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薄液层下金属腐蚀行为研究方法的进展

李亚坤 , , 胡凡 , , 张伟

腐蚀学报(英文)

综述了近几十年来薄液层下金属腐蚀行为研究方法的进展,重点介绍了薄液层下金属腐蚀的电化学研究方法,尤其是大气腐蚀监测仪、微电极技术和Kelvin 探针参比电极技术在该领域的应用和主要优缺点.同时简要介绍了薄液层下金属腐蚀行为研究的关键实验技术,并展望了薄液层下金属腐蚀研究方法的发展趋势.

关键词: 薄液层 , null , null

薄液层下金属腐蚀行为研究方法的进展

李亚坤 , , 胡凡 , , 张伟

腐蚀学报(英文) doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2007.06.008

综述了近几十年来薄液层下金属腐蚀行为研究方法的进展,重点介绍了薄液层下金属腐蚀的电化学研究方法,尤其是大气腐蚀监测仪、微电极技术和Kelvin探针参比电极技术在该领域的应用和主要优缺点.同时简要介绍了薄液层下金属腐蚀行为研究的关键实验技术,并展望了薄液层下金属腐蚀研究方法的发展趋势.

关键词: 薄液层 , 大气腐蚀 , 电化学 , 研究方法

冷轧钢板锈蚀行为及表面氧化物影响的研究

, 胡凡 ,

腐蚀学报(英文)

采用线性极化、电化学交流阻抗等方法研究了冷轧钢板的耐蚀性能,同时使用线性扫描伏安法获得了冷轧钢板表面氧化物的种类及还原电位,分析了其与冷轧钢板耐蚀性能之间的关系.结果表明:采用线性极化和电化学阻抗法对冷轧钢板耐蚀性评价与大气挂片实验结果吻合;冷轧钢板表面的耐蚀性能与其表面的颗粒氧化物还原电位相关,还原电位越负,耐蚀性能越差.同时还探讨了冷轧钢板的锈蚀机理.

关键词: 冷轧钢板 , null , null

冷轧钢板锈蚀行为及表面氧化物影响的研究

, 胡凡 ,

腐蚀学报(英文) doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2008.02.004

采用线性极化、电化学交流阻抗等方法研究了冷轧钢板的耐蚀性能,同时使用线性扫描伏安法获得了冷轧钢板表面氧化物的种类及还原电位,分析了其与冷轧钢板耐蚀性能之间的关系.结果表明:采用线性极化和电化学阻抗法对冷轧钢板耐蚀性评价与大气挂片实验结果吻合;冷轧钢板表面的耐蚀性能与其表面的颗粒氧化物还原电位相关,还原电位越负,耐蚀性能越差.同时还探讨了冷轧钢板的锈蚀机理.

关键词: 冷轧钢板 , 锈蚀 , 氧化物

水披覆转工艺

绪建

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.04.007

介绍了水披覆转工艺流程.指出了前处理、喷底漆、烘干、转、补膜和喷面漆等各工艺注意事项.对影响转膜质量的各种因素包括活化剂、界面剂、转温度等进行了讨论.

关键词: 水披覆转 , , 工艺流程 , 活化剂

合理选用烫工艺参数

许小锋 , 刘继光

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.02.019

论述了电化铝烫印加工过程中电化铝箔的选择,烫印版的制作与安装,烫工艺参数的确定与烫质量的关系.

关键词: 电化铝烫 , 烫印版 , 印刷品 , 电化铝箔

藏北商金矿床控矿因素及其找矿标志

肖万峰 , 李光明 , 黄瀚霄 , 马东 , 张智林 , 曲扎

黄金 doi:10.11792/hj20131005

班公湖-怒江成矿带跨班公湖-怒江缝合带两侧,是近年来发现的一条重要的多金属成矿带。商金矿床位于班公湖-怒江缝合带中段,主要矿体呈透镜状或脉状产于中-下侏罗统木嘎岗日群浅变质海相复理石建造中,受近东西向断裂构造控制。矿石类型以石英脉型为主,其次为蚀变岩型,近矿围岩蚀变较弱,蚀变类型包括硅化、绢云母化、绿泥石化、碳酸盐化等。矿石中金属矿物主要为自然金、黄铁矿及方铅矿;脉石矿物以石英、方解石以及黏土矿物为主。初步研究表明,该矿床主要受地层及构造因素控制,成因类型为造山型金矿床。在此基础上,初步总结了矿区的主要找矿标志,包括岩性及构造标志、蚀变标志、硫化物标志、化探异常及古采矿遗迹标志等,并认为区域上存在找到商式金矿床的可能。

关键词: 金矿床 , 地质特征 , 控矿因素 , 矿床成因 , 找矿标志 , 藏北

带钢板形质量对表面横折的影响

高荣庆 , 吴庚亮

上海金属 doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2010.06.014

针对冷轧平整横折缺陷进行了分析,重点阐述了轧制板形质量和轧制外形对退火粘结和横折的影响,提出轧制板形质量的控制要求,有效地控制了横折缺陷.

关键词: 带钢 , 轧制板形 , 表面 , 横折

钇改性PZT薄膜的极化刻研究

仇萍荪 , 罗维根 , 丁爱丽

无机材料学报

铁电PZT薄膜的极化刻(imprinting)是PZT不挥发存储器失效的重要原因之一.本文研究了不同钇量改性的PZT(40/60)铁电薄膜在高温(120℃)和偏置电压下的极化刻特性,发现适量的钇掺杂,改善了PZT薄膜电容器单元的极化刻.

关键词: 铁电薄膜 , Y-dopped PZT(40/60) thin films , imprinting

钇改性PZT薄膜的极化刻研究

仇萍荪 , 罗维根 , 丁爱丽

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2001.05.024

铁电PZT薄膜的极化刻(imprinting)是PZT不挥发存储器失效的重要原因之一.本文研究了不同钇量改性的PZT(40/60)铁电薄膜在高温(120℃)和偏置电压下的极化刻特性,发现适量的钇掺杂,改善了PZT薄膜电容器单元的极化刻.

关键词: 铁电薄膜 , Y-PZT薄膜 , 刻(imprinting)

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