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掺杂浓度及退火对Ta-ZnO透明导电薄膜表面形貌的影响

陈进军 , 曹铃 , 宋学萍 , 孙兆奇

功能材料

室温下采用射频磁控溅射法在硅衬底上制备了掺Ta-ZnO透明导电薄膜,并在不同温度下退火处理.利用原子力显微镜、X射线光电子能谱仪对薄膜进行了表征分析,对于不同掺杂比例的Ta-ZnO薄膜以及退火后的Ta-ZnO薄膜的表面形貌进行了研究. 当掺杂比例为5%(质量分数)时,薄膜有最大平均颗粒尺寸94.46nm和最小表面粗糙度4.48nm.随着退火温度的升高,该薄膜表面粗糙度(RMS)先增加后减小,平均颗粒尺寸在94.46~118.05nm之间.

关键词: Ta-ZnO薄膜 , 射频磁控溅射 , 掺杂 , 表面形貌 , 退火

热喷涂雷达吸波涂层研究现状与展望

周亮 , 崔珊 , 罗发 , 李彤彤 , 刘成成 , 华东鹏 , 张小芳

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.017.009

随着先进军事探测技术的发展,热喷涂雷达吸波涂层在航空航天和军事装备等领域具有巨大的应用前景.简要介绍了雷达吸波材料的工作机理,然后分别从热喷涂铁氧体、炭系材料、碳化硅、金属微粉和导电陶瓷5个方面综述了热喷涂雷达吸波涂层的研究现状,重点评述了热喷涂雷达吸波涂层的电磁参数及吸波性能调控途径.在此基础上,对热喷涂雷达吸波涂层的研究进展进行了系统的总结.最后,提出了热喷涂吸波涂层当前所亟需解决的问题.

关键词: 热喷涂 , 雷达吸波涂层 , 复介电常数 , 复磁导率 , 反射率

平面荧光灯背光模组设计

王海峰 , 杨淑燕 , 张凤生 , 李智

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.03.023

平面荧光灯(FFL)本身为面光源,可以节省光学组件的使用,进而减少背光模组的厚度,顺应了液晶显示器(LCD)向大屏幕显示器市场进军的潮流.文章以介电隔板充氙荧光灯为例,介绍了FFL,的发光原理,并进行了14 cm(5.6 in)平面荧光灯的结构设计和驱动电路设计.实验结果表明,所设计的FFL背光模组能够提供均匀平面光,且所提出的数字调光技术能够获得较宽的调光范围,对大屏幕LCD背光技术有借鉴意义.

关键词: 平面荧光灯 , 背光模组 , 液晶显示器 , 数字调光

文化大革命永放光芒——纪念中共中央一九六六年五月十六日《通知》十周年

金属学报

<正> 十年前,伟大领袖毛主席亲自主持制定了中共中央五月十六日《通知》。这个光辉的马克思主义文献,吹响了无产阶级文化大革命的进军号,照亮了这场革命的胜利航程。今天,在批判邓小平、反击右倾翻案风的斗争取得伟大胜利的时候,热烈庆祝文化大革命十周年,重新学习《通知》,我们更加深刻地认识到这场革命的必要性和它的深远意义,对于坚持无产阶级专政下的继续革命,更加充满信心。 《通知》是在毛主席为首的无产阶级司令部同刘少奇为头子的资产阶级司令部的激烈斗争中诞生的。它深刻地批判了刘少奇反革命的修正主义路线,揭露了《二月提纲》

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