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磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为

, 刘清和 , 晓红 , 郎定木 , 李科学 , 唐凯 , 刘卫华

稀有金属材料与工程

利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究.实验结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,铌镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能;镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀,并由孔蚀向电偶腐蚀转变.

关键词: 贫铀 , 铌镀层 , 磁控溅射离子镀 , 电化学腐蚀

Be/CuCrZr热等静压扩散连接界面特性

锡胜 , 张鹏程 , 鲜晓斌 , 谌继明 , 申亮 , , 黄火根

稀有金属材料与工程

采用热等静压(HIP)技术对Be与CuCrZr合金进行扩散连接,比较了不同HIP工艺下制备的Be/CuCrZr接头性能,观察了接头区域的微观组织.结果表明:在580℃,140 MPa下Be与CuCrZr直接扩散连接以及采用Ti(Be上PVD镀层)/Cu(CuCrZr上PVD镀层)作过渡层的间接扩散连接均达到了较好的连接效果.材料组合及连接工艺参数等对Be与CuCrZr合金的扩散连接存在着明显的影响.表面采用Ti镀层的间接扩散连接在580℃时可有效阻止Be与Cu形成脆性相.经过580℃.2 h HIP处理后,CuCrZr硬度可恢复至初始状态的77%.

关键词: , CuCrZr , 热等静压扩散连接

贫铀表面钛镀层的抗腐蚀性能研究

, 刘清和 , 陈林 , 帅茂兵 , 晓红 , 郎定木 , 刘卫华

稀有金属材料与工程

利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对贫铀表面钛镀层的抗腐蚀性能进行了研究.结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,钛镀层的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,钛镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;贫铀表面完整钛镀层的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,完整钛镀层对贫铀具有良好的抗腐蚀保护作用;贫铀表面钛镀层的腐蚀特征为局部腐蚀,由孔蚀向电偶腐蚀转变;破坏的钛镀层将加速铀基体的腐蚀.

关键词: 贫铀 , 钛镀层 , 电化学腐蚀

铀在三种溶液中的动电位极化和电化学阻抗谱研究

周萍 , 汪小琳 , , 杨江荣 , 晓红

中国腐蚀与防护学报 doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2008.04.006

用动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)研究铀在0.5 mol/L H2O4溶液、1 mol/L NaOH溶液和1 mol/L Na2SO4溶液中的腐蚀电化学行为.结果显示,铀在H2SO4溶液和Na2SO4溶液中的动电位极化曲线有类似的极化趋势,而在NaOH溶液中则有明显的钝化现象.EIS谱均有明显的容抗弧特征.利用软件对电化学阻抗谱进行拟合,得到了3种溶液中铀的电化学阻抗谱等效电路,拟合的阻抗谱与实验测得的阻抗谱拟合得比较好,拟合方差在10<'-3>数量级.

关键词: , 腐蚀 , 动电位极化 , 电化学阻抗谱 , 等效电路

热等静压对铀基钛镀层的影响

张羽廷 , 张鹏程 , 谢东华 , , 刘婷婷

稀有金属材料与工程

采用扫描电镜(SEM),能谱仪(EDS),X-射线衍射仪(XRD)等方法,研究了U上磁控溅射Ti镀层在600 ℃,0.5 h,150 MPa条件下热等静压(HIP)处理对其表面界面特性及界面扩散的影响.结果表明:经HIP处理后,镀层致密性提高,膜基结合强度也提高,U、Ti在界面的扩散受到压力的抑制.

关键词: 热等静压(HIP) , 铀/钛 , 界面扩散

脉冲参数对氨基磺酸盐镀镍择优取向的影响

, 张鹏程 , 周晋林 , 晓红 , 张延志 , 嘉勇

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.11.007

采用脉冲电镀在氨基磺酸盐镀液中以相同的平均电流密度不同脉冲导通/间歇时间制备镍镀层,用X射线衍射仪(XRD)研究了镀层结构及脉冲参数对镀层择优取向的影响.结果表明,所有镍镀层皆为面心立方结构,在(200)面有明显择优取向;脉冲间歇时间(toff)为9 ms时,(200)面的相对取向密度(J200)随脉冲导通时间(ton)的增加而减小;ton为0.1 ms时,J200随toff的增加而增大;当脉冲峰值电流密度(ip)大于19 A/dm2时,J200随ip的增大而增大;(200) 面择优取向密度受过电位、镍离子的还原速度和氢氧化镍在阴极表面吸附的共同作用.

