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A/S比对氧化锆复相陶瓷性能的影响

廉晓庆 , 蒋明学 , 马林 ,

硅酸盐通报

以锆英石细粉和α-Al2O3细粉作原料,根据ZrO2- Al2O3-SiO2系相图选择3个配料点(A/S比分别为0.8,1.5,2.0)制备了反应烧结氧化锆复相陶瓷.借助XRD和SEM探讨了A/S比对氧化锆复相陶瓷常温性能的影响.结果表明:A/S比的增加利于提高坯体的可烧结性;A/S比影响材料的物相组成,实验结果与预期结果一致;1550 ℃烧后、A/S=2.0的氧化锆复相陶瓷具优良的常温力学性能,耐压强度可达462 MPa,抗折强度112.2 MPa.

关键词: A/S比 , 可烧结性 , 物相组成

基于ANSYS/LS-DYNA的磨料冲击行为分析

廉晓庆 , 蒋明学 ,

硅酸盐通报

采用实验与限元模拟相结合的方法研究了磨料形状和粒径对材料冲蚀磨损性能的影响.采用linear-elastic-isotropic模型作为靶材的本构模型,运用ANSYS/LS-DYNA的三维显式动力分析模型建立了棕刚玉磨料冲蚀高强耐火浇注料的限元模型,运用求解器对冲蚀过程中的磨料冲击行为进行了计算.结果表明:单个六棱柱体磨料颗粒对靶材中心点的von mises应力最大值为球体磨料的4倍左右,磨料形状对冲蚀磨损很大影响;随着磨料粒径的增大,靶材中心点的von mises应力最大值急剧增加;110 ℃烘后高强耐火浇注料的冲蚀磨损率随着磨料粒径的增加而增加,磨料粒径的增加对1100 ℃烧后高强耐火浇注料的冲蚀磨损率影响不大.

关键词: ANSYS/LS-DYNA , 冲蚀磨损 , 磨料 , von , mises应力

冲击磨料磨损中层形成机制的限元分析

吴凯 , 丁厚福 , 杜晓东 , 王凯 , 严小冲

钢铁研究学报

在实验室条件下对低碳高合金钢进行了冲击磨料磨损试验,然后运用ANSYS限元分析工具,在虚拟环境下对该试验进行数字仿真,通过分析冲击磨损形貌、亚表层金相以及数字仿真所得到的冲击过程中材料的应力分布情况,讨论了试验中观察到的层的形成机制和失效模式。结果表明,层形成机制为强烈塑性变形机制。层形成后在冲击磨损的作用下产生裂纹,裂纹在残余拉应力和表面切应力的作用下扩展,从而导致层脆性剥落。

关键词: 限元分析;低碳高合金钢;冲击磨料磨损;

冲击磨料磨损中层形成机制的限元分析

吴凯 , 丁厚福 , 杜晓东 , 王凯 , 严小冲

钢铁研究学报

在实验室条件下对低碳高合金钢进行了冲击磨料磨损试验,然后运用ANSYS限元分析工具,在虚拟环境下对该试验进行数字仿真,通过分析冲击磨损形貌、亚表层金相以及数字仿真所得到的冲击过程中材料的应力分布情况,讨论了试验中观察到的层的形成机制和失效模式.结果表明,层形成机制为强烈塑性变形机制.层形成后在冲击磨损的作用下产生裂纹,裂纹在残余拉应力和表面切应力的作用下扩展,从而导致层脆性剥落.

关键词: 限元分析 , 低碳高合金钢 , 冲击磨料磨损 ,

面向彩色机微显示的机白光发射器件

武明珠 , 郭闰达 , 张振松 , 岳守振 , 曲加伟 , 胡守成 , 黄苒 , 杜寰 , 王红波 , 赵毅

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153005.0790

以比铝、银等金属材料透光性更好的铜作为白光机顶发射器件的电极,将其应用到基于 Al 底电极的蓝、黄互补色发射白光机电致发光器件(TEWOLED),通过合理设计器件结构,制备出的器件具较低的驱动电压和较高的效率,4 V 下亮度超过1000 cd/m2、功率效率达到28.5 lm/W,效率滚降较小。我们利用 p 型电学掺杂结构和电子注入缓冲层结构分别解决了铝和铜电极功函数同空穴传输层的 HOMO 能级和电子传输层的 LUMO 能级不匹配问题,并通过 TcTa 光学覆盖层的调节作用使器件具较好的光谱稳定性。基于 Cu 电极的 TEWOLED 与采用 Al 作为互连金属的 CMOS 工艺兼容,我们将该器件与硅基 CMOS 驱动电路结合,获得了 SVGA 白光机微显示器件,为彩色机发光微显示的实现奠定了基础。

