刘文鹏
,
张庆礼
,
杨华军
,
周鹏宇
,
孙敦陆
,
高进云
,
谷长江
,
罗建乔
,
王迪
,
殷绍唐
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2011.02.018
采用固相反应法制备了Bi3+、Eu3+、Tb3+掺杂的Lu3TaO7.测量了样品的X射线衍射谱、激发和发射光谱及荧光衰减曲线.三种离子掺杂的Lu3TaO7均呈现出强的荧光发射,其中Bi3+具有峰位在431 nm处的一强发射宽带,衰减寿命为16.8μs,Eu3+、Tb3+则表现出稀土离子的特征锐发射峰,衰减寿命分别为1.26 ms和1.20 ms.因此,它们均是具有潜在应用前景的重闪烁体材料.
关键词:
材料
,
闪烁体
,
Lu3TaO7
,
发光
季振国
,
周荣福
,
毛启楠
,
霍丽娟
,
曹虹
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2009.09217
利用反应磁控溅射法制备了半导体锡锑氧化物薄膜 (TAO). 根据霍尔效应测试结果,当Sn/Sb 原子比处于0.22~0.33范围内时,TAO薄膜是p型导电的,在此范围之外,TAO薄膜是n型导电的. 光学带隙测量结果表明,不同Sn/Sb比的TAO薄膜的禁带宽度基本相同(~3.9eV).构造了一个全透明的PN结,其中n区为Sn/Sb原子比为0.5的TAO薄膜, p区为Sn/Sb原子比为0.33的TAO薄膜.n区TAO的电极用铟锡氧化物(ITO),p区TAO的电极用Cu薄膜.实验结果表明,由于两种导电类型的TAO薄膜具有相同的禁带宽度,上述透明PN结构具有典型的准同质PN结的整流特性.
关键词:
透明半导体薄膜
,
锡锑氧化物
,
PN结
Scripta Materialia
A recent comment on a previously published paper addressed the invalid explanation of the off diagonal interdiflusion coefficients of the beta-Ni(Al,Cr) phase in the Ni-Cr-Al system according to the symmetric property of the thermodynamic matrix. In this paper, the experimental data presented by Hou et al. was reanalyzed and the interdiffusion coefficient matrix was estimated again. The results of the analysis have been discussed in terms of a brief reply to the comments of Liu and Liang. (C) 2010 Acta Materialia Inc. Published by Elsevier Ltd. All rights reserved.
关键词:
Diffusion;Intermetallic compound;Ni-Cr-Al
张春路
,
丁国良
,
李灏
工程热物理学报
准确、快速、稳定地计算制冷剂热力性质是计算机辅助设计和工程计算的
要求。本文将隐式拟合方法与MartinHou方程相结合,提出制冷剂过热气体热力
性质的隐式拟合方法,该方法不仅具有形式统一、精度高、速度快、外推性和
稳定性好的优点,而且保证了过热区与两相区之间热力性质的连续性
关键词:
制冷剂
,
过热气体
,
热力性质
,
拟合
Physics of Life Reviews
Commentaries by Philip W.T. Pong, Nongyue He, S.D. Liang, Tao Song, Yuri Gaididei and Sergey Volkov and Alexander Y. Grosberg on my review article (Pang, 2011 [1]) are answered. The validity of Davydov's mechanism of bio-energy transport, the completeness of theory, outstanding problems, the normalization and validity of wave function of the system in Pang' model as well as other related problems are elucidated in detail. (C) 2011 Elsevier B.V. All rights reserved.
关键词:
biological temperature;3 channels;soliton;model
成艳
,
蔡伟
,
李洪涛
,
郑玉峰
,
赵连城
功能材料
采用多弧离子镀的方法在Ti-50.6%(原子分数)Ni形状记忆合金表面沉积了钽镀层.通过X射线光电子能谱(XPS)剖面分析发现TiNi合金表面钽镀层厚度均匀,并且在镀层与基体之间形成一薄层过渡层.将镀钽TiNi合金曝露于空气中后,通过XPS的全谱和高分辨谱图对其表面的成分和价态分析发现,镀钽层表面由于钽在空气中自然氧化形成了一层很薄的钽的氧化膜,最表面为高价钽的氧化物(Ta2O5),次表面为低价钽氧化物的混合物TaO2、TaO和TaOx(x<1).
关键词:
TiNi形状记忆合金
,
多弧离子镀
,
钽
,
镀层