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柠檬酸对Ni-P合金化学镀沉积速度和镀层性能的影响

牛振江 , 郁平 , 王费华 , , 吴廷华

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2003.05.006

研究了柠檬酸浓度对乙酸盐缓冲体系Ni-P合金化学镀沉积速度、镀层含磷量及其耐蚀性与结构的影响,并对镀层在镀态下和经热处理后的耐蚀性与结构进行了比较.结果表明,随柠檬酸浓度的增加,沉积速度先增加后降低,而镀层中磷含量先降低后增加;镀态时高磷合金为非晶态结构且具有较好的耐蚀性,中磷合金则为非晶+微晶结构,耐蚀性较低,而所有镀层经350 ℃热处理1 h后,结构都转变为晶态,且耐蚀性明显提高.

关键词: 化学镀Ni-P合金 , 柠檬酸 , 沉积速度 , 耐蚀性 , 晶态

表面氧浓度对负载型金属催化剂活化甲烷反应性能的影响

吴廷华 , 严前古 , 卢伟 , 牛振江 , 茆福林 , 张奇能 , 朱明乔 , 钟依均 , , 万惠霖

催化学报

利用脉冲-质谱在线分析技术考察了无气相氧条件下负载型金属催化剂上脉冲CH4的反应结果表明,对于Rh/SiO2催化剂,不管是氧化态还是还原态,除第1次脉冲生成较多的CO2外,从第2次脉冲开始,只有CO生成; 对于Ru/SiO2催化剂,无论是氧化态还是还原态,每次脉冲均有一定量的CO2生成. 这可能是由于Rh和Ru两种金属对氧的亲合力不同所致. 甲烷在负载型催化剂表面的活化以及产物的选择性主要受催化剂表面活性氧物种覆盖度的影响.

关键词: 甲烷 , 活化 , 表面氧 , , , 氧化硅 , 负载型催化剂 , 脉冲反应

Rh/SiO2催化剂上甲烷部分氧化制合成气反应

吴廷华 , 严前古 , 少斌 , 钟依均 , 牛振江 , 朱明乔 , , 万惠霖

催化学报

利用程序升温脱附、程序升温还原、程序升温表面反应、程序升温反应和化学捕获反应等手段,对Rh/SiO2催化剂上甲烷部分氧化制合成气反应进行了研究. 结果表明,Rh/SiO2催化剂上甲烷部分氧化制合成气机理属于热解-氧化反应机理. 甲烷首先在催化剂上发生解离吸附,产生具有不同H/C比的化学吸附物种CHx(x=1~3). 其中,具有较高H/C比的CHx可能是甲烷部分氧化反应的活性物种, 而具有较低H/C比的CHx可能是催化剂上积碳并导致催化剂失活的来源. 活性物种CHx在活性氧物种的作用下,生成含氧中间体物种CHxO或继续脱氢. 含氧中间体物种进一步分解,即生成CO和H2; CO2也可由CHx或CHxO物种进一步氧化生成.

关键词: , 氧化硅 , 负载型催化剂 , 甲烷 , 部分氧化 , 合成气

电沉积Ni-Ru合金及其结构和性能研究

岑树琼 , 周颖华 , 钟慧 , 楼莹 , 邵玉田 , 牛振江 ,

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.08.003

在(25±2)℃下,从含有50 g/L RuCl3·nH2O、30.0 g/L乙酸钠、30.0 g/L二水合柠檬酸钠和15.0~50.0 g/L NiSO4·6H2O的溶液(pH 3.0)中,以1O~90 mA/cm2在铜基底上电沉积制备了Ru含量为5%~70%(原子分数)的Ni-Ru合金.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和电化学方法,研究了镀液中NiSO4质量浓度和电流密度对沉积层组成、表面形貌、结构及电催化析氢活性的影响.结果表明,溶液中Ru优先析出并能促进Ni的沉积,镀层中Ru含量随着镀液中Ni2+质量浓度的提高而降低,低电流密度有利于获得Ru含量高的镀层.随着镀液中Ni2+质量浓度的降低或电流密度的提高,镀层表面形貌由较为平整、均匀变为多孔的颗粒状.镀层主要呈现面心立方Ni结构特征,且晶粒尺寸随镀层中Ru含量的增加而变小.Ni-Ru合金电极的析氢活性优于纯Ni,当镀层的Ru原子分数超过15%时,其析氢活性与纯Ru电极接近.