关键词: 发射白光机电致发光器件 , 电极 , SVGA白光机微显示

高性能栅结构机薄膜晶体管

洪飞 , 谭莉 , 朱棋锋 , 向长江 , 韩学斌 , 张其国 , 郭晓东 , 申剑锋

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122703.0313

采用六联苯(p-6P)和氧钒酞菁(VOPc)作为源层材料,利用弱外延生长技术制备机薄膜晶体管(OTFT).在相同的工艺条件下制备了栅结构(top-gate)和底栅结构(bottom-gate)两种器件构型,发现两种不同结构的OTFT器件特性存在较大的差异,top-gate OTFT的迁移率比bottom-gate OTFT高很多.在栅结构的器件构型中获得了较高的器件特性参数,迁移率达到1.6 cm2/V·s.研究了弱外延生长技术应用在两种不同器件构型中的差异,并解释了栅结构OTFT迁移率较高的原因.

关键词: 机薄膜晶体管 , 栅结构 , 弱外延 , 氧钒酞菁

高效高亮度硅基发射机电致发光器件的研制

陈燕 , 陈星明 , 胡胜坤 , 金玉 , 吴志军

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153006.0960

以半透明超薄金属银作为阴极,紫外臭氧处理的厚金属银作为阳极,制备了高效率高亮度的黄光硅基发射机发光器件。当电压为9 V 时,器件的最大电流效率为4.9 cd/A,当电压为17 V 时,器件的亮度达到14040 cd/m2。通过增加掺杂浓度及阳极厚度对器件结构进一步优化后,器件性能显著提高,其电流效率在外加电压为10 V 时达到11 cd/A,相应亮度为21748 cd/m2.发射器件中存在的微腔效应能效提高器件的发光效率以及亮度,但是也会使器件的共振波长随着观察视角的增大而蓝移。由于采用合适的发光材料,本实验制备的器件的发光峰值在0°~75°视角范围内几乎没变化。

关键词: 发射 , 机电致发光器件 , 表面修饰 , 亮度 , 电流效率

全氧燃烧在超压延玻璃生产中的应用及其澄清机理研究

彭寿 , 曹志强 , 魏晓俊 , 左泽方 , 杨建强

硅酸盐通报

压延玻璃是晶硅电池组件中不可替代的关键材料.提高超压延玻璃的熔化效率,获得高质量的超压延玻璃,对促进我国光伏产业的快速发展具重要意义.本文首先研究了采用全氧燃烧系统后对超压延玻璃熔窑池深、池底、卡脖宽度和水包深度等结构尺寸的改变以及高浓度的NaOH挥发对熔窑碹耐火材料、碹高度、氧枪位置的改变;其次讨论了全氧条件下超压延玻璃对澄清剂的选择和水分含量对澄清效果的影响.

关键词: 全氧燃烧 , 压延玻璃 , 熔窑结构 , 澄清

C/SiC复合材料纤维限元分析

李巾锭 , 任成祖 , 张立峰 , 吕哲

材料科学与工程学报

建立轴对称模型对C/SiC复合材料的单纤维出试验进行数值模拟,引入内聚力模型模拟复合材料界面失效,在细观力学层面上分析界面粗糙度、界面强度、界面层厚度以及热膨胀系数对纤维出过程中载荷位移曲线的影响规律;为C/SiC复合材料界面本构的研究和纤维出试验的参数优化提供了高效的方法和理论依据.

关键词: C/SiC , 单纤维 , 限元 , 内聚力模型

空气相色谱-质谱法测定玩具中的10种挥发性机物

吕庆 , 张庆 , 康苏媛 , 白桦 , 王超

色谱

建立了检测玩具中10种挥发性机物(VOC)残留量的空气相色谱-质谱(HS-GC-MS)方法.样品经140 ℃、45 min静态空后,通过DB-624色谱柱分离和质谱检测,外标法定量.该方法对于不同VOC的定量限(LOQ)均在0.66 mg/kg 以下,线性范围为0.001~2.0 μg,平均回收率在79% ~106%之间,相对标准偏差(RSD)在0.4% ~5.6%之间.该方法具准确灵敏、简单快速等特点,将其应用于实际玩具样品的检测取得了良好效果.

关键词: 空气相色谱-质谱法 , 挥发性机物 , 玩具

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