关键词: , 脉冲电镀 , 择优取向 , 氨基磺酸镍镀液 , X射线衍射

Si和UO2芯块表面ZrB2薄膜的制备和表征

刘朋闯 , 刘婷婷 , 庞晓轩 , , 张鹏程 , 王志刚

稀有金属

ZrB2薄膜作为可燃中子毒物在反应堆上得以应用.本研究采用磁控溅射的方法在Si(111)和UO2芯块表面制备了ZrB2薄膜.利用扫描电镜(SEM)对薄膜的表面与截面形貌进行了观察,利用X射线衍射(XRD)仪、X射线能谱(EDS)、X射线光电子谱(XPS)对薄膜的物相及成分进行了表征,采用热循环以及划痕法对膜层与基体的结合性能进行考核.结果表明,所制备的薄膜为ZrB2薄膜且膜层较为纯净,基本只含有Zr和B2种元素;ZrB2膜层和UO2基体结合性能良好,膜层生长致密均匀:膜层破坏的临界载荷约为455 mN.

关键词: 二硼化锆 , 磁控溅射 , 薄膜

高频脉冲电沉积改善Ni镀层的组织和性能

王子涵 , 杨滨 , 蒋春丽 , , 张鹏程 , 范爱萍

中国有色金属学报

采用高频脉冲电沉积制备纳米Ni镀层,研究高频脉冲频率对纳米Ni镀层组织、腐蚀性能和摩擦性能的影响;室温下,在含50 μg/g Cl-的氯化钾溶液中通过测试Ni镀层的极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)研究其腐蚀性能.结果表明:在实验脉冲频率范围内(30~100kHz),提高脉冲频率,可使Ni镀层晶粒细化;电极过程的转移电阻从30 kHz时沉积Ni镀层的1.97× 10<'4>Ω·cm<'2>增大到100kHz时的6.56×10<'4> Ω·cm<'2>,自腐蚀电位从一551.41 mV正移到-420.28 mV,这表明高频沉积的Ni镀层晶粒更细小,致密性更高,因而耐蚀性更强.摩擦试验结果表明:摩擦因数由30 kHz时沉积Ni镀层的0.39降低到100 kHz时的0.25,说明高频沉积的Ni镀层具有更强的耐磨性;镀层晶粒细化、较高的致密性和硬度是耐磨性提高的主要原因.

关键词: Ni镀层 , 脉冲电沉积 , 耐蚀性 , 摩擦因数

软接触电磁连铸技术的研究进展

宏明 , , 徐明喜 , 雷作胜

连铸 doi:10.3969/j.issn.1005-4006.2006.01.012

介绍了软接触电磁连铸技术及其原理,该技术可有效提高铸坯的表面质量,着重分析了实现钢的软接触电磁连铸在结晶器结构、材质以及电磁场参数等方面需要解决的问题,并介绍了该技术的最新研究成果:高频调幅磁场及无结晶器振动的电磁连铸技术.

关键词:

铀的腐蚀与防腐蚀技术研究

张友寿 , 谢志强 , , 殷雪峰 , 秦祖军

材料导报

铀是一种非常重要的战略核能源材料,核能技术的和平利用扩大了铀材料的应用领域.纯铀又是化学活性极强的材料,裸露的纯铀在大气中放置很短的时间就会在其表面产生氧化和腐蚀,这对材料的使用和存储带来危害.因此,对铀材必须实行表层保护或整体合金化才能增强其抗腐蚀效果,从而达到预防铀的老化和延长其存储期的目的.从铀材料的应用对抗腐蚀性能要求出发,重点论述了铀的腐蚀行为、不同温度和湿度下铀的氧化反应规律以及对其研究的历史和现状等.综合评述了铀的防腐涂层方法的研究(铀的整体合金化、表面涂层技术、利用化学反应制备保护层、离子注入保护和激光表面改性等5个方面).

关键词: , 腐蚀行为 , 防腐蚀技术研究

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