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质量分数为10%的壳聚糖溶液通过乳液法与戊二醛交联合成了壳聚糖微球(CM),在其表面吸附一层Fe3O4制得磁性壳聚糖微球(MCM). 用扫描电镜、红外光谱仪、原子吸收分光光度计和紫外吸收分光光度计对合成的高分子微球进行了形貌观察和结构表征. 结果表明,降低壳聚糖的分子量,有利于合成单分散性好、粒径小(＜1 μm)的微球;体外测试表明,CM包封阿斯匹林(AS)微球(CM-AS)在1 h内释药量达40%,而MCM-AS仅为15%,CM-AS和MCM-AS释药量达50%的时间分别为1.4和5 h;MCM和MCM-AS均具有较强的磁性,后者在外磁场作用下能够实现靶向给药.

关键词: 壳聚糖 , 磁性微球 , 靶向给药 , 阿斯匹林

水披覆转印工艺

王绪建

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.04.007

介绍了水披覆转印工艺流程.指出了前处理、喷底漆、烘干、转印、补膜和喷面漆等各工艺注意事项.对影响转印膜质量的各种因素包括活化剂、界面剂、转印温度等进行了讨论.

关键词: 水披覆转印 , 转印膜 , 工艺流程 , 活化剂

合理选用烫印工艺参数

许小锋 , 刘继光

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.02.019

论述了电化铝烫印加工过程中电化铝箔的选择,烫印版的制作与安装,烫印工艺参数的确定与烫印质量的关系.

关键词: 电化铝烫印 , 烫印版 , 印刷品 , 电化铝箔

带钢板形质量对表面横折印的影响

高荣庆 , 吴庚亮

上海金属 doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2010.06.014

针对冷轧平整横折印缺陷进行了分析,重点阐述了轧制板形质量和轧制外形对退火粘结和横折印的影响,提出轧制板形质量的控制要求,有效地控制了横折印缺陷.

关键词: 带钢 , 轧制板形 , 表面 , 横折印

钇改性PZT薄膜的极化印刻研究

仇萍荪 , 罗维根 , 丁爱丽

无机材料学报

铁电ＰＺＴ薄膜的极化印刻（ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）是ＰＺＴ不挥发存储器失效的重要原因之一．本文研究了不同钇量改性的ＰＺＴ（４０／６０）铁电薄膜在高温（１２０℃）和偏置电压下的极化印刻特性，发现适量的钇掺杂，改善了ＰＺＴ薄膜电容器单元的极化印刻．

关键词: 铁电薄膜 , Y-dopped PZT（40/60） thin films , imprinting

钇改性PZT薄膜的极化印刻研究

仇萍荪 , 罗维根 , 丁爱丽

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2001.05.024

铁电PZT薄膜的极化印刻(imprinting)是PZT不挥发存储器失效的重要原因之一.本文研究了不同钇量改性的PZT(40/60)铁电薄膜在高温(120℃)和偏置电压下的极化印刻特性,发现适量的钇掺杂,改善了PZT薄膜电容器单元的极化印刻.

关键词: 铁电薄膜 , Y-PZT薄膜 , 印刻(imprinting)

叔碳酸酯改性聚酯印铁涂料的研制

李忠军

合成材料老化与应用 doi:10.3969/j.issn.1671-5381.2002.03.004

采用叔碳酸酯为原料合成高固体含量聚酯树脂,与甲醚化三聚氰胺甲醛树脂交联制备聚酯印铁涂料;研究了叔碳酸酯的添加量对涂膜性能的影响,研究发现当叔碳酸的添加量为3%～5%,聚酯印铁涂料具有良好的耐冲击性能、优异的附着力和耐化学品性 .

关键词: 聚酯树脂 , 环氧树脂

试用齐波夫定律预测夹皮沟金矿资源量

董耀松 , 王伟东

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2004.03.004

应用齐波夫定律预测资源量的方法简单,有效.本文使用齐波夫定律对夹皮沟金矿区的资源量进行预测,结果表明:夹皮沟金矿区具有可观的金资源潜力.同时,分析了应用齐波夫定律存在的问题,提出了解决问题的初步设想.

关键词: 夹皮沟金矿区 , 齐波夫定律 , 资源量

热处理中厚板辊印分析及解决实践

唐郑磊 , 陆岳璋 , 许少普 , 杨阳

中国冶金 doi:10.13228/j.boyuan.issn1006-9356.20140146

在辊底式热处理炉生产中，研究了炉底辊结瘤物产生原因及组成，明确了热处理中厚板辊印产生机理，提出高温纤维复合炉底辊彻底解决钢板辊印的实践经验，得出了高温纤维炉底辊表面不氧化、不烧结、不结瘤，高温状态下硬度低于钢板的硬度，有效解决了钢板表面质量问题，且承耐磨性好，结构强度高，急冷热性能好，能适应辊底炉进出料端为开口式生产模式。

关键词: 辊印 , 中厚板 , 表面质量 , 热处理

格列齐特的平行催化氢波及其应用

马淮凌 , 曹广秀 , 韦秀华

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2008.01.020

对格列齐特在缓冲溶液中的电化学行为进行了研究,提出了一种灵敏、快速测定格列齐特的新方法为平行催化氢波法. 在NH3H2O-NH4Cl (pH=8.89±0.1)支持电解质中,格列齐特产生1催化氢波,峰电位Ep=-1.49 V(vs.SCE). 加入氧化剂K2S2O8后,该催化氢波被催化,峰电流增加约30倍,峰电位基本不变,产生1较灵敏的平行催化氢波. 其二阶导数峰峰电流i'p与格列齐特浓度在1.0×10 -8 ～6.0×10 -6 mol/L范围内呈线性关系(r=0.997 0,n=10),检出限为5.0×10 -9 mol/L. 测定了片剂中格列齐特的含量,并对加标尿样进行了回收实验,结果准确、可靠,可用于药物制剂中格列齐特含量的测定.

关键词: 格列齐特 , 过硫酸钾 , 平行催化氢波

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磁性壳聚糖微球的制备、表征及其靶向给药研究

水披覆转印工艺

合理选用烫印工艺参数

带钢板形质量对表面横折印的影响

钇改性PZT薄膜的极化印刻研究

钇改性PZT薄膜的极化印刻研究

叔碳酸酯改性聚酯印铁涂料的研制

试用齐波夫定律预测夹皮沟金矿资源量

热处理中厚板辊印分析及解决实践

格列齐特的平行催化氢波及其应用

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