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通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W⁶⁺逐渐被还原为W⁵⁺.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO₃/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.

关键词: 直流反应溅射 , polycrystalline tungsten oxide films , infrared reflectance , null , null

化学镀Ni-P-SiC复合镀层的研究

俞世俊 , 宋力昕 , 黄银松 , 赵荣根 , 胡行方

无机材料学报

采用化学复合镀工艺,成功地制备出了不同颗粒含量的Ni-P-SiC复合镀层,SiC颗粒均匀分布于镍磷合金基质中.复合镀层的镀态硬度随颗粒的复合量增加成线性上升;经400℃,1h热处理后,复合镀层硬度得到进一步提高,最大硬度为HV₅₀1435.磨损试验表明,400℃,1h热处理后,复合镀层磨损率只有相同磷含量镍磷镀层的30％,其耐磨性能比中碳钢提高了近一个数量级.

关键词: 化学镀 , composite coatings , wear resistant property

多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究

黄银松 , 章俞之 , 宋力昕 , 胡行方

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.06.030

通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.

关键词: 直流反应溅射 , 多晶氧化钨薄膜 , Raman散射 , 红外反射 , 发射率

化学镀Ni-P-SiC复合镀层的研究

俞世俊 , 宋力昕 , 黄银松 , 赵荣根 , 胡行方

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.03.033

采用化学复合镀工艺,成功地制备出了不同颗粒含量的Ni-P-SiC复合镀层,SiC颗粒均匀分布于镍磷合金基质中.复合镀层的镀态硬度随颗粒的复合量增加成线性上升;经400°C,1h热处理后,复合镀层硬度得到进一步提高,最大硬度为HV501435.磨损试验表明,400°C,1h热处理后,复合镀层磨损率只有相同磷含量镍磷镀层的30%,其耐磨性能比中碳钢提高了近一个数量级.

关键词: 化学镀 , 复合镀层 , 耐磨性能

Li+掺杂MoO3薄膜的制备与电致-光致变色特性研究

章俞之 , 黄银松 , 曹韫真 , 快素兰 , 宋力昕 , 胡行方

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2002.03.002

采用过氧溶胶-凝胶法在室温下制备了具有电致变色和光致变色特性的10mol%Li掺杂MoO3薄膜.对薄膜循环伏安特性和光学特性的测试结果表明,经120℃处理的Li+掺杂MoO3薄膜具有良好的电化学性能及电致变色性能.采用Raman光谱对Li+掺杂MoO3薄膜光变色前后结构的分析表明,薄膜经紫外光照后结构进行了重组,有序性增强,且吸收光谱研究表明薄膜具有较好的光致变色特性.

关键词: MoO3薄膜 , 电致变色 , 光致变色 , 溶胶-凝胶法

射频反应溅射氧化铌薄膜的电致变色性能研究

黄银松 , 章俞之 , 胡行方

无机材料学报

采用射频反应溅射法成功地制备了非晶态氧化铌薄膜,研究了它们的电致变色性能．这些薄膜在漂白态透明无色,而着色态则为灰褐色．循环伏安测试结果表明该薄膜具有良好的稳定性和很好的锂离子注入/抽出性能．５５０ｎｍ处的着色效率为１６．６８ｃｍ^２/Ｃ,在可见光区透过率调制幅度为２０%~３０%．结合Ｘ光电子能谱(ＸＰＳ)分析可以认为氧化铌薄膜的电致变色现象是由于锂离子和电子的共同注入与抽出,导致薄膜中的铌离子发生Ｎｂ^Ｖ和Ｎｂ^ＩＶ间的可逆氧化、还原反应引起的．

关键词: 氧化铌薄膜 , RF sputtering , electrochromism

用直流溅射工艺制备的氧化铌薄膜的性能

黄银松 , 章俞之 , 胡行方

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2002.05.013

采用直流反应溅射工艺制备了氧化铌(Nb2O5)薄膜,用XRD、AFM、AES和循环伏安等测试手段分析并研究了薄膜的组成、结构、表面形貌和电致变色性能间的关系.结果表明:在基底加热条件下可获得晶态TT-Nb2O5薄膜,沉积气压较高时的薄膜具有沿(100)面定向生长、结构相对较为疏松的柱状结构,这种薄膜具有良好的电化学稳定性,锂离子注入/抽出可逆性好,并具有灰色变色特性,在可见区(波长600 nm)的透过率调制幅度为35%.

关键词: 微观结构 , 表面形貌 , 氧化铌薄膜 , 直流反应溅射 , 电致变色

射频反应溅射氧化铌薄膜的电致变色性能研究

黄银松 , 章俞之 , 胡行方

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.03.042

采用射频反应溅射法成功地制备了非晶态氧化铌薄膜,研究了它们的电致变色性能.这些薄膜在漂白态透明无色,而着色态则为灰褐色.循环伏安测试结果表明该薄膜具有良好的稳定性和很好的锂离子注入/抽出性能.550nm处的着色效率为16.68cm2/C,在可见光区透过率调制幅度为20%～30%.结合X光电子能谱(XPS)分析可以认为氧化铌薄膜的电致变色现象是由于锂离子和电子的共同注入与抽出,导致薄膜中的铌离子发生Nbv和NbIV间的可逆氧化、还原反应引起的.

关键词: 氧化铌薄膜 , 电致变色 , 射频反应溅射