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Origin of Ordering Coupled Tweed Microstructures in Alloys with Large Atomic Size Factors

Xiaobing REN and Xiaotian WANG (College of Materials Science and Engineering , Xi'an Jiaotong University Xi'an 710049 , China)K.Shimizu and T.Tadaki (Institute of Scientific and Industrial Research , Osaka University , 8-1 , Mihoga-oka , Ibaraki , Osaka , 567 , Ja

材料科学技术(英文)

A theoretical study is developed on the evolution and mechanism of an ordering coupled phase separation, and on the origin of a resultant tweed microstructure. It is found that long-range elastic interaction among atoms with different atomic sizes plays a key role in the phase sep aration, and that the evolution of the phase separation is very similar to that Of conventional spinodal decomposition except that the separation is dependent on an elastic interaction order ing (EIO). This "EIO coupled spinodal decomposition" is shown to exhibit a periodical or tweed microstructure being accompanied by an EIO. It is also found that a large atomic size factor yields a large positive contribution of EIO to spinodal decomposition. Generally it is thermodynamically and kinetically favorable for the EIO to precede the onset of spinodal decomposition,though the former is not separable from the latter as a whole. We suggest that an initially disordered solid solution undergoes an EIO first, and then the partially ordered solid solution starts to decompose via a spinodal mechanism. Solute-enriched regions increase their degree of order along with an increase in solute content, and solute-depleted regions decrease their degree of order together with a decrease of solute content. The final microstructure is characterized by a periodical array of highly ordered solute-enriched regions and nearly disordered solute-depleted regions. The notion of EIO coupled spinodal decomposition is in general agreement with the transformation behaviour of a large number of alloy systems.

关键词:

低磷低锌复合阻垢缓蚀剂JA-211B在炼铁高炉净循环冷却水中的应用

华富林 , 葛老伟

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2005.11.005

文章报道了宝钢集团上海梅山钢铁股份有限公司2#炼铁高炉净循环冷却水用低磷低锌阻垢缓蚀剂JA-211B的试验开发和应用情况.经现场应用1年,从停炉体风打开水冷设备检查情况表明,JA-211B取得了很好的阻垢、缓蚀效果.

关键词: 高炉 , 净循环冷却水 , 低磷低锌 , 阻垢缓蚀剂 , 现场应用

盐酸介质中铝缓蚀剂抗干扰性能的研究

焦庆祝 , 王佳 , 李杰兰 , 丁言伟 , 王文娜

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.08.020

研究了盐酸介质中铝缓蚀剂JA-1的抗干扰性能.结果表明,JA-1是一种缓蚀效果好,抗干扰性强的缓蚀剂.

关键词: , 盐酸 , 缓蚀 , 抗干扰

电流密度对铝合金微弧氧化陶瓷膜显微硬度影响的研究

吴汉华 , 吕宪义 , 龙北玉 , 汪剑波 , 王秀琴 , 金曾孙 , 李哲奎

功能材料

采用微弧氧化技术在铝合金上制备了陶瓷膜.借助于先进的结构和表征手段,系统地研究了阳极电流密度ja和阴/阳极电流密度比jc/ja对铝合金微弧氧化陶瓷膜显微硬度的影响,实验结果表明,对于不同的jc/ja,陶瓷膜的显微硬度都随ja的变化而出现一个峰值,且不同jc/ja的峰值大小(显微硬度)和对应的ja有所不同.当ja=15A/dm2,jc/ja=0.7时,所制备的陶瓷膜显微硬度最高为4300HV.SEM和抗点腐蚀研究表明,jc/ja对陶瓷膜的微观结构和耐腐蚀性能影响很大.

关键词: 微弧氧化 , 陶瓷膜 , 电流密度 , 显微硬度

电流密度对铝合金微弧氧化陶瓷膜性能的影响

徐晓丹 , 佟金伟

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2010.07.001

主要研究了电流密度对铝合金表面微弧氧化膜组织和性能的影响,使用扫描电子显微镜、激光共聚焦电子显微镜和X-射线衍射仪对不同电流密度下制备的微弧氧化膜的表面形貌和相组成进行了分析,同时测定了其表面显微硬度.结果表明,铝合金表面微弧氧化膜主要由α-Al2O3和γ-Al2O3组成,而且Ja高对陶瓷膜中α-Al2O3相的影响较γ-Al2O3大,Jκ/Ja对膜中γ-Al2O3相的影响较大,对微观结构有较大影响.高Ja制备的陶瓷膜主要组成相为α-Al2O3,低Ja为γ-Al2O3相,并确定了当Ja为6 A/dm2, Jκ/Ja为0.8时陶瓷膜硬度最大可达1 540HV.

