印仁和
,
施文广
,
秦勇
,
曹为民
,
吕康
,
周天健
,
张益
,
于新根
金属学报
采用０．０５ｍｏｌ／Ｌ Ｈ３ＢＯ３＋０．０１ｍｏｌ／Ｌ ＣｏＳＯ４溶液, 在Ｐｔ（１１１）面上获得了电结晶Ｃｏ利用电化学扫描隧道显微镜（ＥＣＳＴＭ）及反射电子显微镜（ＲＥＭ）, 观察了不同过电位时Ｃｏ的成膜过程, 证实了Ｃｏ在Ｐｔ（１１１）面上的电结晶均为三维岛状生长方式.
关键词:
电结晶
,
null
,
null
,
null
,
null
印仁和
,
张磊
,
董晓明
,
姬学彬
,
张新胜
,
曹为民
,
石新红
金属学报
在加入硅烷偶联剂γ-APS的苯胺中性溶液中采用恒电流法在电镀锌钢板上制备聚苯胺膜, 采用SEM观测其表面形貌, 测试不同条件下聚合膜的厚度.交流阻抗和盐雾实验表明, 加入-APS后, 聚苯胺膜层的致密性和防护性明显提高, 接近铬酸盐钝化膜. 通过XPS分析, 得到γ-APS改性聚苯胺膜掺杂度为11%、氧化度为64%; 与改性前聚苯胺膜相比较,掺杂度降低、氧化度增高. 结合红外光谱和XPS分析, 发现聚苯胺膜中存在4种化学环境:C-Si-O-Si, C-Si-OH, C-Si-O-C, C-Si-O-Zn.
关键词:
镀锌钢板
,
γ-APS
,
EIS
,
anticorrosion property
曹为民
,
陈浩
,
石新红
,
朱律均
,
姬学彬
,
张磊
,
印仁和
金属学报
以单晶Si(111)为基底, 采用双槽法电结晶制备了Co/Pd纳米多层膜, 使用电化学石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中Co和Pd膜的质量随沉积时间的变化．通过电位阶跃法探讨了沉积层晶体成核机理, 得到Co和Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程．X射线衍射(XRD)研究表明, Co和Pd的结晶与生长显示择优取向, 出现了111Co-Pd的合金峰. 并用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Pd多层膜的磁性能, 所得磁滞回线表明: 矫顽力随着多层膜磁性层厚度的减小而增大,可达到9.0104 A/m
关键词:
电结晶
,
null
,
null
印仁和
,
张磊
,
董晓明
,
姬学彬
,
张新胜
,
曹为民
,
石新红
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2007.04.014
在加入硅烷偶联剂γ-APS的苯胺中性溶液中采用恒电流法在电镀锌钢板上制备聚苯胺膜,采用SEM观测其表面形貌,测试不同条件下聚合膜的厚度.交流阻抗和盐雾实验表明,加入γ-APS后,聚苯胺膜层的致密性和防护性明显提高,接近铬酸盐钝化膜.通过XPS分析,得到γ-APS改性聚苯胺膜掺杂度为11%、氧化度为64%;与改性前聚苯胺膜相比较,掺杂度降低、氧化度增高.结合红外光谱和XPS分析,发现聚苯胺膜中存在4种化学环境:C-Si-O-Si,C-Si-OH,C-Si-O-C,C-Si-O-Zn.
关键词:
镀锌钢板
,
聚苯胺
,
交流阻抗
,
耐蚀性
,
铬酸盐钝化膜
曹为民
,
陈浩
,
石新红
,
朱律均
,
姬学彬
,
张磊
,
印仁和
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.04.012
以单晶Si(111)为基底,采用双槽法电结晶制备了Co/Pd纳米多层膜,使用电化学石英晶体微天平(EQCM)精确测定沉积过程中Co和Pd膜的质量随沉积时间的变化.通过电位阶跃法探讨了沉积层晶体成核机理,得到Co和Pd电结晶初期均为三维瞬时成核过程. X射线衍射(XRD)研究表明,Co和Pd的结晶与生长显示择优取向,出现了111Co-Pd的合金峰.并用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Pd多层膜的磁性能,所得磁滞回线表明:矫顽力随着多层膜磁性层厚度的减小而增大,可达到9.0×104 A/m.
