王建伍
,
白宇辰
,
姚微
,
王红宁
,
陈若愚
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00769
以正硅酸乙酯(TEOS)和钛酸正丁酯(TBOT)为原料, 采用溶胶-凝胶法制备了SiO2溶胶和TiO2溶胶, 利用浸渍提拉法制备了SiO2/TiO2双层减反膜. 用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、椭圆偏振光谱仪和接触角测量仪等分析表征了薄膜的特性, 以光催化降解甲基橙溶液实验来评价薄膜的自洁功能, 考察了SiO2/TiO2双层减反膜的耐磨擦性. 结果表明, SiO2/TiO2双层减反膜在400~800nm可见光波段的透光率最高可达97.2%, 薄膜表面平整, 结构致密且粗糙度小, 经紫外灯照射后薄膜的水接触角接近0°, 光催化2h后可将5mg/L的甲基橙溶液降解43.6%. SiO2/TiO2减反膜还具有优良的耐磨擦性能.
关键词:
溶胶-凝胶
,
antireflective coatings
,
self-cleaning
,
scratch-resistant
王建伍
,
白宇辰
,
姚微
,
王红宁
,
陈若愚
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00769
以正硅酸乙酯(TEOS)和钛酸正丁M(TBOT)为原料,采用溶胶-凝胶法制备了SiO2溶胶和TiO2溶胶,利用浸渍提拉法制备了SiO2/TiO2双层减反膜.用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、椭圆偏振光谱仪和接触角测量仪等分析表征了薄膜的特性,以光催化降解甲基橙溶液实验来评价薄膜的自洁功能,考察了SiO2/TiO2双层减反膜的耐磨擦性.结果表明,SiO2/TiO2双层减反膜在400~800nm可见光波段的透光率最高可达97.2%,薄膜表面平整,结构致密且粗糙度小,经紫外灯照射后薄膜的水接触角接近0°,光催化2h后可将5mg/L的甲基橙溶液降解43.6%.SiO2/TiO2减反膜还具有优良的耐磨擦性能.
关键词:
溶胶-凝胶
,
减反膜
,
自洁功能
,
耐磨擦性
徐延冰
原子核物理评论
doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2004.01.002
将具有负宇称的 fp 空间扩大到包含1g9/2 轨道, 采用修正的表面相互作用(MSDI), 对64Ge, 66Ge, 68Ge, 70Se, 72Se, 74Se, 76Kr 和 78Kr等偶偶核作了形变Hartree-Fock计算, 得到了基态和一些激发态的解. 同时, 还用近似角动量投影形变Hartree-Fock(PDHF)方法对偶偶核64Ge, 74Se和奇A核79Kr进行了能谱计算, 得到其正、负宇称带的解, 计算结果与实验谱基本一致.
关键词:
形变Hartree-Fock态
,
角动量投影
,
单粒子能谱
,
反常宇称态
王海波
,
王斌
硅酸盐通报
以湿球磨钛白初品为原料,利用卧式砂磨机研究了不同砂磨工艺对浆料粒度的影响,并考察了浆料不同粒度对其白度和水分散性的影响.实验结果表明:较优的砂磨工艺为砂磨转速3000 r/min,锆珠粒径1.8 mm,进料浓度410 g/L,进料泵转速l,填充率80%;在较优条件下实验室一级砂磨后的浆料中值粒径相对现场两级砂磨浆料降低了36 nm;粒度越小,浆料水分散性越好,当浆料中值粒径为231 nm时,水分散性达到99.3%,浆料不同粒度对白度基本没有影响.实验结果对生产现场砂磨能够提供重要的理论及技术支撑.
关键词:
卧式砂磨
,
工艺参数
,
粒度
,
白度
,
水分散性
万梅
,
黄文武
,
王位
涂料工业
采用丙烯酸酯类单体与叔碳酸乙烯酯单体共聚,用乳化剂稳定技术制备了一种小粒径的叔丙乳液(叔碳酸乙烯酯/丙烯酸酯共聚物乳液),研究了单体组成、功能单体、养护条件等因素对涂膜耐水白性能的影响.量化表征水白性能方法测试表明:叔丙体系耐水白性能优于纯丙体系;当有机硅含量为单体总量的1%,交联单体含量为单体总量的1.5%时,涂膜耐水白性能最好;另外,疏水单体含量越高,养护时间越长或温度越高,耐水白性能越好.
关键词:
耐水白
,
叔丙乳液
,
疏水单体