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渚文化玉器的稀土元素特征及其考古学意义

程军 , 杨学明 , 杨晓勇 , 王昌燧 , 王巨宽

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2000.04.001

本文利用ICP-MS对新石器时代渚文化瑶山遗址出土的古玉器进行了稀土元素分析,并与产于新疆和阗玉石矿的软玉进行了对比.结果表明,瑶山古玉器的稀土元素配分型式、特征比值均明显不同于和阗玉,说明渚文化玉器的玉石应选自当地,这与李约瑟[1]教授认为中国古玉器都源于新疆和阗的论点不同.

关键词: 渚玉器 , ICP-MS , 稀土元素(REE) , 产地分析

沅陵家垭金矿床围岩蚀变特征及地质意义

谢新泉

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2005.04.005

家垭金矿床位于雪峰弧形隆起带转折部位,含金蚀变带赋存于板溪群马底驿组中上部粉砂质板岩中,受层间破碎带控制,官庄-黄土铺逆掩断层、陈家-香草湾逆掩断层呈NE45°~80°走向贯穿矿区中北部,控制了金矿(化)体的产出,已发现了3条矿脉,延伸长,厚度大,品位高,矿石矿物主要是自然金.次有少量辉锑矿、毒砂、黄铁矿等.脉石矿物主要是石英、绢云母、绿泥石等.围岩蚀变发育,类型多样,其中绢云母化、黄铁矿化、硅化是重要的找矿标志.

关键词: 金矿 , 围岩蚀变 , 金矿化 , 含矿岩系

舰载光电全息控系统

李焱

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122703.0378

针对舰载光电设备易受到载体摇摆、武器震动、烟雾,或是受到大气、云雾、海面杂波等环境影响而导致跟踪失败的情况,研制了能为伺服系统提供高精度的二次引导及控制视轴跟踪低空掠海目标的全息控系统.将CA模型、有限记忆的最小二乘滤波和创新提出的“近似-比较”超低空控制技术相结合,提出了一种稳定跟踪低空掠海目标特别是为伺服系统提供跟丢目标角度信息的全息控制策略.介绍了该系统硬件设计与实现.试验证明,该全息控系统在为光电设备提供外部控制信息和对外引导设备提供反馈信息的同时,能够连续6 s提供比雷达引导精度高11.8'的二次引导数据及控制视轴稳定跟踪低空掠海目标的能力,实现了舰载光电设备全自动的无人职守.

关键词: CA模型 , 全息信控系统 , 低空掠海 , 舰载光电 , “近似-比较”

基于DSP的液晶控终端设计与实现

初华 , 刘春光 , 袁东 , 万强 , 黎伟

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20112604.0501

设计了车辆控终端的整体结构,采用动态切图和波形平移的方法,利用DSP编程实现虚拟仪表和虚拟示波器的功能.装车实验结果表明,所设计的控终端运行可靠,具有良好的人机交互性.

关键词: 控终端 , 动态切图 , 波形平移 , 虚拟仪表 , 虚拟示波器

轻质隔热砖气孔率的测定方法

高帅 , 马明锴

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2004.z1.085

介绍了轻质砖气孔率的试验方法,并引入了表观密度的概念,此方法避免了测量试样饱和重的过程,减少了试验过程对试验结果的影响.

关键词: 轻质砖 , 气孔率 , 体积密度 , 表观密度

热除霜方式的理论分析与试验研究

梁彩华 , 张小松

工程热物理学报

针对四通阀换向除霜方式的不足,提出了一种新型的除霜方式-热除霜.深入分析了热除霜的机理和作用过程,并进行了试验研究,试验表明采用热除霜不仅具有良好的除霜效果,还可以较大程度缩短除霜时间,同时避免四通阀换向除霜给制冷系统带来的冲击,消除"奔油"现象.除霜过程中系统供热水温度波动在5℃以内.

关键词: 热除霜 , 试验研究 , 风冷热泵 , 换向除霜

云南斑铜的斑着色工艺研究

王少龙 , 周荣 , 蒋业华

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.02.016

斑铜是云南省特有的民间传统工艺品,对斑铜生产工艺中的有关表面处理的关键步骤作了论述,重点介绍了斑铜斑着色液的配方及其工艺参数,并用金属学原理分析了斑纹的形成机理.

关键词: 斑铜 , , 着色 , 斑纹

VxWorks的连续变焦控系统设计分析

李焱

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0793

利用Origin偏移增益指数函数方法,把传统连续变焦系统测量焦距离散化采样点变成非线性连续化的e指数函数点,并设计开发一套强实时性,可裁剪性VxWorks连续变焦控系统,能方便直观地修改连续变焦参数,解决了上述传统连续变焦离散采样点连续化后精度不高的问题,而且易于用计算机来编程实现.通过试验分析:这种控技术不仅实用可靠,其拟合可信度达到99%以上,真值比最高可达93.6%,精度完全满足使用要求.该项技术成功地应用在某项目中,并对连续变焦光学设备的焦距公式化有很好的通用性和借鉴性.

关键词: Origin , VxWorks , 连续变焦 , 增益偏移指数

磁控溅射成膜温度对纯铝薄膜小丘生长以及薄膜晶体管阵列工艺率的影响

刘晓伟 , 郭会斌 , 李梁梁 , 郭总杰 , 郝昭慧

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142904.0548

纯铝薄膜被广泛用作TFT LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的率有较大影响.本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管的栅极,并通过电学检测、扫描电子显微镜和应力测试等方法对不同温度下沉积的纯铝薄膜的小丘生长情况进行了研究.实验结果表明:纯铝成膜温度提高,薄膜的晶粒尺寸增大,退火后产生小丘的密度和尺寸明显降低,温度应力曲线中屈服点温度也相应提高.量产中适当提高成膜温度,可以有效抑制小丘的发生,提高TFT阵列工艺的量产率.

关键词: 薄膜晶体管阵列工艺 , 磁控溅射 , 纯铝薄膜 , 小丘 , 量产

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