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以磁控溅射+自组装反应方式制备GaN薄膜

为了用简单的方法得到GaN薄膜,以射频磁控溅射方法将Ga2O3薄膜沉积到Si(111)衬底上的SiC中间层上,通过其同NH3的自组装反应形成了GaN薄膜.同样,利用磁控溅射方法把SiC层沉积到Si衬底.其目的是为了缓冲由GaN外延层和Si衬底的晶格失配造成的应力.为了比较中间层的作用,对按照两种方案(使用中间层和不使用中间层)实验样品进行了测试和比较.实验结果证实了SiC中间层提高了GaN薄膜的质量.

关键词: 射频磁控溅射 , 自组装 , 中间层 , SiC

氨化硅基Ga2O3/Al2O3制备GaN薄膜的发光特性研究

魏芹芹 , 薛成山 , 孙振翠 , 曹文田 , 庄惠照 , 董志华

稀有金属材料与工程

研究了Ga2O3/Al2O3膜氨化反应自集结制备GaN薄膜的光致发光特性,讨论了发光机制以及生长条件对其光致发光特性的影响.样品的荧光光谱在347 nm有一强发光峰,在412 nm有一弱发光峰,这两个峰的强度都随着氨化温度的升高和氨化时间的增长而增强,但峰的位置保持不变.我们认为347 nm的峰是GaN的带边发光峰由于薄膜中晶粒尺寸的减小而蓝移造成的,而412 nm的发光峰则来源于导带到杂质受主能级的辐射复合.

关键词: GaN薄膜 , 荧光光谱 , 带边发射 , 辐射复合

氮化ZnO/Ga2O3薄膜合成GaN纳米管

庄惠照 , 高海永 , 薛成山 , 王书运 , 何建廷 , 董志华

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2007.01.031

利用射频磁控溅射法在Si(111)衬底上先溅射ZnO中间层,接着溅射Ga2O3 薄膜,然后ZnO/Ga2O3薄膜在管式炉中常压下通氨气进行氮化,高温下ZnO层在氨气的气氛中挥发,而Ga2O3薄膜和氨气反应合成出GaN纳米管.X射线衍射(XRD)测量结果表明利用该方法制备的GaN具有沿c轴方向择优生长的六角纤锌矿结构.利用傅里叶红外光谱(FTIR)研究了所制备样品的光学性质.利用透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED)观测了样品的形貌和晶格结构.

关键词: GaN纳米管 , ZnO/Ga2O3薄膜 , 射频磁控溅射 , 氮化

16MnNb钢圆坯连铸二冷制度的研究

陈春梅 , 陈登福 , 董志华 , 龙木军 , 申嘉龙 , 徐松

钢铁

以某钢厂圆坯连铸机为研究对象，建立了连铸坯凝固传热模型。在不同拉速下对280 mm断面圆坯二次冷却过程进行仿真优化，确定了16MnNb钢合适的二冷制度。根据仿真结果，在最小工作拉速(0.9 m/min)下，矫直点处铸坯内弧表面中心温度为947℃，有效避开了铸坯的二次低延性区。在最大工作拉速(1.2 m/min)下，铸坯出结晶器时，其凝固坯壳厚度为19 mm，二冷初期产生漏钢等质量问题的可能性较小。不同拉速下，横断面温度场分布均匀。经低倍检测发现，铸坯表面及内部质量良好，无裂纹、疏松、缩孔等质量缺陷。

关键词: 圆坯连铸 , 二次冷却 , 16MnNb钢 , 仿真优化

ZnO/Ga2O3膜的氨化温度对制作硅基GaN纳米材料的影响

庄惠照 , 高海永 , 薛成山 , 董志华

稀有金属材料与工程

通过在不同温度下氨化ZnO/Ga2O3膜,在Si衬底上成功制备了GaN纳米结构材料.氨化前,ZnO层和Ga2O3膜分别通过射频磁控溅射法依次溅射到Si衬底上.用X射线衍射(XRD)、红外傅里叶变换光谱(FTIR)分析了GaN晶体的结构和组分,利用扫描电子显微镜(SEM)观察了样品的形貌.通过对测试结果的分析可知在Si衬底上由ZnO挥发辅助生长出六方纤锌矿GaN纳米结构晶体,并且ZnO/Ga2O3的氨化温度对形成GaN纳米材料具有明显的影响.

关键词: 氨化 , ZnO/Ga2O3薄膜 , 挥发 , 射频磁控溅射

20CrMnTi钢连铸坯柱状晶区的高温力学性能

董志华 , 陈登福 , 龙木军 , 张星 , 申嘉龙

材料研究学报

采用Gleeble-1500D热/力模拟实验机进行拉伸实验,测试20CrMnTi钢650-1050℃温度范围柱状晶区内的应力-应变曲线、高温强度、硬化系数及热塑性,研究了铸坯各高温力学性能参量与取样位置的关系.结果表明,随着距铸坯表面距离的增加,铸坯抗拉强度降低,低温(650℃)下的硬化系数明显增大;750℃时,1#、2#和3#试样的断面收缩率均达到最低,约为60％;取样位置由1#试样变为3#试样时,铸坯裂纹敏感区宽度保持在150℃左右,温度区间整体向低温区移动约17℃.以1#试样为参考,矫直过程中的铸坯表面温度应控制在825℃以上.

关键词: 金属材料 , 高温力学性能 , 铸坯 , 20CrMnTi钢 , 柱状晶区

迎接第五次提速--铁路用钢专家董志洪教授谈高速铁路与钢轨生产

夏杰生

金属世界 doi:10.3969/j.issn.1000-6826.2004.03.007

关键词:

含氟共聚聚酰亚胺的合成与性能研究鲁云华,赵洪斌,迟海军,董岩,肖国勇,胡知之

鲁云华 , 赵洪斌 , 迟海军 , 董岩 , 肖国勇 , 胡知之

绝缘材料

以1,4-双(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)苯(6FAPB)为含氟二胺单体,均苯四甲酸二酐(PMDA)和1,2,3,4-环丁烷四酸二酐(CBDA)为二酐单体,经低温溶液缩聚反应得到聚酰胺酸,再经热酰亚胺化处理制备出含氟共聚聚酰亚胺(CPI)薄膜.采用红外(IR)、紫外(UV-Vis)、溶解性测试等对CPI进行结构与性能表征,考察两种二酐单体的不同物质的量之比对共聚聚酰亚胺光学性能和溶解性的影响.结果表明:随着脂环二酐CBDA摩尔配比的增加,CPI薄膜在410 nm处的光透过率逐渐增加,薄膜颜色逐渐变浅,溶解性有所改善.

关键词: 聚酰亚胺 , 共缩聚 , 含氟 , 结构与性能