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  • 论文(13)

分形理论在材料研究中的应用和发展

文洪杰 , 彭达岩 , 王资江 , 高立春

钢铁研究学报

从分形几何角度简要介绍了分形理论的主要内容以及典型分形及其维数的计算方法.综述了分形理论在材料制备科学和材料断裂力学行为研究中的应用,并探讨了分形理论今后的发展趋势.

关键词: 分形 , 材料科学 , 应用

碳热还原氮化法制备β-Sialon粉体的研究

刘明 , 高立春 , 徐利华 , 仉小猛 , 王缓 , 王体壮

人工晶体学报

采用山西大同土为主要原料,利用碳热还原氮化法(CRN)制备了β-Sialon材料,并利用SEM、XRD等检测手段对其进行了检测分析.研究了温度、N2流量、保温时间以及配碳量等因素对制备β-Sialon的影响,采用正交设计的方法确定了反应的最佳工艺参数,并在此基础上讨论了α-Si3N4晶种对生成产物的...

关键词: 大同土 , Sialon粉 , 碳热还原氮化法

基于稀土催化在苯乙烯中合成苯乙烯/异戊二烯/丁二烯三元共聚物

李立 , 许蔷 , 庄彬彬 , 张长浩 , 王玉荣 , 李杨

高分子材料科学与工程

采用钕系稀土催化剂Nd(P204)3/Al(i-Bu)2 H/CHCl3,以苯乙烯为溶剂兼做单体,进行苯乙烯(St)/异戊二烯(Ip)/丁二烯(Bd)三元共聚合反应,制备St/Ip/Bd三元集成橡胶(SIBR).研究了经I p、Bd陈化的催化剂对聚合活性的影响,重点考察了催化剂各组成用量对共聚合的影...

关键词: 钕系稀土催化剂 , 苯乙烯/异戊二烯/丁二烯 , 共聚合反应 , 组分含量调控

偏压对磁控溅射沉积立方氮化硼薄膜的影响

徐锋 , 左敦稳 , 张旭辉 , 户海峰 , 王珉

人工晶体学报

合适的衬底偏压是物理气相沉积制备cBN的必须条件,本文采用基于蒙特卡洛方法的SRIM软件对PVD过程中离子轰击衬底进行了分析,并进行了相关的实验研究.仿真与实验结果显示,随着离子轰击能量的增加,离子轰击深度和范围扩大,有利于cBN的成核与生长,但是过大的轰击能量会导致薄膜表面N与B元素的不匹配以及薄...

关键词: 立方氮化硼薄膜 , 磁控溅射 , 衬底偏压 , 离子轰击 , 立方相

电场退火对3104铝合金板显微组织与再结晶织构的影响

胡卓超 , 赵骧 , 左良 , 王福 ,

中国有色金属学报

利用三维取向分布函数(ODF)和透射电镜(TEM)等方法研究了电场退火对冷轧3104铝合金板材再结晶、第二相粒子和再结晶织构的影响.结果表明:电场退火具有抑制铝合金板再结晶形核和长大的作用,但并未改变其再结晶形成机制;促进了第二相粒子MnAl6长大;有利于提

关键词: 电场 , 3104铝合金板 , 显微组织 , 再结晶织构 , 第二相粒子

热轧带钢边部黑线产生机理

夏小明 邸洪双 高映

钢铁研究学报

梅钢1422热轧带钢边部黑线一度成为产品质量的重大问题。为此根据轧线特点,对可能影响因素如热卷箱、辊道、水平轧机、立辊轧机、立辊各道次侧压量、负荷系数及立辊孔型等逐一进行工业试验与分析。结果表明采用立辊孔型是解决问题的关键因素,提高立轧温...

关键词: 热轧带钢;黑线;试验;立辊孔型

热轧带钢边部黑线产生机理

夏小明 , 邸洪双 , 高映

钢铁研究学报

梅钢1422热轧带钢边部黑线一度成为产品质量的重大问题.为此根据轧线特点,对可能的影响因素,如热卷箱、辊道、水平轧机、立辊轧机、立辊各道次侧压量、负荷系数及立辊孔型等逐一进行工业试验与分析,结果表明,采用立辊孔型是解决问题的关键因素,提高立

关键词: 热轧带钢 , 黑线 , 试验 , 立辊孔型

离子液体Zn[CO(NH2)2]3Cl2介质中二肽催化醛的不对称α-氯代反应

张宝华 , 史兰香 , 刘胜宝

应用化学 doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2015.07.140383

以二肽Pro-Trp为催化剂,2,3,4,5,6,6-六氯-2,4-环己二烯-1-酮为氯化剂,离子液体Zn[CO(NH2)2]3Cl2为溶剂,在N-甲基吗啉(NMM)存在下,各种醛能够高收率、较高立体选择性地完成羰基α-卤代反应,目标产物...

关键词: 六氯-环己二烯-酮 , 离子液体 , 二肽 , 氯化 ,

立方氮化硼薄膜及溅射沉积的研究进展

王少鹏

硬质合金 doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2013.10.008

溅射沉积由于获得的cBN薄膜颗粒尺寸小、立方相含量高,是cBN薄膜制备技术发展的一个重要方向.本文介绍了溅射沉积过程中的基体负偏压、沉积气氛、沉积温度、靶材功率等工艺参数对cBN薄膜中立方相的含量和薄膜性能的影响规律.并从优化沉积工艺参数、采用过渡层及在膜层中引入其它元素方面介绍了在降低膜层应力方面...

关键词: 溅射沉积 , cBN , 研究进展

移动Ni-5W基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究

刘慧舟 , 杨坚 , 张华 , 古宏伟

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2008.05.017

采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法.利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析.结果表明:通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动Ni-5W合金基带上制备

关键词: 涂层导体 , 连续沉积(隔离层) , Y2O3 , 电子束蒸发 , 溅射

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