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  • 论文(11)

Preparation of Porous GaN Buffer and Its Influence on the Residual Stress of GaN Epilayers Grown by Hydride Vapor Phase Epitaxy

Xinhua LI , Kai QIU , Fei ZHONG , Zhijun YIN , Changjian JI , Yuqi WANG , null , null , null , null , null , null

材料科学技术(英文)

The preparation of porous structure on the molecular beam epitaxy (MBE)-grown mixed-polarity GaN epilayers was reported by using the wet chemical etching method. The effect of this porous structure on the residual stress of subsequent-growth GaN epilayers was studied by Raman and photoluminescence (...

关键词: GaN , vapour , phase , epitaxy

EFFECT OF SPECIMEN SIZE ON J_R RESISTANCE CURVE

H.P. Chen and Z.J. Deng (State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials , Xi'an Jiaotong University , Xi'an 710049 , China)

金属学报(英文版)

The effect of specimen thinkness on JR resistance curve has been investigated using low and middle strength steels. As the J dominance regime is reached, the initial J-integral values, J(i), are definite even if the elastic component Ji(e) and plastic component

关键词: : fracture mechanics , null , null , null

加载速率对20g钢高温断裂韧性的影响

张淑佳 , 卢炎麟 , 任立义 , 洪起超

金属学报

对20 g钢高温断裂韧性随加载速率的变化规律进行了实验研究.在400℃和500℃下,分别测量了几种加载速率下20 g钢的Ji值.实验结果表明:Ji值随应变速率的增大而有较大幅度...

关键词: 断裂韧性 , null , null

加载速率对20g钢高温断裂韧性的影响

张淑佳 , 卢炎麟 , 任立义 , 洪起超

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.07.010

对20 g钢高温断裂韧性随加载速率的变化规律进行了实验研究.在400℃和500℃下,分别测量了几种加载速率下20 g钢的Ji值.实验结果表明:Ji值随应变速率的增大而有较大幅度...

关键词: 断裂韧性 , 加载速率 , 高温

基于遗传算法的MIVM预测合金溶液组元活度

周兰花 , 陶东平 , 曾富洪

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2011.04.011

在求解分子相互作用体积模型(MIVM)中的分子对位能参数B(ij),B(ji)时,为避免出现计算超量问题,基于遗传算法,提出了一种新算法--多个体参与交叉遗传算法,并给出了新算法的实现方案.在新算法中,采用了轮盘选种法与优秀个体保存、多个...

关键词: MIVM模型 , 分子对位能参数Bij , Bji , 遗传算法 , 活度

Effect of Enhanced Plasma Density on the Properties of Aluminium Doped Zinc Oxide Thin Films Produced by DC Magnetron Sputtering

Jun Gong

材料科学技术(英文)

Aluminum doped zinc oxide (AZO) thin films were prepared by DC magnetron sputtering at low substrate temperature. A coaxial solenoid coil was placed near the magnetron target to enhance the plasma density (Ji). The enhanced plasma density improved significantly the bulk resistivi...

关键词: Sputtering

遗传神经网络改进正规溶液模型及其在二元渣系中的应用

吴令 , 姜周华 , 龚伟 , 梁连科

金属学报

利用遗传神经网络对正规溶液模型组元交互作用能进行了改进, 使之更接近实际溶液活度模型, 并将其应用于 MnO--SiO2及CaO--Al2O3二元渣系的组元活度计算. 由于实际溶液的性质不同于正规溶液, 在模型对交互作用能 Ω Mn-Si和ΩSi-Mn的计算时发现, Ωij不仅是温度和组成的函数, ...

关键词: 炉渣 , Regular solution model , activity , NN , GA

Fenton处理下PVDF基体材料改性及其膜性能研究

杨艳琴 , 张宏忠 , 王明花

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2008.06.009

采用了一种新颖的改性(Fenton处理)PVDF基体材料的方法,以提高膜的润湿性和耐污染性,并对改性机理做了探讨.结果表明,经Fenton处理后制得的膜亲水性得到了提高,纯水通量由34.6 L/(m2·h)提高到52.3 L/(m2.h),膜表面水接触角由75°降为62.5°,黏附功由91.64 m...

关键词: Fenton试剂 , 聚偏氟乙烯(PVDF) , 改性 ,

低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响

李铸国 , 华学明 , 吴毅雄 , 三宅正司

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.016

用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值

关键词: TiN薄膜 , 物理气相沉积(PVD) , 择优取向 , 离子照射

遗传神经网络改进正规溶液模型及其在二元渣系中的应用

吴令 , 姜周华 , 龚伟 , 梁连科

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.07.006

利用遗传神经网络对正规溶液模型组元交互作用能进行了改进,使之更接近实际溶液活度模型,并将其应用于MnO-SiO2及CaO-Al2O3二元渣系的组元活度计算.由于实际溶液的性质不同于正规溶液,在模型对交互作用能ΩMi-Si和ΩSi-Mn的计算时发现,Ωij不仅是温度和组成的函数,而且在相同的温度和组成...

关键词: 炉渣 , 正规溶液 , 活度 , 神经网络 , 遗传算法

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