邓乾发
,
袁巨龙
,
文东辉
,
陶黎
,
王志伟
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.04.001
非晶态Ni-Pd-P合金薄膜具有非常好的热传导性和耐磨性,因而被广泛用作防护镀层.铜片由于其良好的导电性能被选为生长非晶态Ni-Pd-P合金薄膜的衬底材料.主要研究半固着磨具精密研磨非晶态Ni-Pd-P合金薄膜铜片衬底,以铜片衬底的表面粗糙度和材料去除率为评价指标,探讨了研磨过程中不同的工艺参数对铜片表面粗糙度和材料去除率的影响.结果表明:用800# SiC半固着磨具对铜片衬底进行研磨加工,10min后铜片表面粗糙度Ra可由0.553μm减小到0.28μm,同时表面无深划痕.加工后的铜片再经金刚石研磨膏抛光可快速获得满足Ni-Pd-P合金薄膜生长用的铜片衬底表面.
关键词:
铜片衬底
,
半固着磨具
,
表面粗糙度
,
材料去除率
,
Ni-Pd-P合金
,
薄膜
王吉翠
,
邓乾发
,
周兆忠
,
李振
,
袁巨龙
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.028
以SiO2为磨料,同时将MgF2微粉作为固相反应催化剂加入到SiO2磨料中,利用蓝宝石和SiO2之间的固相反应,通过去除生成的软质反应层的方法,对蓝宝石晶片进行机械化学研磨抛光,在获得良好的表面加工质量的同时,提高蓝宝石晶片加工效率.
关键词:
蓝宝石晶片
,
固相反应
,
SiO2
,
催化剂
,
MgF2
林旺票
,
王洁
,
杭伟
,
吴喆
,
邓乾发
,
袁巨龙
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.04.026
目的:实现玻璃材料的高效高质量低成本抛光。方法选择不同添加剂作为辅料制作固着磨料抛光磨具,阐明制作工艺流程、添加剂辅料配方及比例、固着磨料磨具对材料硬度、剪切强度等性能的影响。以工件材料去除率、表面质量以及磨耗比等作为评价指标分析不同添加剂辅料对加工效果的影响,并通过等效系数优化方法确定添加剂辅料的最优配方。结果碳化硅与钼酸铵可增加磨具的硬度和剪切强度,磨具中加入适量氧化铝可有效提高工件表面质量。结论固着磨料抛光磨具的添加剂辅料最优配方为:10.6%(质量分数)4000# Al2O3和2%(质量分数)10000# SiC。
关键词:
玻璃
,
固着磨料
,
磨具
,
抛光
林益波
,
赵天晨
,
邓乾发
,
袁巨龙
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.01.025
目的 验证介电泳抛光方法的有效性,研究电极形状对介电泳抛光方法均匀性、抛光效率和去除率的影响. 方法 选取直径76. 2 mm的单晶硅片为实验对象,进行传统化学机械抛光( CMP)实验和使用4种电极形状的介电泳抛光实验,每隔30 min测量硅片不同直径上的表面粗糙度以及硅片的质量,然后对测量的数据进行处理和分析. 结果 与传统CMP方法比较,使用介电泳抛光方法抛光的硅片,不同直径上的表面粗糙度相差小,粗糙度下降速度快,使用直径60 mm圆电极形状介电泳抛光时相差最小,粗糙度下降最快. 介电泳抛光方法去除率最低能提高11 . 0%,最高能提高19 . 5%,最高时所用电极形状为内径70 mm、外径90 mm的圆环. 结论 介电泳抛光方法抛光均匀性、效率和去除率均优于传统CMP方法.
关键词:
介电泳抛光
,
电极形状
,
单晶硅片
,
均匀性
,
表面粗糙度
,
去除率
孙清
,
李谷丰
,
邓乾民
,
刘杰民
,
时国庆
环境化学
doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2015.10.2015031001
为实现对环境及食品样品中黄曲霉毒素B1的高灵敏检测,通过优化一系列试剂盒参数,研制了一步间接竞争ELISA检测试剂盒.优化后的包被缓冲液为90 mmol·L-1、pH 4.6的柠檬酸缓冲液,最佳反应pH值为7.4,抗体包被浓度为0.2μg·mL-1, HRP?BSA?AFB1稀释比为1/4000,标品稀释液为含7%甲醇的PBST溶液.优化后试剂盒IC50值为66 pg·mL-1,检测限为7.6 pg·mL-1,检测线性范围为10—810 pg·mL-1.试剂盒对不同AFB1添加水平(0.5μg·kg-1,1μg·kg-1)的玉米、豆粕和鱼粉样品平均回收率为108.4%—134.8%.对玉米、豆粕和鱼粉样品各20份盲样测试结果表明,试剂盒检测结果与HPLC?MS/MS检测结果吻合.
关键词:
ELISA
,
黄曲霉毒素B1
,
残留
,
试剂盒
程国斌
,
韩梅
,
王刃
,
马伟
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2005.10.011
研究了NH+4型斜发沸石对盐水中钾离子的吸附行为,考察了竞争阳离子等对铵型斜发沸石吸附钾离子的影响. 结果表明,NH+4型斜发沸石对钾离子具有较强的选择吸附性与较大的饱和吸附容量,受钾离子初始浓度的影响,NH+4型斜发沸石吸附钾离子的行为在沸石相K+平衡分数YK+为0.5时发生较大转折. 竞争阳离子的存在在不同程度上抑制了铵型斜发沸石对钾离子的吸附,特别是钾离子与钠离子的相对比例直接影响NH+4型斜发沸石对混合液中钾离子的选择交换能力.
关键词:
NH+4型斜发沸石
,
竞争阳离子
,
选择吸附
,
吸附容量