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气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响

采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜.利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征.结果显示:当气体压强从3kPa降低到1. 5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善.但是继续降气体...

关键词: 高掺硼金刚石膜 , 气体压强 , 偏流 , 热灯丝化学气相沉积 , 扫描电镜 , X射线衍射仪 , 拉曼光谱

稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀

王佳宇 , 金爱子 , 白亦真 , 纪红 , 金曾孙

无机材料学报

ＣＶＤ金刚石厚膜具有极高的硬度，使得对其进行表面抛光极为困难．传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间，而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广．针对以上情况，我们寻求到一种新的化学刻蚀方法，即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀，破坏表面的晶粒使之成为晶骸，降低表面的耐磨性，以提高表面...

关键词: CVD金刚石厚膜 , etching , rare-earth compound ink

CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀

王佳宇 , 白亦真 , 陈宏宇 , 吕宪义 , 金曾孙 , 纪红

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.006

与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明,该工艺采用廉价的稀土化合物为原料，具有简单、安全、高效的特点。

关键词: CVD金刚石厚膜 , 刻蚀 , 稀土化合物浆料

直流电弧等离子体射流法沉积金刚石薄膜

白亦真

人工晶体学报

关键词:

直流热阴极PCVD法制备金刚石厚膜

金曾孙 , 姜志刚 , 白亦真 , 吕宪义

新型炭材料 doi:10.3969/j.issn.1007-8827.2002.02.003

建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(Plasma Chemical Vapour Deposition)方法.通过采用温度为1100℃～1500℃的热阴极以及阴极和阳极尺寸不相等配置,在大的放电电流和高的气体气压下实现了长时间稳定的辉光放电,并用这种方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,其厚膜直...

关键词: 热阴极 , PCVD , 金刚石厚膜

热阴极辉光放电对金刚石膜沉积的影响

白亦真 , 金曾孙 , 姜志刚 , 韩雪梅

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2003.05.014

研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中,热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系.结果表明,适当的阴极温度是保证大电流、高气压辉光放电的必要条件.阴极的温度影响辉光放电阴极位降区的放电性质.金刚石膜的沉积速率随着气体压力(16～20 kPa)的升高而上升,在18.6 kPa左右出...

关键词: 无机非金属材料 , 热阴极 , 等离子体化学气相沉积 , 辉光放电 , 金刚石膜

磁控溅射Al-Mg-B薄膜成分优化

曲文超 , 吴爱民 , 吴占玲 , 白亦真 , 姜辛

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00712

采用多靶磁控共溅射技术,利用高纯度Al,Mg和B单质靶材为溅射源,室温下在单晶Si(100)表面上成功制备了低摩擦系数的非晶态Al-Mg-B硬质薄膜.通过改变Al/Mg混合靶体积配比及靶材溅射功率来调控薄膜成分,最终制备的Al-Mg-B薄膜成分接近AlMgB14相的元素成分比,其Vickers硬度约...

关键词: 磁控溅射 , Al-Mg-B薄膜 , 硬度 , B12二十面体

稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀

王佳宇 , 金爱子 , 白亦真 , 纪红 , 金曾孙

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.01.030

CVD金刚石厚膜具有极高的硬度,使得对其进行表面抛光极为困难.传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间,而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广.针对以上情况,我们寻求到一种新的化学刻蚀方法,即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀,破坏表面的晶粒使之成为晶骸,降低表面的耐磨性,以提高表面...

关键词: CVD金刚石厚膜 , 刻蚀 , 稀土化合物浆料