刘明
,
魏玮
,
曲盛薇
,
谷建峰
,
马春雨
,
张庆瑜
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.01096
采用反应射频磁控溅射方法, 在Si(001)基片上制备了具有高$c$轴择优取向的ZnO薄膜. 利用原子力显微镜、X射线衍射、透射光谱和室温光致荧光光谱等分析技术, 研究了氧分压对薄膜的表面形貌和光学特性的影响. 研究结果显示: 0.04～0.23Pa的氧分压范围内, ZnO薄膜存在三个不同的生长模式, 薄膜生长模式转变的临界氧分压分别位于0.04～0.08Pa和0.16～0.19Pa之间; 在0.16Pa以下时, ZnO薄膜的表面岛呈+c取向的竹笋状生长; 当氧分压>0.19Pa时, 薄膜的表面岛以-c取向生长为主; ZnO薄膜的折射率、光学带隙宽度以及PL光谱强度均随着氧分压的增大而增大, 氧分压为0.19Pa时, 薄膜的发光峰最窄, 其半峰宽为88meV.
关键词:
ZnO薄膜
,
reactive radio-frequency magnetron sputtering
,
morphological analysis
,
optical properties
刘明
,
魏玮
,
曲盛薇
,
谷建峰
,
马春雨
,
张庆瑜
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.06.002
采用反应射频磁控溅射方法,在Si(001)基片上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.利用原子力显微镜、X射线衍射,透射光谱和室温光致荧光光谱等分析技术,研究了氧分压对薄膜的表面形貌和光学特性的影响.研究结果显示:0.04～0.23Pa的氧分压范围内,ZnO薄膜存在三个不同的生长模式,薄膜生长模式转变的临界氧分压分别位于0.04～0.08Pa和0.16～0.19Pa之间;在0.16Pa以下时,ZnO薄膜的表面岛呈+c取向的竹笋状生长;当氧分压＞0.19Pa时,薄膜的表面岛以-c取向生长为主;ZnO薄膜的折射率,光学带隙宽度以及PL光谱强度均随着氧分压的增大而增大,氧分压为0.19Pa时,薄膜的发光峰最窄,其半峰宽为88meV.
关键词:
ZnO薄膜
,
反应磁控溅射
,
形貌分析
,
光学特性
付伟佳
,
刘志文
,
谷建峰
,
刘明
,
张庆瑜
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00602
利用反应射频磁控溅射技术,通过对基体施加负偏压溅射ZnO薄膜,探讨了固定偏压下ZnO薄膜的表面形貌随沉积时间的演化以及不同偏压对ZnO薄膜表面形貌的影响. 研究结果表明,在-100V的偏压下,随着沉积时间的增加,ZnO薄膜的表面岛尺寸不断减小,密度逐渐变大. ZnO在基片表面成核过程中的本征缺陷成核阶段和轰击缺陷成核阶段的生长指数分别为(0.45±0.03)和(0.22±0.04),低速率成核过程基本消失;随着偏压增大,表面岛的尺寸变大,表面起伏增加. 偏压不但可以改变ZnO薄膜的成核和生长过程,而且影响薄膜的晶体取向.
关键词:
ZnO薄膜
,
反应射频磁控溅射
,
偏压
,
形貌分析
徐峰
,
张玉林
涂料工业
doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2004.05.017
研究了将谷朊粉溶解于水的方法和其在水性建筑涂料中的应用.谷朊粉的耐水性差,不能用作建筑涂料的主要基料,但其具有良好的粘结性、流动性和流平性,可用在合成树脂乳液内墙涂料中,作增稠剂使用,使涂料具有良好的流平性和涂膜外观,而成本与常用的增稠剂相差不大.
关键词:
谷朊粉
,
水性涂料
,
建筑涂料
,
涂膜外观
,
增稠剂
陈慧
,
戴乐
,
谢建新
,
白志平
,
贾敏慧
,
沈俭一
催化学报
doi:10.1016/S1872-2067(10)60294-X
采用液相还原法制备了介孔碳(CMC)担载的Pd催化剂,用于β-谷甾醇加氢制备β-谷甾烷醇反应.与活性碳担载的Pd催化剂相比,Pd/CMC的活性更高,这归因于该催化剂具有较大的孔径,从而有利于较大分子的催化加氢反应.
关键词:
钯
,
活性碳
,
负载型催化剂
,
介孔碳
,
孔径效应
,
微量吸附量热
,
β-谷甾醇
,
加氢
,
β-谷甾烷醇
