姚杰
,
章佩娴
,
N.Du
,
K.P.Chik
材料研究学报
本文报告了LPCVD 制备的掺硼硅薄膜结构和物理性质分析,发现掺杂比R 在1×10~(-5)—4×10~(-2)的范围内,材料可划分为三种不同的相结构区:非晶态硅(a-Si)、非晶态硅-硼合金(a-Si∶B)和非晶态微晶硅(μc-Si)。物理性质测量也发现三种不同的结构区具有不同的特性和氢化规律。在...
关键词:
严东旭
,
刘天伟
,
龙重
,
白彬
,
张鹏程
,
黄河
,
郎定木
,
王晓红
,
朱建国
材料保护
采用单一的表面改性技术难以提高贫铀钛合金(Du-Ti)的耐蚀性能.采用等离子体浸没离子注入技术依次在Du-Ti合金表面注入N
关键词:
等离子体浸没离子注入
,
非平衡磁控溅射
,
复合膜
,
DU-Ti合金
,
电化学腐蚀
,
耐蚀性
Y.B. Hou
金属学报(英文版)
In this paper, the PMMA films doped with N,N'-diphenyl-N,N'-di(m-tolyl)-benzidineand rubrene were fabricated by spin coating, and the effect of photooxidation onthe photolumine...
关键词:
photoluminescence
,
null