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通过偶接金属铝,采用化学沉积方法制备Fe-W-P三元合金镀层,用电化学方法研究了镀液组成对Fe-W-P化学沉积行为的影响,并分析了偶接金属铝对合金沉积的诱导作用,对合金沉积的机理进行了初步探讨.结果表明,改变镀液组成和沉积工艺,沉积电位和沉积电流随之变化,增大镀液中NaOH和还原剂NaH2PO2·H2O的浓度,沉积电位负移,沉积速率增大,而随着钨酸钠的加入镀层的沉积速率稍有下降,表明钨酸钠对Fe-W-P的化学沉积有一定的抑制作用.偶接金属铝使体系的电位负移,降低了阴阳极极化电阻,诱导了Fe-W-P三元合金的共沉积.

关键词: 化学沉积 , Fe-W-P合金 , 偶接铝 , 电化学法

基于暗原色与逆暗原色融合的含明亮区域图像去雾

龚昌来 , 罗聪 , 申志强

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163108.0831

针对暗原色先验模型对于图像明亮区域不适应，暗原色估计偏大，导致透射率估计偏小，出现色彩失真现象，本文介绍一种新的暗原色修正方法.提出一种逆暗原色概念，将雾化图像的暗原色与逆暗原色进行融合处理得到一种新的修正暗原色，从而获得比较真实的明亮区域透射率，有效消除了明亮区域的色彩失真.以有效细节强度、色调还原程度、结构信息及综合测评作为图像质量评价指标，与目前流行算法进行对比实验，本文算法的色调还原程度指标平均值提高41．1％，综合测评指标平均值提高48．7％.实验结果表明，本文算法在改善明亮区域色彩失真及提高去雾图像总体质量方面优于目前流行算法.

关键词: 图像去雾 , 暗原色先验 , 逆暗原色 , 明亮区域

中国一定会圆世界钛工业强国之梦——访宝钛集团有限公司总经理邹武装

陈岩

钛工业进展 doi:10.3969/j.issn.1009-9964.2011.03.013

关键词:

中国腐蚀与防护学会腐蚀电化学及测试仪器使用经验专题讨论会在天津召开

中国腐蚀与防护学报

<正> 中国腐蚀与防护学会腐蚀电化学及测试仪器使用经验专题讨论会1984年4月10日至16日在天津市召开。来自全国各地70多个单位120多名代表出席了这次会议。会议邀请了上海师院化学系电化学教研室章宗稂副教授报告了美国电化学研究技术近况;天津市电子仪器厂总工程师邹大稼介绍了动态分析与信息革命。会议分下列六个专题进行了讨论: 1.新研制的仪器和新建立的测试方法

关键词:

化学修饰法表征Bacillus smithii T7产耐热菊粉酶催化活性中心的必需氨基酸残基

刘彬 , 王静云 , 包永明 , 张帆 , 安利佳

催化学报

采用化学修饰法研究了史氏芽胞杆菌Bacillus smithii T7产耐热菊粉酶活性中心氨基酸残基,发现该酶活性中心存在一个组氨酸残基和一个谷氨酸(或天冬氨酸)残基.修饰前后的酶动力学参数变化表明组氨酸残基参与了底物的结合和催化过程,而谷氨酸(或天冬氨酸)的羧基亲核攻击促使底物分解.邹氏作图法证明酶活性中心存在两个必需的色氨酸残基,荧光和圆二色光谱研究表明色氨酸残基在酶的催化和酶的耐热性方面起重要作用.

关键词: 菊粉酶 , 化学修饰 , 活性中心 , 氨基酸残基 , 催化

LTNF常温Ni-Fe合金镀层的耐蚀原因分析

黄树坤 , 邹振华 , 邝少林 , 肖觉民 , 吴力军

中国腐蚀与防护学报

ＬＴＮＦ常温Ｎｉ－Ｆｅ合金镀层的耐蚀原因分析黄树坤，邹振华，邝少林（湖南大学化学化工系长沙４１００８２）肖觉民，吴力军（湖南大学材料测试中心）１前言通常的瓦特镀镍工艺在常温下得到的镍镀层发暗，应力大且耐蚀性差，不宜作为防护装饰性镀层使用．我们曾提出一种节能、省镍的ＬＴＮＦ常温Ｎｉ－Ｆｅ合金电镀工艺［１］，由该工艺得到的镀层不但光亮，而且应力低，耐蚀性优良，可作为防护装饰性镀层使用．本文报导关?...

关键词: null , Anti-corrosion , Lamellar Structure

一种改进的容差机制图像去雾算法

龚昌来 , 罗聪

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163111.1098

针对经典容差机制图像去雾算法存在的对部分明亮区域透射率提升力度不够，难以彻底消除色彩失真问题，本文提出一种改进算法。将原算法中对明亮区域透射率根据容差进行双曲线提升修正变为线性提升修正，使透射率平稳提升，并适当增大了透射率提升力度，有效消除色彩失真。以方差和色调还原度作为图像去雾的客观质量评测指标，与暗原色先验算法和经典容差机制算法进行对比实验。实验结果表明，本文算法在改善明亮区域色彩失真及提高图像去雾效果方面优于对比算法。

关键词: 图像去雾 , 暗原色先验 , 透射率 , 容差机制 , 明亮区域

CdSe量子点的合成及其对潜指纹的荧光显现研究

许尊炼 , 伊魁宇 , 马子宁 , 王猛 , 刘显峰

合成材料老化与应用

以水热法在水相中直接合成了巯基乙酸修饰的CdSe量子点,并将合成的CdSe量子点进行表征、纯化.在波长365 nm紫外光的激发下,CdSe量子点发射出明亮的黄绿色荧光,荧光发射峰约位于528nm,将得到的CdSe量子点纳米发光材料应用于非渗透性客体上潜指纹的荧光标记成像研究,发现CdSe量子点溶液显现的手印纹线流畅,显现细节特征明显,呈现明亮的黄绿色荧光指纹,具有很高的实用价值和鉴定价值.

关键词: CdSe量子点 , 潜指纹 , 荧光显现