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化学沉积钴基纳米晶合金涂层工艺

吴玉程 , , 张勇 , 郑玉春 , 王文芳 , 黄新民 , 李广海 , 张立德

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.01.014

化学沉积是制备纳米材料的一种良好方法,通过控制溶液组份和操作条件可以获得不同尺度的纳米晶.在化学沉积钴硼、钴磷合金纳米晶涂层制备工艺的基础上,制备了钴镍硼、钴镍磷纳米晶合金涂层,研究了三元纳米晶合金的沉积速率和显微组织结构.结果表明:当CCo2+/CNi2+=3:2时,pH值7.2,温度80℃,负载因子0.4 dm2/L,可以获得钴镍硼合金纳米晶.以纳米晶钴磷合金沉积液为基本配方,CCo2+/(CCo2+CNi2+)保持在0.1~0.5之间变化,可获得较好的纳米晶钴镍磷合金沉积层.

关键词: 钴镍硼合金 , 钴镍磷合金 , 化学沉积 , 纳米晶 , 合金涂层

电化学沉积Ni-W合金纳米晶镀层的组织与硬度研究

吴玉程 , 陈文辉 , , 王文芳 , 郑玉春 , 张春晓 , 杜燕君

金属功能材料 doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2005.02.006

采用电沉积制备Ni-W合金纳米晶镀层,研究了纳米晶的形成与镀层组织结构和硬度.随着镀液组分的变化,镀层的表面形貌发生变化;X射线衍射结果表明,Ni-W合金的晶粒尺寸在17~30nm之间;镀液组成、pH值、电流密度、温度等因素对Ni-W合金纳米晶沉积层的硬度都有影响,最主要的影响因素是pH值及电流密度.

关键词: 电化学沉积 , Ni-W合金纳米晶 , 组织 , 显微硬度

化学沉积纳米晶Co-P合金及其沉积速率影响因素的研究

, 吴玉程 , 张勇 , 郑玉春 , 王文芳 , 黄新民 , 李广海

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2004.05.001

化学沉积可得到均匀、致密的纳米晶薄膜,是一种较为理想的纳米晶制备方法.采用正交实验优化了化学沉积纳米晶钴磷合金的工艺配方,研究了正交实验5因素如硫酸钴、柠檬酸三钠、硼酸、次磷酸钠和温度及负载因子、沉积时间对沉积速度的影响.研究获得的优化工艺配方和参数为:0.06~0.12 mol/L CoSO4·7H2O,0.40~0.55 mol/L NaH2PO2·H2O,0.15~0.3 mol/L Na3C6H5O7·2H2O,0.3~0.6 mol/L H3BO3,50~80 ℃,负载因子0.4~0.8 dm2/L.

关键词: 钴磷合金 , 化学沉积 , 纳米晶 , 沉积速率

工艺条件对电沉积Ni-W合金纳米晶的影响

, 吴玉程 , 郑玉春 , 王文芳 , 张勇 , 李广海 , 张立德

稀有金属材料与工程

选择对Ni-W合金电沉积影响较大的钨酸钠浓度、电流密度、镀液pH值、温度等4个工艺参数进行对比实验,探索了各因素对沉积速率、显微硬度、镀层外观的影响,为制备Ni-W合金纳米晶提供依据,同时制备出了晶粒尺寸为10.09nm的Ni-W合金纳米晶镀层.

关键词: Ni-W合金 , 电沉积 , 纳米晶

Ni-Fe-NiFe2O4电沉积层的制备及其性能

李燕 , , 黄新民 , 郑玉春 , 吴玉程

材料保护

在镀液中添加铁氧体粒子制备Ni-Fe基磁性复合镀层是电沉积技术一个新的发展方向,目前相关研究不多。采用电沉积法在铜片上制备了Ni—Fe—NiFe2O4复合镀层,用电化学方法、金相显微镜及能谱仪研究了镀液中NiFe2O4含量、电流密度、表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)等对复合镀层性能的影响。结果表明:复合镀层硬度随镀液中NiFe2O4含量的增加先增大后减小,含量为15g/L时镀层硬度达370HV,耐蚀性最好;随电流密度增大,沉积速率加快,镀层显微硬度增加,耐蚀性略有提高;加入CTAB能提高镀层中微粒的复合量,可在较低的电流密度下获得孔隙小、致密度高的镀层,显微硬度也有所提高,但耐蚀性略有下降;在温度为60℃,镀液中NiFe2O4含量为15g/L,电流密度为5A/dm2,CTAB含量为0.1%(质量分数)时,可获得性能较好的复合镀层,镀层中NiFe2O4含量较高,均匀致密,微观表面粗糙,无裂纹,与基体结合良好。