关键词: 微弧氧化 , 陶瓷膜 , 电流密度 , 显微硬度 , 铝合金

高效液相色谱-电喷雾质谱法分离和鉴别枯草芽孢杆菌产生的脂肽类化合物

陈华 , 王丽 , 袁成凌 , 郑之明 , 余增亮

色谱 doi:10.3321/j.issn:1000-8713.2008.03.016

枯草芽孢杆菌JA因产生多种脂肽类化合物而具有广阔的开发前景.JA发酵液经过离心、酸沉淀、甲醇抽提等步骤得到脂肽类化合物的粗提物.将粗提物溶于流动相,采用反相高效液相色谱分离,对收集的洗脱峰组分进行电喷雾质谱(ESI-MS)分析.根据质荷比推断JA菌株产生的脂肽类化合物属于3个家族,分别为surfactin, iturin和fengycin,是枯草芽孢杆菌合成的重要生物表面活性素.对一级质谱中的主成分进行串联质谱分析,进一步确定了3种脂肽类化合物的分子结构.实验证明ESI-MS是一种鉴定脂肽类化合物及其同系物的可靠方法.

关键词: 高效液相色谱-电喷雾质谱法 , 枯草芽孢杆菌 , 脂肽类化合物

AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究

冯晋阳 , 吴贝 , 赵修建

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.04.011

研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺.确定了电化学抛光体系的配方.探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响.获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25 A/dm2,θ=85~93 ℃,t=10~15 min,机械搅拌.新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础.

关键词: 高纯铝 , 电化学抛光 , AAO模板 , 硫酸-磷酸-乙二醇体系

连铸净循环水系统不停车化学清洗和预膜的应用研究

陈志华 , 葛老伟

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2004.12.010

介绍了宝钢集团上海梅山炼钢厂一连铸净循环水系统在正常运行状态下,采用JA系列水质稳定剂进行不停车清洗和预膜的方案及实施效果.由于采用了有效的清洗预膜药剂和科学方案,使清洗和预膜过程安全可靠、操作和管理简便,取得了比较理想的效果.

关键词: 连铸净循环水系统 , 化学清洗 , 预膜

酸性镀铜添加剂对电沉积循环伏安曲线成核环的影响

辜敏 , 吴亚珍

材料保护

金属电沉积的循环伏安(CV)曲线上的成核环可以用于分析添加剂对电沉积的影响及其作用机理.以常用的3种酸性镀铜添加剂为例,探讨了不同添加剂下成核环的形成特点,并从其成核环的位置以及构成成核环的电流曲线来探讨添加剂对铜沉积的影响及其机理.结果表明:当成核环分别位于不加添加剂的阴极电位和阳极电位方向时,添加剂对金属电沉积分别具有阻化和促进作用;阴极扫描方向电流密度Jb和回扫的阳极电流密度Ja是CV曲线成核环的两个特征参数,添加剂作用下的Ja和Jb与不加添加剂的接近,表明添加剂通过吸附-脱附机理影响金属的沉积,反之表明添加剂在电极表面参与化学反应.

关键词: 成核环 , 添加剂 , 循环伏安曲线 , , 电沉积

金属基带的连续非接触式电化学抛光

高永超 , 程好 , 杨淑平 , 庄维伟 , 蔡渊 , 张国栋

表面技术

目的 研发一种适合工业生产连续带材的非接触式电化学抛光方法.方法 采用以磷酸-硫酸为主要氧化剂的环保型电化学抛光液对金属基带进行电化学抛光,研究阳极电流密度(JA)、电解液温度(t)、基带与电极间的距离(L)和走带速度(v)对基带表面粗糙度的影响,优化抛光工艺条件.结果 优化的工艺条件如下:JA为1500 ~ 2500 A/m2,t为40 ~ 80℃,L为4~12 mm,v为0.5~1.8 m/min.在此工艺条件下进行电化学抛光,极为有效地降低了金属基带的表面粗糙度,光亮度达到镜面状态,原子力显微镜测试5μm×5μm范围内的表面平均粗糙度值低于1.0 nm.结论 该抛光工艺实现了千米级基带的连续性抛光,达到工业化生产要求.

关键词: 非接触式 , 电化学抛光 , 工艺条件 , 平均粗糙度

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