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用可变长度热源模拟奥氏体不锈钢多层焊对接接头的焊接残余应力

邓德安 , 清岛祥一

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2009.00521

采用可变长度热源模型对奥氏体不锈钢平板多层焊对接接头的残余应力进行了数值模拟,同时也用实验方法测量了平板对接接头上下表面的残余应力.通过比较由热弹塑性有限元计算得到的残余应力与由电阻应变片法测量得到的实验结果得知,采用该模型对多层焊对接接头残余应力的数值模拟,不仅可以大大缩短计算时间,也可以得到较高...

关键词: 焊接残余应力 , 数值模拟 , 奥氏体不锈钢 , 可变长度热源

Ta原子在TaN(001)表面上绕岛迁移的第一原理计算

刘学杰 , 叶勇 , 赵艳飞 , 马琴芳

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.02.019

纳米薄膜的各方面性能和薄膜自身的微观结构是密切相关的,研究原子的迁移行为可以充分了解纳米材料的形成机理以及基本结构.笔者运用第一性原理VASP软件包对粒子的迁移行为进行模拟计算,内容包括模型的建立、原子吸附能的计算以及NEB方法计算迁移激...

关键词: 原子扩散 , 第一原理 , VASP软件 , NEB

预处理对一清复方水提液陶瓷膜微滤工艺的影响

乐康 , 付廷明 , 潘永兰 , 郭立玮

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2010.04.011

探讨减压抽滤、离心、絮凝等预处理方法对一清复方水提液的溶液环境以及微滤过程中膜通量、过滤阻力分布影响.研究发现,不同预处理方式都能改善膜过滤工艺,离心(5 000 /min)在改善料液环境和膜通量方面优于其他预处理方式.

关键词: 预处理 , 料液环境 , 膜通量 , 阻力分布

采用第一性原理方法研究Nb-Si-N表面单原子绕岛吸附与迁移

任元 , 刘学杰 , 李智

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.01.028

针对Nb-Si-N纳米复合薄膜在沉积过程中Nb、Si、N单原子与NbN晶粒相遇之后聚集与分离情况进行了研究.采用基于密度泛函理论(DFT)第一性原理超软赝势平面波计算方法分别计算了Nb、Si、N各单原子在NbN(001)表面绕2N2Nb<...

关键词: Nb-Si-N , 绕岛迁移 , 第一性原理计算

清防蜡技术的研究及应用

杨红静 , 杨树章 , 马廷丽 , 高立国

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.03.020

介绍了国内外清防蜡工艺的研究进展,总结了结蜡机理及结蜡影响因素,并对比分析了已被各油田广泛使用的四种防蜡技术(机械清蜡、表面能防蜡、化学

关键词: 结蜡机理 , 结蜡影响因素 , 清防蜡技术 , 机械清蜡 , 表面能防蜡 , 化学清防蜡 , 微生物清防蜡

氮粒子对Ti-Si-N岛构型演变影响的第一性原理计算

刘学杰 , 魏怀 , 陆峰 , 吴帅 , 任元 , 银永杰 , 张素慧

复合材料学报

为了研究Ti Si-N薄膜生长过程中界面的形成,采用第一性原理计算了在TiN(001)表面上3N-2Ti-1Si、4N-1Ti-1Si和4N-2Ti-1Si岛的各构型的总能量和...

关键词: 界面形成条件 , 相分离 , 构型演变 , 激活能 , 第一性原理

大豆乳清的预处理

刘国庆 , 罗敏 , 龙国萍 , 朱翠萍 , 卿德林 , 王占生

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2003.05.010

针对"膜法回收大豆乳清中的生物活性物质"工艺中的预处理部分进行研究.发现絮凝离心处理分别可以去除乳清中65%左右的脂肪和90%左右的悬浮固体.袋式过滤和精密微孔管等精密过滤手段...

关键词: 大豆乳清 , 预处理 , 微滤

高级胶清橡胶的性能

张哲 , 廖双泉 , 郭明万 , 廖小雪 , 王丽芝

材料科学与工程学报

将胶清通过中空纤维柱浓缩后,分别用碱性蛋白酶和木瓜蛋白酶进行脱蛋白处理,以得到非橡胶组分少的高级胶清橡胶,并研究其各项性能.结果表明,浓缩胶

关键词: 胶清橡胶 , 脱蛋白 , 性能

红沿河核电一期常规岛偏碱性除盐水贮箱内防腐材料的选择及应用

董宜玲 , 张春艳 , 王冬 , 刘军

电镀与涂饰

CPR1000机组常规岛用偏碱性除盐水贮箱(SER)通常采用碳钢内涂进口乌龟油的方法防腐，但是乌龟油的施工对环境温度有一定限制，要求底漆8~30°C、面漆10~30°C，而红沿...

关键词: 核电站 , 偏碱性除盐水贮箱 , 聚脲 , 乌龟油 , 防腐

氯化铯纳米岛生长技术

罗亮 , 伊福廷 , 张菊芳

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.01.042

氯化铯纳米岛光刻技术是一种分子自组装光刻技术,该技术利用氯化铯在一定湿度下的自组装特性来形成具有

关键词: 纳米岛 , 自组装技术 , NEMS , 纳米加工技术

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