暴一品
,
李刘合
,
刘峻曦
,
张骁
原子核物理评论
doi:10.11804/NuclPhysRev.32.S1.52
高功率脉冲磁控溅射(High-power impulse magnetron sputtering,HiPIMS)是一种峰值功率极高,靶材原子高度离化的离化物理气相沉积技术。HiPIMS电源高压脉冲输出到磁控靶的脉冲功率密度可达103 kW/cm2;施加在溅射靶上的负电压只有在达到或超过“雪崩式”放电机制的阈值电压时才能获得百安级的靶电流峰值;在瞬时高压脉冲的作用下,靠近靶表面的离化区域等离子体密度可以达到1018~1019 m?3,试验测得Cu等离子体的离化率可达60%~70%;脉宽、频率、波形等脉冲特征对等离子体放电有显著影响,进而影响沉积速率和薄膜性能;相比直流磁控溅射,可以获得更加平滑致密的沉积薄膜,改善膜基结合反应,同时拥有良好的绕镀性;偏压、沉积速率和气压等会对HiPIMS的沉积过程产生影响,进而影响薄膜的显微组织和力学性能。
关键词:
磁控溅射
,
等离子体
,
HiPIMS
周勋秀
,
贾焕玉
,
黄庆
,
焦善庆
原子核物理评论
doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2005.03.005
利用西藏AS γ实验三期阵列的重建数据,对25个BATSE γ暴的TeV能区伴随γ暴进行了符合寻找.在BATSE γ暴方向的90%误差范围内,找出在给定的小天区和时间间隔内出现的显著性较高的TeV事例团,并采用"等天顶角方法"来估计背景.发现少量事例团对背景有明显超出,考虑试验次数后,其超出还不足以认定为γ暴.通过Monte Carlo模拟给出了95%置信水平下流强上限的估计值为7.1×10-9photons/(cm2·s).
关键词:
宇宙射线
,
γ射线暴
,
TeV能区
陈阳
,
熊为民
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2006.02.012
根据酸碱中和的原理,结合实验室采用分液漏斗变速升流式模拟方法处理酸液有较好效果的启发,针对电镀工厂的实际,设计了变速升流式滤池暴气塔法处理电镀酸性废水,此处理方法已在工厂运行了十余年.结果表明该处理方法具有操作简单,管理方便,滤料来源广泛,处理成本低廉及运行效果好的优点.
关键词:
电镀废水
,
暴气塔法
,
酸碱中和
徐金来
,
赵国鹏
,
胡耀红
电镀与涂饰
退镀在铝轮毂电镀不良品中占有很大的一部分.阐述了退镀铝轮觳缺陷的定义、特征、常见部位和控制工序,给出了判定不良品的方法和预防或修补的措施.建议严格控制生产工艺,以降低退镀率.
关键词:
铝轮毂
,
电镀
,
不良品
,
退镀
,
成因
,
分析
高军林
腐蚀与防护
采用挂片失重法研究了乌洛托品在不同浓度和温度下在盐酸清洗剂中对碳钢的缓蚀行为.结果表明:随着缓蚀剂乌洛托品浓度的增大,其浓度为1.5%时,缓蚀效率出现最大值,大于该浓度后,缓蚀效率下降;随着温度升高,乌洛托品的缓蚀作用效果降低.试验结果与工程实践结果相符.
关键词:
乌洛托品
,
缓蚀作用
,
温度
,
浓度
,
失重法