关键词: Ni-Ru合金 , 电沉积 , 表面形貌 , 微观结构 , 极化曲线 , 析氢 , 电催化

柠檬酸盐体系低温化学镀镍的研究

牛振江 , 胡钟霆 , 陈萍 , 陈崇劣 , 孙雅峰 ,

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.09.003

提出一种柠檬酸三铵体系的低温化学镀镍工艺.研究了该镀液的温度、pH及镀液组成对沉积速度的影响.得出适宜的工艺条件为:40 g/L硫酸镍、35 g/L次亚磷酸钠、30 g/L柠檬酸三铵,pH 9~9.5,θ为45 ℃.经扫描电子显微镜观察,镀层表面均匀平整;经X-射线衍射分析,镀层具有晶态结构.该工艺稳定,沉积速度可达4.5 mg/(cm2

关键词: 低温 , 化学镀镍 , 柠檬酸盐 , 沉积速度

氢气泡动态模板电沉积和电势脉冲氧化还原法制备多孔铋膜

陈欣 , 陈述 , 黄炜 ,

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2008.10.061

分别用氢气泡动态模板电沉积法和电势脉冲氧化还原法制备了三维微/纳米多孔铋薄膜和纳米多孔铋膜.利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线粉末衍射(XRD)对其表面形貌和结构组成进行了表征.两种多孔铋膜对4-硝基酚的电还原有较高活性.

关键词: 氢气泡动态模板 , 电势脉冲 , 三维多孔 , 铋膜 , 4-硝基酚

电镀条件对非晶态Pd-Ni-P镀层组成和形貌的影响

楼莹 , 岑树琼 , 周颖华 , 牛振江 ,

材料保护

采用电沉积法制备了Pd-Ni-P合金,采用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱(EDX)、X射线衍射(XRD)等方法对镀层的形貌、成分和结构进行了分析,研究了PdCl2、NiSO4·6H2O主盐浓度、电流密度等电镀条件对其形貌、组成及性能的影响.结果表明,通过控制主盐浓度和电流密度,可以获得不同成分的Pd-Ni-P合金镀层.Pd-Ni-P合金镀层的结构为非晶态结构或微晶结构,在300 ℃下热处理1 h后,非晶态镀层有少量Ni3P相析出,但仍基本保持非晶态.350 ℃下热处理1 h后,镀层发生晶化,主要析出Ni3P、Ni2Pd2P相.在3%NaCl溶液中,Pd-Ni-P合金镀层的耐腐蚀性能优于Ni-P镀层,耐腐蚀性能随Pd含量增加而增强.

关键词: Pd-Ni-P合金 , 电沉积 , 形貌 , 耐蚀性能 , 非晶态

聚乙二醇苯基辛基醚对甲磺酸镀锡层织构的影响

杜小光 , 牛振江 , 应桃开 , 吴廷华 ,

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2004.02.001

通过X-射线衍射分析研究了表面活性剂聚乙二醇苯基辛基醚(OP)对甲磺酸体系锡镀层织构的影响.结果表明锡镀层的织构受溶液中OP的质量浓度和阴极电流密度的综合影响.在高OP质量浓度和低电流密度条件下,镀层以(211)和(321)晶面择优.在低OP质量浓度和高电流密度条件下,镀层以(101)和(112)晶面择优.

关键词: 聚乙二醇苯基辛基醚 , 甲磺酸 , 锡镀层 , 织构

电沉积条件对甲基磺酸锡镀层织构的影响

杜小光 , 牛振江 , , 吴廷华

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2004.05.002

为了在实际应用中控制甲基磺酸电镀锡镀层的织构以提高镀层性能,采用X-射线衍射分析方法研究了镀锡工艺中表面活性剂浓度、电流密度和镀层厚度对镀锡层织构的影响规律.XRD分析结果显示,表面活性剂聚乙二醇辛基苯基醚(OP)浓度高,镀层以(211)和(321)晶面择优;OP浓度低,镀层以(101)和(112)晶面择优.低电流密度有利于镀层以(211)和(312)晶面择优,高电流密度则有利于(101)和(112)晶面择优;镀层较薄时没有明显的晶面择优,(211)晶面的衍射峰强度随着镀层厚度的增加而加大,当镀层厚度超过10 μm,镀层以(211)和(321)晶面的衍射峰为主,且基本不随镀层厚度的增加而变化.由于晶态基底会影响镀锡层的织构和形貌,本甲基磺酸镀锡工艺以多晶紫铜化学镀非晶态镍磷合金为阴极,对非晶态基底上得到的锡镀层进行研究.

关键词: 聚乙二醇辛基苯基醚 , 甲基磺酸镀锡 , 织构 , 电沉积条件

原位XRD研究热处理Ni-P化学镀合金的结构

牛振江 , 沈吉军 , , 吴廷华

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.07.018

通过改变镀液的CNi2+/CH2PO2-比例,在乙酸-柠檬酸体系中,获得组成分别为Ni-7.8 P(质量比)和Ni-11.7 P的镍磷化学镀层.用程序升温原位XRD分析了镀层在40~500 ℃之间的结构变化.镀态时Ni-7.8 P为微晶结构而Ni-11.7 P为非晶结构.在20 ℃/min升温速度下,Ni-7.8 P在200 ℃后发生晶化,直接析出稳定的Ni3P和Ni相.Ni-11.7 P在300 ℃后晶化,先析出介稳的Ni5P2相,375 ℃后转变为平衡的Ni3 P和Ni相.

关键词: 化学镀 , 镍磷合金 , 原位XRD

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