关键词:
电结晶
,
Co/Pd纳米多层膜
,
X射线衍射
,
电化学石英晶体微天平
,
磁滞回线
徐群杰
,
朱律均
,
齐航
,
曹为民
,
周国定
金属学报
用光电化学方法研究了Cu在不同浓度NaCl的硼酸--硼砂溶液中的腐蚀以及缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对Cu的缓蚀作用. Cu在硼酸--硼砂缓冲溶液中, 表面的Cu2O膜为p型半导体. 当Cu所在的溶液中存在少量NaCl (小于0.5 g/L)时, Cu表面Cu2O膜会受轻微Cl-掺杂但不会改变半导体性质; 当溶液中存在较多NaCl (0.5-15 g/L)时, Cu2O膜会受Cl-较严重的侵蚀, Cl-掺杂使Cu2O膜部分转成n型; 当溶液中存在大量NaCl (大于15 g/L)时, Cu$_{2}$O膜完全被Cl-掺杂而转型成n型. 缓蚀剂PASP的加入能够对Cu起到缓蚀作用：当NaCl浓度为2 g/L时, PASP与溶液中的Cl-在Cu表面竞争吸附, 明显抑制了Cl-对Cu2O膜的掺杂, Cu2O受到了保护仍为p型; 在NaCl浓度为30 g/L时, PASP与Cl-竞争吸附只能削弱Cl-对Cu2O膜的掺杂, Cu2O膜仍受Cl-掺杂而转成n型, 但n型性质变弱. 对Cu2O膜性质的Mott-Schottky测试结果与光电化学结果一致.
关键词:
Cu
,
Photoelectrochemistry
,
Corrosion
,
Inhibitor
,
PASP
方建慧
,
温轶
,
施利毅
,
曹为民
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01351
研究了经高温焙烧结合高速球磨处理后的碳纳米管的结构及形貌, 测定了其相应的比表面积. 对碳纳米管冷压成形制得的电催化电极的表面形貌进行了分析. 分别以活性炭、石墨、碳纳米管作为电催化阳极, 处理模拟染料废水活性艳红X-3B溶液, 实验结果表明: 碳纳米管电极电催化稳定性较好, 经电催化氧化反应20min后, X-3B染料的降解率达到96.55%, 其电催化降解效率明显优于活性炭和石墨电极.
关键词:
碳纳米管
,
electrochemical method
,
organic wastewater
曹为民
,
石新红
,
印仁和
,
朱律均
,
胡滢
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.04.019
在硼酸镀液体系中采用流动槽滴入法电结晶制得Cu/Co纳米多层膜,通过循环伏安法确定Cu、Co电结晶电位,分别为-0.55V和-1.05V(vs.SCE),通过X射线衍射技术(XRD)和X射线荧光光谱法(XRF)对Cu/Co纳米多层膜的结构、成份进行了分析.并用物性测量系统PPMS测试了Cu/Co多层膜的磁性能,结果表明:电结晶制备的Cu/Co多层膜的矫顽力比较小,仅为34 Oe,适合作巨磁阻磁头材料,其磁电阻随磁场强度的增大而减小,且约在3000 Oe时磁电阻趋于饱和,此时的巨磁阻效应GMR值达到了14%.
关键词:
电结晶
,
流动槽滴入法
,
Cu/Co纳米多层膜
,
X射线衍射
,
GMR
胡滢
,
曹为民
,
印仁和
,
俞文清
,
曾绍海
,
王慧娟
功能材料
采用恒电位双电解槽法在硼酸镀液体系中,以单晶Si(111)为基底电沉积制备Co/Cu多层膜,确定了双槽法制备多层膜的工艺条件,为得到优良的多层膜巨磁阻材料,镀液体系中加入了自制的添加剂.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,小角度X射线衍射(LXRD)谱图中出现了2个衍射峰,大角度X射线衍射(MXRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,表明多层膜具有超晶格结构.用物性测量系统(PPMS)测试了Co/Cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能,GMR值达到52.52%.
关键词:
电沉积
,
Co/Cu纳米多层膜
,
X射线衍射
,
巨磁阻效应
