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亚45 nm技术节点平面式硅基CMOS电路制作的材料选择

陈长春 , 刘江锋 , 余本海 , 涂有 , 戴启润

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2007.01.024

随着45 nm技术的临近,减小单个晶体管尺寸以提高晶体管集成度的方法逐渐达到物理极限.传统掺杂多晶硅/二氧化硅栅结构因硼杂质扩散穿透、多晶硅耗尽和电子隧穿等效应使深亚微米器件的性能退化.此外,沟道载流子迁移率退化也阻碍Si基MOS性能的提升.因此,需采用高k介质、金属栅和应变硅等新材料、新技术以改善Si基MOS管性能.本文在介绍这3种新材料优势的同时,分析了适合未来平面式硅基CMOS技术中的高介电常数材料和金属栅材料的种类,指出了未来电路中新材料的进一步发展方向.

关键词: 高介电常数材料 , 应变硅 , 金属栅极

聚碳酸酯用无底涂有机硅耐磨增硬涂料的制备

刘仲阳 , 陈子辉

涂料工业

以己二酸、1,4-丁二醇、2-甲基-1,3-丙二醇和邻苯二甲酸酐为原料,合成了一系列聚酯二元醇.以其作为附着力促进剂,可以提高机硅耐磨增硬涂层在聚碳酸酯表面的附着力.研究了聚酯的结构、相对分子质量、添加量以及甲基硅树脂固化剂的种类对涂膜性能的影响.结果表明:以数均相对分子质量为1 170的聚己二酸-1,4-丁二醇酯为附着力促进剂、乙酰丙酮铝为固化剂制备的聚碳酸酯用无底涂有机硅耐磨增硬涂料综合性能最为优异,涂膜固化后硬度为H,附着力为0级,耐乙醇性和耐水煮性能较佳,耐磨性和透光性较未涂覆的基材都了明显提高.

关键词: 聚碳酸酯 , 无底涂 , 耐磨增硬 , 聚酯 , 附着力促进剂

子的稀衰变及CP不守恒

王庆武 , 李希国

原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2006.03.001

简述了近些年来子稀衰变的理论和实验研究进展及其待解决的问题.简单地讨论了兰州CSR上进行子稀衰变实验的可能性.

关键词: , 衰变 , CP破坏 , 弱相互作用

浅谈机颜料的制法

关晓凤 , 孟朝晖

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2002.06.010

机颜料粒子的粒度及其粒度分布对其应用性能的影响很大.为了扩大机颜料的应用范围,必须使机颜料细化.介绍了机颜料的几种制法,并比较其优缺点.

关键词: 机颜料 , 细化 , 制法

粘附性具可控响应性的智能疏水表面研究进展

李杰 , 刘玉德 , 高东明 , 黄雅婷 , 张会臣

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅰ).001

特殊粘附性的疏水表面因其广阔的应用前景而引起人们的极大关注。讨论了表面形貌和表面化学组成对疏水表面粘附性的影响及疏水表面粘附性的评价标准,综述了近年来粘附性具可控响应性的疏水表面的研究进展,并对疏水表面粘附性的研究进行了总结和展望。

关键词: 疏水 , 粘附性 , 表面形貌 , 化学组成 , 响应性

聚碳酸酯用高性能无底涂有机硅耐磨加硬涂料的制备

陈子辉

涂料工业

以端羟基聚酯、端羧基聚酯混合物为附着力促进剂,以γ-氯丙基三甲氧基硅氧烷(CTMS)改性聚硅氧烷为原料制备了聚碳酸酯(PC)用高性能无底涂耐磨加硬涂料.利用正交实验确定了影响涂层性能,尤其是影响涂层耐湿热性能的关键因素.结果表明:端羧基聚酯的平均相对分子质量是影响涂层性能的首要因素,其次是硅树脂合成中CTMS的用量.通过配方的再优化,确定了耐磨加硬涂料的组成.由该配方制得的PC用加硬涂层硬度为2H,耐磨擦性能极佳,透明度好,可见光区透光率高达90%,附着力0级;耐湿热性能极佳,在80℃去离子水中放置10 h后,涂层的附着力依然保持很好.最后,对附着力促进机理进行了探讨.

关键词: 聚碳酸酯 , 无底涂 , 耐磨加硬涂层 , 聚酯 , 附着力促进剂

细金属粒子表面机包覆改性

陈子路 , 叶红齐 , 刘辉 , 何显达

材料导报

综述了细粒子机包覆的形成机理,对近年来研究较多的金属铝、银、金、铜、锌细粒子机包覆工艺进行了总结,并提出了细金属粒子机包覆改性中存在的一些问题和解决新途径.

关键词: , 金属粒子 , 机物 , 包覆

新型分散机蒙脱土的制备和表征

彭少贤 , 赵西坡 , 张燕 , 应继儒 , 李学锋

硅酸盐通报

采用十六烷基三甲基溴化铵为插层剂,通过先机械搅拌后超声振荡的复合工艺对钠基蒙脱土进行了机改性,制备了分散蒙脱土并对其进行了表征.FTIR表明机插层剂进入蒙脱土层间;XRD结果表明分散蒙脱土层间距由改性前的1.01 nm增加到3.13 nm;SEM和TEM表明蒙脱土已被剥离成单个片层.粒径分析表明分散蒙脱土很好的亲油性和分散性;沉降对比实验说明分散蒙脱土分散性好,可长时间悬浮在熔融己内酰胺中.

关键词: PA6 , 蒙脱土 , 机改性 , 分散 , 剥离

疏水机硅涂层的制备与性质研究?

李恒 , 卢珣 , 吴叔青

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅱ).021

利用机硅对单分散性 Si O 2纳米球疏水改性,通过浸涂提拉法和加热固化交联制得疏水涂层。研究了单分散性纳米 Si O 2溶胶球尺寸大小和机硅含量对接触角的影响。探讨了涂层在高温与酸碱盐条件下疏水性能的变化。结果表明,当溶胶 Si O 2纳米球粒径增加到130 nm,无需继续添加气相SiO2纳米粒子含量就能达到微纳米结构,从而实现疏水性。随着机硅含量增加,其接触角会先增加到极大值(151°)而后会下降。此外涂层可耐450℃的高温,在不同的pH 值溶液和盐溶液中可保持其疏水性能。扫描电镜照片表明涂层具微纳米二维尺度粗糙结构。

关键词: 机硅 , 疏水 , 热稳定性 , 耐酸碱

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