淳道勇
,
汪瑞军
,
由晓明
,
何箐
,
邹晗
,
吕玉芬
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.09.019
目的 通过关注纳米8YSZ粉末在不同温度下烧结过程中的晶粒长大行为及相结构组成变化,获得纳米8YSZ粉末的高温稳定性,防止高温烧结导致纳米8YSZ涂层性能明显衰减,致使涂层在正常服役过程中过早失效.方法 采用共沉淀工艺合成低杂质含量的8YSZ纳米粉末,经过低温煅烧预处理后,在900～1200℃温度区间进行3～12h的烧结.通过X射线衍射仪和扫描电子显微镜对纳米颗粒进行物相结构和形貌分析,根据Scherrer公式计算热处理后的颗粒平均晶粒尺寸,采用Arrhenius公式得到晶粒生长活化能,进而确定晶粒的生长机制.结果 经过低温煅烧预处理后,粉末绝大多数仍然保持非晶态结构,经过高温热处理后,粉末均完成了晶态转化,相结构基本为单一四方相.温度为900～1100℃时,晶粒生长的活化能为42.638 kJ/mol;温度为1100～1200℃时,晶粒生长的活化能为3.849 kJ/mol.结论 高温热处理后,纳米8YSZ粉末物相结构为单一四方相,可以保持高温稳定性,防止涂层性能明显衰减.温度为900～1200℃时,晶粒生长机制以表面扩散为主的聚合生长.
关键词:
纳米8YSZ粉末
,
高温热处理
,
晶粒尺寸
,
相转变
,
晶粒生长
,
生长活化能
何箐
,
汪瑞军
,
邹晗
,
由晓明
,
王伟平
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.04.011
利用常规等离子喷涂和高能等离子喷涂工艺分别制备了不同结构的8YSZ热障涂层,研究了不同结构涂层在高温退火(1 250℃,2h)和燃气热冲击条件(1 200℃/900℃)下对CMAS沉积物防护作用.结果表明:提高8YSZ涂层致密度和在其表面制备致密氧化铝封阻层可延缓CMAS沉积物渗入和反应,并提高涂层在CMAS耦合条件下燃气热冲击寿命,在孔隙率12.9％的8YSZ涂层表面制备厚度10～20 μm致密氧化铝层,热冲击寿命提高4.4倍.8YSZ涂层致密度提高或表面致密氧化铝薄层制备,可进一步降低涂层表面粗糙度,同时燃气热冲击条件下氧化铝层自身逐层剥离的失效形式,均能减缓CMAS的粘附;1 250℃下氧化铝层会溶解进入CMAS提高局部Al含量,从而使CMAS中局部低熔点相向高熔点钙长石相转变,会进一步提高界面稳定性.
关键词:
CMAS沉积物
,
热障涂层
,
氧化铝封阻层
,
防护作用
无
材料科学与工程学报
本刊2012年第五期第801页刊登了熊晓英等作者的论文,这是本刊编辑部自创刊以来收到的第一篇这样的论文,该文对本刊在材料科学期刊中所处的地位及面临问题、发展方向作出如此客观、中肯的评价与指引,均使编辑部成员十分感动。今年恰是本刊创刊30周年纪念,谨以此《编后记》供奉广大读者,
关键词:
科学评价
,
论文
,
作者
,
务实
,
科学期刊
,
编辑部
,
创刊
张来新
,
朱海云
合成材料老化与应用
简要介绍了罗丹明化合物的结构特征、合成、特性及应用，重点介绍了：①新型罗丹明类荧光探针的合成与性能研究；②新型罗丹明及香豆素类荧光探针的合成及其对金属离子的识别。并对罗丹明化学的发展进行了展望。
关键词:
罗丹明
,
合成
,
应用
马颖
,
管自生
,
曹亚安
,
姚建年
催化学报
采用浸涂的方法在玻璃表面制备了TiO2薄膜.X射线衍射和Raman光谱结果表明,薄膜全部由锐钛矿组成.通过罗丹明B的光降解实验考察了薄膜的催化活性,结果表明,薄膜的吸附性对罗丹明B的降解途径有很大的影响:当薄膜所吸附的罗丹明B达到一定量时,脱乙基反应将与降解反应同时发生;否则,将观察不到脱乙基作用.同时,初步的实验结果表明,这种吸附性并不直接影响薄膜催化罗丹明B降解的活性.
关键词:
二氧化钛薄膜
,
罗丹明B
,
光催化降解
,
脱乙基
肖珊
,
桑志文
,
常山
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2010.03.015
为了研究在光纤中光孤子的传输特性,将三阶非线性视为微扰作用,由修正的非线性Schr(o)dinger方程(MNLS)寻求类明孤子的尝试解,采用变分法求得拉格朗日密度函数表达式,在此基础上推出了类明孤子的脉冲参数随传输距离的演化方程组.分析讨论了微扰的直接作用和微扰通过a、b、ω、(ζ)产生的间接作用,用Matlab软件作出图像给出参数∣b∣随a变化、(ζ)随β和Z变化、ω随β和Z变化、a随b和Z变化等情形,直观反映出三阶微小量对类明孤子传输特性的影响.
关键词:
非线性光学
,
修正的非线性Schr(o)dinger方程
,
变分法
,
三阶非线性
,
类明孤子
忽满利
,
李文慧
,
马志博
,
种兰祥
,
廖春艳
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2012.01.016
用微扰法从理论上计算了外加交变电场的光折变晶体中屏蔽明孤子的自偏转特性,在外加交变电场的有效电场方向与晶轴方向一致的情况下,晶体中形成屏蔽明孤子,其自偏转方向偏向晶轴反方向,并且孤子中心的偏转轨迹为一抛物线,当传播距离为一定值时,其偏转距离与外加交变电场值的三次方、光强调制度分别成正比,当孤子中心光强与暗辐射强度的比值为10时,光孤子的偏转距离最大.伴随自偏转的同时,光孤子中心的空间频率随着传播距离由低频向高频线性移动,导致光孤子的横截面振幅分布发生了变化,偏转方向的曲线斜率变大,反方向的曲线变得平坦.
关键词:
非线性光学
,
自偏转
,
微扰法
,
屏蔽明孤子
,
交变电场
