李曼西
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储向峰
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朱伟长
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董永平
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陈同云
稀有金属材料与工程
为了探索适用于中温固体氧化物燃料电池的连接材料,采用柠檬酸法制备了Sm1-xCaxCrO3-δ (x=0,0.1,0.2,0.3,0.4)粉体,研究了Ca2+掺杂对材料烧结性能、电性能和热膨胀性能等的影响.实验结果表明,Sm0.7Ca0a.3CrO3-δ材料在空气中700℃时电导率为29.8 S·cm-1,氢气气氛中600℃时为1.68 S·cm-1.在30～1000℃温度范围内随着Ca2+掺杂量从0.1增加到0.4,平均热膨胀系数(TECs)值从7.34×10-6增大到8.05×10-6K-1,与其它常用固体氧化物燃料电池材料热匹配性良好.
关键词:
Sm1-xCaxCrO3-δ
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连接材料
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IT-SOFC
熊伟
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储向峰
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董永平
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毕磊
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叶明富
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孙文起
人工晶体学报
本文制备了几种含不同磨料(SiC、Al2O3不同粒径SiO2)的抛光液,通过纳米粒度仪分析磨料粒径分布,采用原子力显微镜观察磨料的粒径大小.研究了不同磨料对蓝宝石晶片化学机械抛光(CMP)的影响,利用原子力显微镜检测抛光前后蓝宝石晶片表面粗糙度.实验结果表明,在相同的条件下,采用SiC、Al2O3作为磨料时,材料去除速率与表面粗糙度均不理想；而采用含1％粒径为110 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率最高为41.6 nm/min,表面粗糙度Ra=2.3 nm；采用含1％粒径为80 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率为36.5 nm/min,表面粗糙度最低Ra=1.2 nm.
关键词:
蓝宝石
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化学机械抛光
,
去除速率
,
表面粗糙度
,
磨料
储向峰
,
汤丽娟
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董永平
,
乔红斌
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朱小华
稀有金属材料与工程
(锇有可能作为大规模集成电路铜互连扩散阻挡层新材料.)利用自制的抛光液对金属锇片进行抛光,研究在双氧水-磷酸体系抛光液中H2O2浓度和抛光液pH值对抛光速率的影响.结果表明,当抛光液中主要成分仅为氧化剂H2O2时,并不能在金属锇表面达到好的腐蚀效果.在磷酸体系抛光液中,H2O2能够通过促进阴极反应的进行从而增强抛光液对金属锇的化学作用；低浓度H2O2通过增强抛光液对金属锇的化学腐蚀能力,从而增加了抛光速率值:较高浓度H2O2的加入对抛光速率值影响较小.H3PO4能够在抛光液中起到抑制剂、pH调节剂和络合剂的作用.当抛光液pH值为4.0时,金属锇表面生成的钝化膜最致密.当pH值为4.0或5.0时,金属锇表面生成的钝化膜OCP值大于金属锇的OCP值,且此条件下的抛光速率值较高.
关键词:
化学机械抛光
,
锇
,
磷酸
,
极化曲线
,
阻挡层材料
储向峰
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李秀金
,
董永平
,
乔红斌
,
白林山
稀有金属材料与工程
利用固相反应法制备纳米二氧化锡磨料并研究了制备条件对平均粒径的影响.结果表明,在500 ℃/4 h条件下制得的纳米二氧化锡粉体在水中有良好的分散性和稳定性.利用自制的抛光液对高纯钌片进行化学机械抛光,与二氧化硅磨料抛光液比较,材料去除速率和表面粗糙度都降低.当抛光液中含1％(质量分数,下同)二氧化锡、1％过硫酸铵、1％酒石酸和3 mmol/L咪唑,pH=8.0,抛光压力为17.24 kPa时,材料去除速率(MRR)和表面粗糙度(Ra)分别为6.8 nm/min和4.8 nm.
关键词:
纳米二氧化锡
,
磨料
,
化学机械抛光
,
钌
王婕
,
储向峰
,
董永平
,
白林山
,
叶明富
,
孙文起
稀有金属材料与工程
研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响.采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌.结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3％时,抛光速率值随浓度的增加而降低.抛光后的金属钉表面平均粗糙度Ra为7.2 nm.
关键词:
钌
,
化学机械抛光
,
水杨酸
储向峰
,
李秀金
,
董永平
,
张王兵
,
白林山
稀有金属材料与工程
利用自制的抛光液对高纯镍片进行化学机械抛光,研究化学机械抛光过程中抛光压力、pH值、H2O2浓度、络合剂种类及其浓度、SiO2浓度等参数对抛光速率的影响.结果表明在抛光压力为13.79 kPa、H2O2浓度为0.5％,pH值为3.0,SiO2浓度为0.5％,络合剂EDTA及其浓度为1％时,得到最大抛光速率为312.3 nm/min;在抛光压力为13.79 kPa、pH值为4.0、SiO2浓度为1％、络合剂EDTA为1％、H2O2浓度为1％条件下抛光得到的镍片表面质量较好,表面粗糙度Ra达到5nm.并利用电化学手段研究了镍片在抛光液中的溶解与钝化行为.
