陆雷
,
方乃照
,
金剑锋
,
戴礼兴
高分子材料科学与工程
采用 LiBr/C2H5OH混合溶剂制备丝素(SF)溶液,与聚乙烯醇(PVA)水溶液进行溶液共混后得到PVA/SF共混膜,采用扫描电镜,差示扫描量热分析,红外光谱,X射线衍射等方法对共混膜进行了形态和结构表征.研究表明,相对于将PVA水溶液与SF水溶液共混得到的共混体系,此方法制备的体系中两组分的相客性得到了一定程度的提高.在SF含量较小的情况下,共混体系中几乎现察不到两相结构的存在.证明在PVA/SF体系中,SF的溶剂选择及SF的含量影响两种组分的相容性.
关键词:
聚乙烯醇
,
丝素
,
共混膜
,
相容性
朱秋毓
,
顾勇
,
丁峰
,
林善锬
色谱
doi:10.3321/j.issn:1000-8713.2004.01.010
建立了一种快速、灵敏的细径柱高效液相色谱测定非离子造影剂欧乃帕克的方法.用高氯酸去除血浆蛋白,流动相采用简单的7%(体积分数)甲醇水溶液体系.方法的线性范围为0.5～500 mg/L,相关系数大于0.999 8.欧乃帕克的最低检测量为154 pg,保留时间为(3.46 ± 0.02) min,总分析时间少于5 min.日内、日间相对标准偏差(RSD)分别小于4.3%和11.4%.方法的平均回收率大于91.51%.
关键词:
高效液相色谱法
,
细径柱
,
非离子造影剂
,
欧乃帕克
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到25GPa, 残余压应力小。
关键词:
TiN薄膜
,
null
,
null
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.016
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji/JTi≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25 GPa,残余压应力小.
关键词:
TiN薄膜
,
物理气相沉积(PVD)
,
择优取向
,
离子照射
雷芸
,
姚建云
,
张科
,
袁继祖
硅酸盐通报
本试验以安徽凤阳石英为原料,利用石英在高温煅烧制备方石英,并对影响石英-方石英转化率的因素:石英的粒度,煅烧温度,保温时间分别进行研究.
关键词:
石英
,
方石英
,
煅烧温度
,
保温时间
,
转化率
阎军
,
田文庆
,
陈林
,
沈晓辉
,
章静
钢铁
为满足钢坯连轧机在生产圆坯和方坯的需要，同时提高椭圆和圆孔型的利用率，提出“椭圆圆菱方”孔型系统生产方坯的方法。通过有限元模拟分析和工业试验相结合研究了圆坯和方坯在菱方孔型中的变形规律，对比了方坯进菱孔和圆坯进菱孔轧制时的变形特点。发现圆进菱轧制时轧件的变形更加均匀，轧件的头尾尺寸超差小，菱孔的磨损更加均匀。为合理利用中间圆孔型轧制方坯工艺规程的制定提供了依据。
关键词:
方坯;圆坯;菱方孔;轧制;有限元
阎军
,
田文庆
,
陈林
,
沈晓辉
,
章静
钢铁
为满足钢坯连轧机在生产圆坯和方坯的需要,同时提高椭圆和圆孔型的利用率,提出"椭圆-圆-菱-方"孔型系统生产方坯的方法.通过有限元模拟分析和工业试验相结合研究了圆坯和方坯在菱方孔型中的变形规律,对比了方坯进菱孔和圆坯进菱孔轧制时的变形特点.发现圆进菱轧制时轧件的变形更加均匀,轧件的头尾尺寸超差小,菱孔的磨损更加均匀.为合理利用中间圆孔型轧制方坯工艺规程的制定提供了依据.
关键词:
方坯
,
圆坯
,
菱方孔
,
轧制
,
有限元
