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SiC 晶须表面成分和涂层对抗氧化性的影响

用XPS、BET 和EPR 方法对五种SiC 晶须的表面成分、比表面、Si 悬挂键进行了测定。用TG-DTA 方法研究了表面涂层和未涂层的SiC 晶须的抗氧化性能。结果表明:SiC 晶须的抗氧化性主要取决于起始表面氧含量;在表面涂覆Al_2O_3,SiO_2和Mullite 后,SiC 晶须无论是表面抗氧化性和体积抗氧化性均得到显著改善。表面抗氧化性的改善是由于涂层使SiC 表面Si 悬挂键减少,而体积抗氧化性改善是由于涂层增加了氧扩散阻力。

关键词: SiC晶须 , surface composition , coating , oxidation resistance

彩色显象管用超低碳荫罩带钢的发展

关海玲 , 李俊 , 李大永 , 彭颖红

钢铁研究学报

介绍了对超低碳荫罩带钢的要求和国内外发展概况，并展望了超低碳AK荫罩带钢的发展方向。

关键词: 带钢;荫罩;彩色显象管;发展

彩色显象管用超低碳荫罩带钢的发展

关海玲 , 李俊 , 李大永 , 彭颖红

钢铁研究学报

介绍了对超低碳荫罩带钢的要求和国内外发展概况,并展望了超低碳AK荫罩带钢的发展方向.

关键词: 带钢 , 荫罩 , 彩色显象管 , 发展

CRT荫罩制造技术及其在平板显示等领域的应用

冯克勤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2003.03.014

CRT荫罩制造工艺的基础技术是光刻腐蚀.将应用于制造荫罩的精密光刻精细腐蚀技术引伸应用到平板显示、微电子、微机械等领域,可以制作出高精度OLED金属掩膜版,LCD、PDP光学掩膜版等,使这一非常成熟的工艺焕发出新的活力.

关键词: 平板显示 , 荫罩 , 光刻 , 精细腐蚀 , 掩膜版

显示器荫罩用因瓦合金的高温变形行为与力学特性

南俊马 , 李光新 , 徐可为 , 王宏兴 , 宋利建 , 窦秀英

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2001.01.006

因瓦合金因具有低的膨胀系数而用于制作显示器荫罩。为在200℃成形条件下建立合理的加工工艺，有必要研究它的高温响应。在加热炉内对试样进行拉伸试验，并用应变计测量。结果表明,对于790～850℃退火试样，变形抗力随加热温度从室温升至180℃而明显下降，此后在180～220℃时屈服强度与抗拉强度分别稳定在120～130MPa和300～320MPa内，且在试验条件下提高退火或加热温度，延伸率增大，但弹性模量基本不变化。

关键词: 因瓦合金 , 荫罩 , 高温力学特性

荫罩型等离子体显示屏老练测试仪

杨晓伟 , 陈福朝 , 汤勇明 , 郑姚生

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2003.04.005

老练测试在研制荫罩型等离子体显示屏(SM-PDP)过程中起着非常关键的作用.以往等离子体显示屏的老练只是一种单纯的点屏实验过程,而基于SM-PDP的特点所研制的老练测试仪则兼顾了老练与测试功能,使老练和测试完全自动化.一种适用于SM-PDP的老练测试仪的设计与实现,是将原有的基本老练过程改进为老练测试过程;这不仅要求改变驱动的激励方式,而且需求一种有效的测试方法,从而达到较全面地了解制屏质量的目的.实验及测试表明,使用这种老练测试仪不但能改善SM-PDP的发光一致性和均匀性,而且能有效地衔接制屏工艺、点屏老练以及测试过程,从而提高了制屏成品率并降低了老练过程中的屏损坏率.

关键词: 等离子体显示屏 , 荫罩 , 老练测试 , 保护电路

晶体发射层对荫罩式等离子体显示屏性能的影响

吴敏霞 , 李青 , 匡文剑

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2010.04.016

在荫罩式等离子体显示板(SMPDP)中的MgO薄膜表面制作了一层纳米级的晶体发射层(CEL),研究其对SMPDP性能的影响,对比了前后板都制备CEL和仅在后板制备CEL两种情况下,显示屏的亮度、响应时间和发光效率的变化情况,得到的结论是制作CEL可以很好地改善SMPDP的特性,而且在前后板都制备CEL改善效果更加明显.

关键词: SMPDP , CEL , MgO , 亮度 , 发光效率