樊浩天
,
宿太超
,
李洪涛
,
朱红玉
,
郑友进
,
刘丙国
,
胡美华
,
李尚升
,
马红安
,
贾晓鹏
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅱ).008
采用高压合成技术,制备出了热电材料AgSbTe2,并且研究了AgSbTe2样品微结构和高温电学输运性质.X 射线衍射测试结果表明,高压合成的AgSbTe2样品中含有微量的Sb2 Te3,电子能谱测试结果表明Ag、Sb、Te 3种元素分布很均匀.电学性能测试表明,在高压的作用下,AgSbTe2样品的载流子浓度增大；随着测试温度的升高,电导率降低,Seebeck系数增大.4 GPa高压合成的AgSbTe2样品在573 K温度下具有最高的功率因子(约18．1μW/(cm?K2)).
关键词:
高压
,
微结构
,
电学性能
,
AgSbTe2
,
功率因子
郅惠博
,
李洪涛
,
王涛
,
吴益文
,
王彪
,
陈杰
,
徐杰
,
李蒙
,
季诚昌
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2014.16.022
为提高热电材料塞贝克系数的测试准确度,主要以康铜合金和钴酸钙为测试对象进行了一系列测试,其中以典型的碲化铋、方钴矿、硒化铅块体热电材料为辅助研究对象,具体研究测温热电偶的塞贝克效应、温差设置、数据处理方式对塞贝克系数测试结果的影响.结果表明:热电偶的塞贝克效应对Seebeck系数测试准确度的影响是显著的;样品两端温差设为10K以上,多组温差间的梯度设为3K以上,直线拟合方式采用不过原点拟合,可以使Seebeck系数测试结果的准确度得到很大提高.
关键词:
热电材料
,
塞贝克系数
,
测试
,
影响因素
杨帅
,
马巧云
,
刘铁驹
,
李养贤
,
李永章
,
牛胜利
,
李洪涛
,
牛萍娟
功能材料
应用FTIR技术研究了不同剂量(1×1017～1.17×1019n/cm2)快中子辐照直拉硅(CZ-Si)的辐照缺陷和间隙氧在不同温度热处理时的行为.发现随辐照剂量的增加未退火的样品的间隙氧含量迅速下降,并且间隙氧的下降明显分为3个阶段.FTIR谱表明快中子辐照后主要的辐照缺陷为VO(829 cm-1)复合体.在低温条件下热处理300℃829cm-1(VO)开始消失并出现了825 cm-1(V2O2)、833cm-1(V3O2)、和840cm-1(V2O)和919cm-1(I2O2)四个红外吸收峰,退火温度升高到500℃后只剩下了825cm-1和919cm-1两个缺陷-杂质复合体的红外吸收峰.高温1100℃0.5h辐照引入的缺陷-杂质复合体很快的被消除.延长退火时间辐照样品和未辐照样品的间隙氧沉淀速度有很大的不同.
关键词:
快中子辐照
,
辐照缺陷
,
VO
,
FTIR
李洪涛
,
朱志秀
,
吴益文
,
吴晓红
,
周辉
,
华沂
,
孙明星
,
宿太超
,
季诚昌
材料导报
介绍了热电材料在温差发电和热电制冷方面的应用；概述了热电材料的研究开发进展,重点介绍了Half-Heusler金属间化合物、方钴矿、低维结构材料以及纳米结构材料等新型热电材料的研究状况；介绍了热电性能测试的相关标准和方法.
关键词:
热电材料
,
品质因子
,
温差发电
,
热电制冷
,
测试标准
徐会君
,
王前
,
李森
,
马腾
,
刘莉
,
李洪涛
,
杜庆洋
人工晶体学报
以固体硅胶为硅源、偏铝酸钠为铝源,通过水热合成法制备小粒径NaA分子筛.实验探究碱度、陈化温度、陈化时间、晶化温度和晶化时间对合成NaA分子筛的影响.采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)分析手段表征合成样品的物相、结晶度、形貌和粒径大小.实验确定以固体硅胶为硅源水热合成小粒径NaA分子筛的碱度为n(H2O)/n(Na2O)=30,20℃陈化20h,100℃晶化4h,合成的NaA分子筛晶型完整、粒度分布均匀、平均粒径约为600nm.