关键词:
镍
,
化学机械抛光
,
抛光速率
陈同云
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朱小华
,
储向峰
,
葛秀涛
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董永平
,
叶明富
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.11780
通过溶剂热法(无水乙醇)制备了Cu2+(0~6mol%)掺杂ZnO纳米棒粉体, 采用X射线衍射仪和扫描电镜对掺杂ZnO纳米粉体的晶体结构和微观形貌进行了表征. 研究了Cu2+掺杂比例、溶剂热反应温度及时间对材料气敏性能的影响; 考察ZnO(120℃, 10 h)和3mol% Cu2+掺杂ZnO(120℃, 10 h)粉体对应元件对甲醛、乙酸、甲苯、乙醇、丙酮、三甲胺等六种气体的气敏性能. 结果表明: 通过溶剂热法制备的ZnO粉体为纳米棒状结构, 棒长度和直径随Cu2+掺杂比例不同发生变化; 3mol% Cu2+掺杂ZnO(120℃, 10 h)样品对应元件对低浓度乙醇有很好的选择性, 在395℃工作温度下对1×10–3乙醇的灵敏度为380.5, 响应恢复时间分别为5 s和40 s, 对1×10–6乙醇的灵敏度可达4.2.
关键词:
ZnO; 纳米棒; 气敏性能
熊伟
,
储向峰
,
白林山
,
董永平
,
叶明富
表面技术
概述了化学机械抛光作用机制,着重阐述了3种常见衬底(α-Al2O3,SiC,Si)的化学机械抛光现状,主要从抛光工艺参数和抛光液组成(不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等)对晶片抛光效果的影响展开研究,并指出了目前化学机械抛光存在的问题,进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景.
关键词:
衬底材料
,
化学机械抛光
,
抛光工艺
,
抛光浆料
陈同云
,
朱小华
,
储向峰
,
葛秀涛
,
董永平
,
叶明富
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.11780
通过溶剂热法(无水乙醇)制备了Cu2+(0～6mol％)掺杂ZnO纳米棒粉体,采用X射线衍射仪和扫描电镜对掺杂ZnO纳米粉体的晶体结构和微观形貌进行了表征.研究了Cu2+掺杂比例、溶剂热反应温度及时间对材料气敏性能的影响;考察ZnO(120℃,10 h)和3mol％ Cu2+掺杂ZnO(120℃,10h)粉体对应元件对甲醛、乙酸、甲苯、乙醇、丙酮、三甲胺等六种气体的气敏性能.结果表明:通过溶剂热法制备的ZnO粉体为纳米棒状结构,棒长度和直径随Cu2+掺杂比例不同发生变化;3mo1％ Cu2+掺杂ZnO(120℃,10 h)样品对应元件对低浓度乙醇有很好的选择性,在395℃工作温度下对1×10-3乙醇的灵敏度为380,5,响应和脱附时间分别为5s和40 s,对1×10 6乙醇的灵敏度可达4.2.
关键词:
ZnO
,
纳米棒
,
气敏性能
白林山
,
梁淼
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储向峰
,
董永平
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张王兵
稀有金属材料与工程
利用化学机械抛光方法对锇基片进行表面平坦化处理,通过自制抛光液研究不同表面活性剂对锇化学机械抛光效果的影响.采用电化学分析方法和X射线光电子能谱(XPS)仪分析表面活性剂对锇抛光的影响,利用原子力显微镜(AFM)观察抛光后锇的表面形貌.结果表明:加入四甲基氢氧化铵(TMAOH)后,金属锇的去除速率从5.8 nm/min降低到2.9 nm/min,同时锇表面粗糙度从2.1 nm上升到4.8 nm;聚乙二醇400 (PEG-400)、六偏磷酸钠(SHMP)、十二烷基磺酸钠(SDS)3种表面活性剂虽然可以提高金属锇的抛光速率,但是在改善锇表面质量方面并没有帮助;十二烷基硫酸钠(SLS)和十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)不仅可以提高金属锇的抛光速率,而且可以得到更好的表面平坦化效果,其中十六烷基三甲基溴化铵效果更加明显,可以将锇表面粗糙度(Ra)降低到0.57 nm,同时将抛光速率提高到14.6 nm/min.
关键词:
化学机械抛光
,
锇
,
表面活性剂
,
电化学
