王育华
,
Endo Tadshi
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2003.05.002
为开发出等离子显示屏用新型红色荧光体,研究了GdAl3(BO3)4∶Eu,Gd2SiO5∶Eu的紫外和真空紫外发光特性.在147nm激发下GdAl3(BO3)4∶Eu3+呈色坐标为(0.645,0.330)的强红光发射,说明是非常有前途的PDP用红色发光材料.在GdAl3(BO3)4∶Eu3+的激发光谱中,除观察到Eu3+的电荷迁移带(峰值位于258nm)外,还观察到峰值位于155nm的宽带.依据硼酸盐的吸收数据将其归属于BO3基团的吸收.另外观察到Gd3+8S7/2→6I11/2跃迁(274nm)及在真空紫外(158～160nm)激发下,Eu3+的红光发射强度随着Eu3+浓度的增加而减弱,说明BO3基团吸收的能量经Gd3+为媒介转移到Eu3+.分析Gd2SiO5∶Eu的激发光谱,得到Eu3+的电荷迁移带是峰值位于256nm的宽带,峰值位于183nm的宽带可能是Gd3+的电荷迁移带.在256nm激发下Gd2SiO5∶Eu3+呈强红光发射,但是147nm激发下很弱.这是由于真空紫外激发效率低的原因,其特点可由其晶体结构即激活离子所处的环境解释.
关键词:
等离子显示屏
,
GdAl3(BO3)4
,
Gd2SiO5∶Eu
,
发光体
Applied Physics Letters
Based on a self-similar array model of single-walled carbon nanotubes (SWNTs), the pore structure of SWNT bundles is analyzed and compared with that obtained from the conventional triangular model and adsorption experimental results. In addition to the well known cylindrical endo-cavities and interstitial pores, two types of newly defined pores with diameters of 2-10 and 8-100 nm are proposed, inter-bundle pores and inter-array pores. In particular, the relationship between the packing configuration of SWNTs and their pore structures is systematically investigated. (c) 2005 American Institute of Physics.
关键词:
adsorption;nitrogen;fibers;ropes
刘堂林
,
李清华
,
何照林
,
张佳伟
,
王春江
催化学报
doi:10.1016/S1872-2067(14)60204-7
Cu(I)催化的亚甲胺叶立德和亚环丙基乙酸乙酯参与的不对称endo-1,3-偶极环加成反应,高效构建了多官能化、含有多个连续季碳中心的5-氮杂-[2,4]庚烷化合物.此反应具有广泛的底物适用性,α-取代的和α-非取代的亚甲胺叶立德和亚环丙基乙酸乙酯都能很好的参与反应,并以很高的产率、优秀的非对映选择性(95：5–>98：2 d.r)和对映选择性(87%–98% ee)生成相应的在2,3,4位上含有连续季碳中心的螺四氢吡咯化合物.
关键词:
不对称催化
,
季碳中心
,
1,3-偶极环加成
,
亚甲胺叶立德
,
亚环丙基乙酸乙酯
,
5-氮杂-2,4庚烷
李龙焕
,
郭建维
,
刘卅
,
易国斌
,
崔亦华
,
余林
合成材料老化与应用
doi:10.3969/j.issn.1671-5381.2006.02.001
以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTABr)为模板剂,三氯化铝为铝源在室温条件下合成了介孔硅铝分子筛A1-MCM-41.采用红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)、低温氮吸附等温线等方法对分子筛进行了结构表征.评价结果表明,A1-MCM-41分子筛对桥式四氢双环戊二烯(endo-TCD)具有良好的催化异构化性能.
关键词:
介孔分子筛
,
合成
,
表征
,
催化异构化
徐辉辉
,
隋丽
,
刘晓丹
,
汪黎
,
王潇
,
王豫
,
徐勤枝
,
周平坤
原子核物理评论
利用辐照质粒DNA构象变化的分子模型,以DNA糖苷酶Fpg和AP核酸内切酶Endo Ⅲ识别并切割辐射所致DNA碱基损伤,将其转换为DNA断裂损伤,通过电泳分析DNA分子构象变化,研究比较γ射线、质子和7Li离子诱发DNA集簇性损伤.50Gy以上高剂量γ辐射对质粒DNA的损伤主要表现为单链断裂(SSB)和很少比例的双链断裂(DSB),并能产生一定水平的集簇性损伤.相比之下,高能质子束和高LET的7Li离子直接所致DNA的断裂损伤以及所产生的集簇性碱基损伤比γ射线的要严重,质子10 Gy照射就可诱发明显的集簇损伤.
关键词:
DNA集簇性损伤
,
重离子
,
质子
,
γ射线
