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Kwang-Su Kim , Lin-Xiu Du , Cai-Ru Gao
金属学报 doi:10.1007/s40195-015-0249-1
关键词:
朱军 , 蒋宏民 , 陈翔 , 陈迪 , 刘景全
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.03.009
通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性
关键词: 最小曝光剂量 , PAG , 集成制造
陆振华 , 许宝建 , 金庆辉 , 赵建龙
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.03.015
PDMS是制作微流控芯片的主要材料.PDMS芯片制作的主要方法是模塑法,模塑法要求有良好的塑性成型模具.SU-8以其良好的微加工特性,目前已广泛应用于微机械结构的制作,也用于PDMS塑性成型的模具.本文根据模具的特殊性,如平整、无裂纹、可...
关键词: PDMS , 塑性成型 , SU-8模具 , 黏附性
刘俊 , 常梦洁 , 杜慧玲
高分子材料科学与工程 doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2016.04.023
利用静电纺丝和紫外光刻技术直接制备了不同结构的SU-8光刻胶纳米纤维薄膜及图案阵列.通过光学显微镜和扫描电子显微镜表征了纳米纤维的形貌、尺寸及结构.结果表明,通过改变SU-8光...
关键词: 静电纺丝 , 纳米纤维 , SU-8光刻胶 , 纤维图案
张金娅 , 陈迪 , 朱军 , 李建华 , 方华斌 , 杨斌
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.02.027
采用新型SU-8光刻胶在UV-LIGA技术基础上制备了各种高深宽比MEMS微结构,研究了热处理和曝光两个重要因素对高深宽比微结构的影响,解决了微结构的开裂和倒塌等问题;优化了SU
关键词: UV-LIGA技术 , SU-8胶 , 高深宽比微结构
黄纯青 , 万广仁
量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2005.01.009
构造了激发双模SU(2)相干态|M,ξ;m〉=AMξma+mb+m|M,ξ〉,并用数值方法研究其非经典特性.结果表明,在双模SU(2)相干态的两场模同时增加光子后,两模光场仍然...
关键词: 量子光学 , 非经典特性 , 激发 , 双模SU(2)相干态
张宗烨 , 余友文 , 袁秀青
原子核物理评论 doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2000.01.003
用手征SU(3)夸克模型分析了(0s)6组态的六夸克态能量，结果表明手征SU(3)介子场可以对某些多奇异数的态提供较强的吸引作用．进一步用共振群方法研究了(ΩΩ)0+及(Ω )...
关键词: 夸克模型 , 六夸克态 , 手征对称性
尚海鑫 , 褚金奎 , 高佳丽
高分子材料科学与工程
运用分子动力学(MD)的研究方法,经过分子聚合、能量最优化和退火模拟等构建了不同长细比的SU-8光刻胶模型,模拟研究了在室温条件下不同长细比的SU-8胶纳米尺寸模型的弹性模量、...
关键词: SU-8光刻胶 , 力学性能 , 分子动力学 , 长细比
朱学林 , 熊瑛 , 刘刚 , 田扬超 , 褚家如
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.02.029
提出了一种简易的基于SU8和PMMA的电泳芯片的制作方法,研究了PMMA基底上SU8胶微管道的光刻和薄膜微电极的lift-off制作工艺,探讨了PMMA材料特性对薄膜微电极和<...
关键词: SU8 , PMMA , 毛细管电泳芯片
杜立群 , 郭照沛 , 张晓蕾
运用分子动力学模拟软件Materials Studio针对SU-8胶与Ni基底的结合性进行模拟分析,计算了不同前烘温度下SU-8胶与Ni(100)面的结合能,发现在343K的前...
关键词: SU-8光刻胶 , Ni基底 , 结合能 , 分子动力学模拟
