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退火工艺对溶胶凝胶Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜残余应力的影响

杨帆 , 费维栋 , 李伟力 , 高忠民 , 蒋建清

功能材料

使用溶胶凝胶法制备了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 铁电薄膜,分别利用原子力显微镜、X射线衍射及面探扫描技术分析了薄膜的组织结构,并运用掠入射X射线衍射法研究了不同工艺条件下制备的薄膜的残余应力.研究表明溶胶凝胶薄膜在600℃退火30min后完全晶化,组织结构均匀.不同工艺下制备的薄膜均受残余拉应力,随着退火温度及退火时间的延长,薄膜中的残余应力逐渐增大,而随着薄膜厚度的增加,残余应力先增大然后减小.

关键词: 溶胶凝胶法 , X射线衍射 , 残余应力 , 退火

6061Al合金等离子体基离子注氮表面的动态标度行为

李伟力 , 孙跃 , 郑馥 , 费维栋

金属学报

利用原子力显微镜和掠入射X射线散射技术研究了6061Al合金等离子体离子注氮表面的粗糙度和标度行为.研究结果指出,注氮初期,表面粗糙度逐渐下降;当离子注入时间较长时,表面粗糙度随注入时间的延长而逐渐增加;在远离平衡的条件下,材料的形成机制可通过分形理论进行研究.长时间离子注氮表面具有明显的分形特征,利用所得到的静态标度指数、生长指数和动态标度指数讨论了6061 Al合金离子注氮表面的标度行为.

关键词: 6061Al合金 , null

磁控溅射工艺参数对Pb(Zr,Ti)O3薄膜织构的影响

杨帆 , 孙跃 , 李伟力 , 费维栋

功能材料

利用RF磁控溅射法制备了Pb(Zr,Ti)O3(PZT)铁电薄膜,利用X射线衍射(XRD)法研究了薄膜的相组成及溅射工艺参数对薄膜织构的影响.结果表明,在小靶基距时,过高溅射功率不利于获得纯钙钛矿相的PZT铁电薄膜.溅射功率及溅射气压影响PZT薄膜的织构及其织构散漫度,提高溅射气压及溅射功率,(111)织构漫散度随之提高.在靶基距为80mm时,选择150w、0.7Pa的溅射工艺可获得具有最佳(100)织构的PZT薄膜.

关键词: 磁控溅射 , Pb(Zr,Ti)O3薄膜 , 织构

离子注N对6061铝合金表层晶粒取向的影响

王浩洋 , 李伟力 , 马春利 , 费维栋

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2002.04.021

通过掠入射X射线衍射及面探扫描实验研究了经氮离子注入后,6061铝合金表层的晶粒取向.结果表明离子注入对铝合金表层的晶粒取向有较大影响,并且随着注入时间的增加,其晶粒取向也发生变化.同时对离子注入层中晶粒取向的形成进行了探讨.

关键词: 离子注入 , 6061铝合金 , 晶粒取向

偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响

李伟力 , 郑晓航 , 周庚衡 , 薛宗伟

材料科学与工艺

为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏压有利于薄膜中非晶的形成,且随着偏压的增大,薄膜的厚度增加,表面粗糙度降低.Fe-N薄膜的磁性能表明,随着偏压的增加,薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均有不同程度的减小.偏压的增加导致Fe-N薄膜由晶态向非晶态转变,从而引起磁性能的改变.

关键词: Fe-N薄膜 , 偏压 , 膜厚 , 表面粗糙度 , 磁性能

6061Al合金等离子体基离子注氮表面的动态标度行为

李伟力 , 孙跃 , 郑馥 , 费维栋

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.07.015

利用原子力显微镜和掠入射X射线散射技术研究了6061Al合金等离子体离子注氮表面的粗糙度和标度行为.研究结果指出,注氮初期,表面粗糙度逐渐下降;当离子注入时间较长时,表面粗糙度随注入时间的延长而逐渐增加;在远离平衡的条件下,材料的形成机制可通过分形理论进行研究.长时间离子注氮表面具有明显的分形特征,利用所得到的静态标度指数、生长指数和动态标度指数讨论了6061 Al合金离子注氮表面的标度行为.

关键词: 6061Al合金 , 等离子体基离子注入 , 粗糙度 , 动态标度

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