舒勇华
,
刘宏立
,
樊菁
,
崔季平
,
谢冲
中国腐蚀与防护学报
doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2005.02.002
利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2)涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2O4对MgF2涂层有严重侵蚀作用,N2O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了20%～30%.在一定的时间内,气态N2O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6.9×104 Pa和200Pa的N2O4蒸气中分别放置10 min,前者厚度为40μm的MgF2涂层基本消失,表面漫反射率下降约20%;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2涂层表面N2O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2O4分子通过化学吸附过程提取MgF2的几率.
关键词:
N2O4
,
漫反射试片
,
MgF2涂层
,
表面污染
白青龙
,
张春花
,
夏道成
,
程传辉
,
范昭奇
,
杜国同
材料导报
介绍了酞菁、亚酞菁和超酞菁的典型结构及其吸收光谱,分别介绍了酞菁和亚酞菁的衍生物、缩合物的结构与最大吸收波长之间的关系以及它们潜在的应用前景,同时分析讨论了几种扩展的酞菁类似物的结构特点和它们吸收性能差的原因.
关键词:
酞菁
,
类酞菁
,
结构
,
紫外光谱
孙成才
,
霍冀川
,
雷永林
,
吴瑞荣
材料导报
主要综述了在近红外吸收功能菁染料的合成过程中所使用的缩合剂及其特点、典型合成反应,并且综合分析了菁染料最大吸收波长、稳定性与其结构的关系,简述了近红外吸收功能菁染料的应用途径,从中归纳出了近红外吸收功能菁染料的发展方向.
关键词:
功能菁染料
,
近红外吸收
,
合成
杨琴
,
杨永利
,
李丹
材料导报
微波合成与传统合成方法相比因具有效率高、节省能源、产品纯度高、安全等优点已被广泛应用.以金属酞菁的存在形式分类,分别从金属酞菁单体、金属酞菁聚合体、改性金属酞菁及金属酞菁复合材料4方面概述了近几年国内外对金属酞菁微波合成的研究进展,并与传统的合成方法进行了对比,展望了微波合成的发展前景.
关键词:
金属酞菁
,
微波合成
,
研究进展
王芳
,
吴锋
,
王敬
,
陈实
,
王国庆
功能材料
研究了酞菁钴(CoPc)作为电化学催化剂,对MH/Ni电池性能的影响.实验结果表明,采用合适的添加方式,酞菁钴能够明显降低电池的内压升高速度,大幅度提高电池的充放电效率以及耐过充能力,抑制合金的氧化腐蚀.添加酞菁钴的MH/Ni电池在容量衰减、内压、大电流放电等方面的性能均有显著提高.
关键词:
MH/Ni电池
,
酞菁钴
,
电化学催化剂
,
内压
门金凤
,
程海峰
,
陈朝辉
,
楚增勇
材料导报
吲哚七甲川菁染料以其特有的结构,已经成为在光谱增感、光盘存储、生物分析、太阳能电池等领域应用广泛的功能染料--.总结了吲哚七甲川菁染料的主要合成方法,概述了近年来吲哚七甲)ll菁染料的应用,并展望了其在夜视兼容照明技术方面的研究应用.
关键词:
吲哚七甲川菁染料
,
近红外吸收
,
合成
,
应用
曾羽燕
,
张旭东
,
曾秀娜
,
董凡
涂料工业
doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2010.04.014
制备了用于配制水性木器色漆的水性酞菁蓝色浆,研究了颜料、润湿分散剂、消泡剂、防冻剂、防霉杀菌剂等原料对色浆及色漆产品性能的影响,确定了有关助剂的种类和用量.研制的水性酞菁蓝色浆固含量35.62%,细度20 μm,VOC含量112 g/L,用其配制的水性木器涂料达到有关标准要求.
关键词:
水性色浆
,
酞菁蓝
,
助剂
,
木器漆
张东玖
,
楚增勇
,
邢欣
,
程海峰
材料导报
方酸可与含供电子基团的物质,如芳胺、酚、含氮杂环化合物等发生缩合反应,生成一系列吸收波长在近红外区的新型方酸菁染料.该类染料具有独特的光学性能,良好的光、热稳定性和近红外吸收性能.影响方酸菁染料近红外吸收性能的主要因素包括方酸菁染料的基本结构(对称型与非对称型)、取代基的种类(端基包括胺、富电芳环、活泼双键以及活泼甲基)及染料在不同溶剂中的聚集行为.
关键词:
方酸菁染料
,
近红外吸收
,
基本构型
,
吸收波长
,
光学性能
赵澎
,
李焰
,
梁强
腐蚀学报（英文）
通过失重实验、电化学测试和扫描电子显微镜研究了无金属酞菁(H2Pc)、酞菁铜(CuPc)和酞菁锌(ZnPc) 在1 mol/L H2SO4中对碳钢的缓蚀作用.结果表明，3种酞菁化合物的缓蚀能力依次为ZnPc > CuPc > H2Pc，其吸附数据均符合Langmuir等温式；它们能同时抑制碳钢在H2SO4中腐蚀的阴极和阳极过程，电化学阻抗谱显示，为变形的单容抗弧，阻抗值随酞菁化合物浓度增加而增加；表面形貌分析也证明了酞菁化合物的加入提高了碳钢的表面完整性，抑制其腐蚀；量子化学计算结果显示，随着分子的最低空轨道(LUMO)的能量升高，酞菁化合物的缓蚀能力降低.
关键词:
酞菁化合物
,
null
,
null