关键词:
主客体材料
,
固体硅胶
,
小粒径
,
NaA分子筛
,
水热合成
贾贵西
,
李言
,
李洪涛
,
蒋百灵
机械工程材料
采用非平衡磁控溅射技术在45钢片和单晶硅片上制备出自润滑碳/铬复合镀层;采用X射线光电子能谱仪检测镀层化学成分,用X射线衍射仪分析镀层相结构,用扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察镀层显微结构,用销一盘式摩擦磨损试验机研究镀层自润滑性能.结果表明:镀层相结构为非晶态,主要由碳和铬两种单质及其化合物组成;铬靶电流影响镀层显微结构,随着电流增加,镀层表面变得粗糙,颗粒间结合越来越紧密,镀层摩擦因数增大;铬靶电流为0.1A和0.3A时镀层有大量石墨相存在,具有良好的自润滑性能和承载能力.
关键词:
磁控溅射
,
碳/铬复合镀层
,
自润滑性能
郭巧琴
,
李建平
,
蒋百灵
,
李洪涛
功能材料
采用非平衡磁控溅射在GW93镁合金表面制备了镀C/Cr复合镀层,分析了不同本底真空度下在GW93镁合金表面进行非平衡磁控溅射镀C/Cr复合镀层的硬度、耐蚀性、膜基结合力,摩擦系数等.结果表明,非平衡磁控溅射镀C/Cr复合膜层,本底真空度在8.8×10-3～1.0×10-1Pa范围内,镀层硬度与本底真空度成反比,当其为8.8×10-3Pa时,镀层硬度最低为1397Hv0.05,镀层使基体自腐蚀电位提高到-0.940V,显著改善镁合金的耐蚀性,结合力最高可达8.11N,镀层的摩擦系数最低达到0.05.本底真空度对C/Cr复合镀层相组成没有显著影响,不同真空度下的C/Cr复合镀层均以非晶为主.
关键词:
C/Cr复合镀层
,
硬度
,
耐蚀性
,
结合力
,
摩擦系数
成艳
,
蔡伟
,
李洪涛
,
郑玉峰
,
赵连城
功能材料
采用多弧离子镀的方法在Ti-50.6%(原子分数)Ni形状记忆合金表面沉积了钽镀层.通过X射线光电子能谱(XPS)剖面分析发现TiNi合金表面钽镀层厚度均匀,并且在镀层与基体之间形成一薄层过渡层.将镀钽TiNi合金曝露于空气中后,通过XPS的全谱和高分辨谱图对其表面的成分和价态分析发现,镀钽层表面由于钽在空气中自然氧化形成了一层很薄的钽的氧化膜,最表面为高价钽的氧化物(Ta2O5),次表面为低价钽氧化物的混合物TaO2、TaO和TaOx(x＜1).
关键词:
TiNi形状记忆合金
,
多弧离子镀
,
钽
,
镀层
梁戈
,
李洪涛
,
蒋百灵
,
吴文文
,
张红军
,
杨平
功能材料
采用不同等离子体清洗工艺对镁基金属样品进行清洗,随后磁控溅射沉积纯Cr镀层.利用SEM、划痕仪分析了不同等离子体清洗工艺下镁基金属的表面形貌与膜／基结合强度的变化.结果表明,过高的清洗偏压作用下,基体表面会产生深径比＞0.5的孔洞状结构缺陷;过长清洗时间后,离子轰击产生的能量积淀效应使基体表面温升显著,局部区域出现熔融、烧结现象,二者均使后续沉积镀层结合强度变低.
关键词:
等离子体清洗
,
镁合金
,
表面形貌
,
结合强度
李洪涛
,
蒋百灵
,
杨波
,
曹政
人工晶体学报
磁控溅射成膜过程中,基于溅射中性原子对基片表面微区的轰击效应Ec11和各种轰击离子对基片微区表面的轰击效应Ec22两个能量因子建立了磁控溅射纯Cr薄膜的结构区域模型,研究发现磁控溅射系统中较高的离子流密度显著影响着薄膜的微观结构,且可在较低的相对温度下促进完全致密薄膜结构的形成.
关键词:
轰击能量
,
微观结构
,
磁控溅射
,
结构区域模型
