的试验研究.初步确定了这些因素对浪油田污水腐蚀影响规律,为日后制定防腐蚀措施可以提供参考.

关键词: 污水 , 腐蚀 , 影响因素

开封济河水系底泥重金属污染与潜在生态风险评价

王洪涛 , 张俊华 , 张天宁 , 姜玉玲 , 丁少峰 , 郭廷忠

环境化学 doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2016.08.2015123101

济河水系开封段底泥为研究对象,沿河采集75个底泥样品,测定了样品中重金属Cd、Cr、Cu、Ni、Pb和Zn的含量,并采用富集系数法分析重金属富集污染程度和潜在生态风险指数法评价重金属的潜在生态风险.结果表明,济河开封段底泥Cd、Cr、Cu、Ni、Pb和Zn平均含量分别为24.51、67.86、290.65、28.46、115.34、1936.95 mg·kg-1,远高于我国潮土背景值.富集系数分析表明,底泥各重金属污染程度由高到低依次为:Cd(146.10) >Zn(19.62)> Cu(9.89) >Pb(3.83) >Cr(0.89) >Ni(0.88),其中Cd、Cu、Zn已显著富集污染,Cr、Ni无明显富集污染.生态风险评价结果表明,底泥各重金属平均潜在生态风险系数的大小顺序依次为:Cd>Cu>Zn>Pb>Ni>Cr,6种重金属综合潜在生态风险指数(RI)平均值为7259.21,属于很强生态风险,RI“很强”等级样点主要分布在黄汴河、化肥河、济河下游及马家河下游河段,镉是最主要的潜在生态风险因子.

关键词: 开封市 , 济河 , 底泥 , 富集 , 潜在生态风险

钛股份的2004年及2010年展望

钛工业进展

回顾了2004年钛股份的生产经营情况,并介绍了近期中国钛行业所面临的问题,简述了钛股份的"十一五"发展战略及相应的策略.

关键词: 钛股份 , 2004年 , 经营 , 展望

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