关键词: 复合电沉积 , Ni-Fe-NiFe2O4沉积层 , 耐蚀性 , 显微硬度 , 结合力

紫铜表面新型无铬转化膜的耐蚀性能

郑伟 , 吴玉程 , 刘万青 , , 郑玉春 , 黄新民

材料保护

目前,常规紫铜无铬转化液主要由苯骈三氮唑(BTA)、配位剂和表面活性剂组成,所得转化膜的耐蚀性较差。在常规无铬转化液中加入钼酸钠和硝酸镧,并确定了一种环保型紫铜表面无铬成膜工艺:12g/L BTA,8g/LNa2MoO4,4g/LLa(NO3)3·6H2O,10g/LC6H807,4g/LC7H606S·2H2O,温度50℃,时间5min。通过中性盐雾试验测试了所得转化膜的耐蚀性;采用极化曲线和交流阻抗谱分析了转化膜在1mol/LHCl中的电化学行为,同时用场发射扫描电镜(FESEM)观察了转化膜的表面形貌。结果表明:本工艺无铬、环保,可在紫铜表面形成完整、致密的转化膜,缓蚀率达98.8%,耐蚀性优于铬酸盐钝化膜和常规无铬钝化膜。

关键词: 无铬转化膜 , BTA , 钼酸钠 , 硝酸镧 , 紫铜 , 电化学行为 , 表面形貌 , 耐蚀性

低碳钢上Ni-W-Al2O3纳米复合电镀层的耐腐蚀性能研究

王利 , 吴玉程 , , 王文芳 , 李云 , 黄新民

材料保护

通过电沉积方法在Q235低碳钢上制备出Ni-W-Al2O3纳米复合镀层,采用测定浸泡腐蚀失重和测定交流阻抗的方法研究了其耐腐蚀性能.结果表明:Ni-W-Al2O3纳米复合镀层的耐蚀性优于普通Ni-W镀层;Ni-W-Al2O3纳米复合镀层在电解液中剥蚀发生之前,电化学阻抗谱由一个容抗弧组成,剥蚀后的阻抗谱呈现Warburg阻抗特征.

关键词: 纳米复合镀层 , Ni-W-Al2O3 , 低碳钢 , 耐腐蚀性 , 电化学阻抗谱

Ni-W纳米晶合金电沉积工艺条件的研究

吴玉程 , , 郑玉春 , 王文芳 , 杜燕君 , 张春晓

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2004.04.005

纳米晶材料与常规晶体材料相比有许多优良的性能,已受到广泛关注.本文采用电沉积方法获得了Ni-W纳米晶合金镀层.研究了镀液中钨酸钠含量、温度、pH值及电流密度对沉积速度的影响.测定了镀层的显微硬度,并用X-射线衍射仪对其微观结构进行了观察.结果表明,影响沉积速度最大的因素为pH值,其次是电流密度;镀层显微硬度最高可达670.3HV.通过正交试验得出适宜工艺条件范围为:Na2WO4·2H2O 10~30g/L,电流密度10~15A/dm2,温度60~70℃,pH值6~7.

关键词: 电沉积 , Ni-W纳米晶合金 , 沉积速度

电沉积制备Ni-W-Al2O3纳米复合镀层的初步研究

王利 , 吴玉程 , , 李云 , 王文芳 , 黄新民

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.02.005

初步研究了电沉积Ni-W-Al2O3纳米复合镀层的制备工艺.考察了纳米粒子的分散方式、纳米粒子在镀液中的浓度以及镀液温度对沉积速度、复合量及镀层形貌的影响.结果表明:纳米粒子加入镀液前超声分散1 h、施镀时对镀液采用超声搅拌效果最佳;纳米粒子在镀液中的含量为15 g/L时沉积速率最大,为2.88 g/(dm2·h);镀液温度为75~80 ℃时沉积速率较大且较稳定,且当施镀温度为75 ℃时镀层表面均匀有光泽,呈银白色.

关键词: 电沉积 , 纳米复合镀层 , Ni-W-Al2O3 , 复合量 , 超声搅拌 , 沉积速率

电沉积Ni-Fe合金镀层腐蚀性能研究

, 吴玉程 , 王文芳 , 李云

金属功能材料 doi:10.3969/j.issn.1005-8192.2006.03.006

本文采用失重、阳极极化和电化学阻抗谱等方法研究了电沉积Ni-Fe合金镀层腐蚀性能和镀层的破坏过程.结果表明:Ni-Fe合金镀层具有良好的耐酸腐蚀性;在3.5%(质量)NaCl溶液中,腐蚀发生之前的镍铁合金镀层的电化学阻抗谱由一个高频容抗弧和一个低频的感抗弧组成;随着浸泡时间的延长,容抗弧半径快速减小,感抗弧减弱并消失.

关键词: Ni-Fe合金 , 腐蚀性能 , 电化学阻抗谱

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