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Calculation of AlN and MnS Precipitation in NonOriented Electrical Steel Produced by CSP Process

XIANG Li , YUE Erbin , FAN Dingdong , QIU Shengtao , ZHAO Pei

钢铁研究学报(英文版)

Combining with the study of analogue experiments and test analysis, the kinetics of precipitation and growth of AlN and MnS in nonoriented electrical steel produced by the CSP process is calculated. The results show that the precipitate phase particles of AlN and MnS in typical nonoriented electrical steel grades produced by the CSP process have grown to some extent in the soaking stage, but the precipitation contents are less than 20% of the total contents of nitride and sulfide. The precipitate phase particles of AlN and MnS have precipitated almost after the hot rolling process. The precipitation contents are more than 80% of the total contents of nitride and sulfide, but it is very late for the precipitate phase particles to grow at the end of the hot rolling process.

关键词: CSP;nonoriented electrical steel;calculation;AlN precipitation;MnS precipitation

CSD-La3TaO7薄膜外延生长行为

王耀 , 李成山 , 于泽铭 , 冯建情 , 金利华 , 王辉 , 张平祥

稀有金属

研究CSD技术制备La3TaO7 (LTO)缓冲层过程中前驱液的热分解行为以及热处理工艺对薄膜取向生长的影响,通过选取恰当的LTO前驱液以及快速升温热处理的方法最终获得了良好c轴织构的LTO薄膜.

关键词: 涂层导体 , 缓冲层 , 化学溶液沉积

Bi3+,Eu3+,Tb3+掺杂Lu3TaO7的发光性能研究

刘文鹏 , 张庆礼 , 杨华军 , 周鹏宇 , 孙敦陆 , 高进云 , 谷长江 , 罗建乔 , 王迪 , 殷绍唐

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2011.02.018

采用固相反应法制备了Bi3+、Eu3+、Tb3+掺杂的Lu3TaO7.测量了样品的X射线衍射谱、激发和发射光谱及荧光衰减曲线.三种离子掺杂的Lu3TaO7均呈现出强的荧光发射,其中Bi3+具有峰位在431 nm处的一强发射宽带,衰减寿命为16.8μs,Eu3+、Tb3+则表现出稀土离子的特征锐发射峰,衰减寿命分别为1.26 ms和1.20 ms.因此,它们均是具有潜在应用前景的重闪烁体材料.

关键词: 材料 , 闪烁体 , Lu3TaO7 , 发光

一种基于锡锑氧化物的透明PN结及整流特性

季振国 , 周荣福 , 毛启楠 , 霍丽娟 , 曹虹

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.09217

利用反应磁控溅射法制备了半导体锡锑氧化物薄膜 (TAO). 根据霍尔效应测试结果,当Sn/Sb 原子比处于0.22~0.33范围内时,TAO薄膜是p型导电的,在此范围之外,TAO薄膜是n型导电的. 光学带隙测量结果表明,不同Sn/Sb比的TAO薄膜的禁带宽度基本相同(~3.9eV).构造了一个全透明的PN结,其中n区为Sn/Sb原子比为0.5的TAO薄膜, p区为Sn/Sb原子比为0.33的TAO薄膜.n区TAO的电极用铟锡氧化物(ITO),p区TAO的电极用Cu薄膜.实验结果表明,由于两种导电类型的TAO薄膜具有相同的禁带宽度,上述透明PN结构具有典型的准同质PN结的整流特性.

关键词: 透明半导体薄膜 , antimony-tin oxide , PN junction

一种基于锡锑氧化物的透明PN结及整流特性

季振国 , 周荣福 , 毛启楠 , 霍丽娟 , 曹虹

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.09217

利用反应磁控溅射法制备了半导体锡锑氧化物薄膜 (TAO). 根据霍尔效应测试结果,当Sn/Sb 原子比处于0.22~0.33范围内时,TAO薄膜是p型导电的,在此范围之外,TAO薄膜是n型导电的. 光学带隙测量结果表明,不同Sn/Sb比的TAO薄膜的禁带宽度基本相同(~3.9eV).构造了一个全透明的PN结,其中n区为Sn/Sb原子比为0.5的TAO薄膜, p区为Sn/Sb原子比为0.33的TAO薄膜.n区TAO的电极用铟锡氧化物(ITO),p区TAO的电极用Cu薄膜.实验结果表明,由于两种导电类型的TAO薄膜具有相同的禁带宽度,上述透明PN结构具有典型的准同质PN结的整流特性.

关键词: 透明半导体薄膜 , 锡锑氧化物 , PN结

强旋流中颗粒运动特性的直接数值模拟

桂南 , 樊建人 , 陈松

工程热物理学报

本文采用直接数值模拟计算了Re=669,S=1.42强旋流中的颗粒运动特性.计算的部分流动条件依照SommerfeId & Qiu的实验条件进行模化.模拟的结果揭示了旋流近场的颗粒运动的浓度、速度的时均量和脉动值的统计分布特性.

关键词: 旋流 , 颗粒运动 , 直接数值模拟 , 统计特性

1998 COMPREHENSIVE TABLE OF CONTENTS

中国腐蚀与防护学报

N。1Atmospheric Corrosivlty for Steels………………………………………………… .LIANG Caideng HO[I i。-tat(6)Caustic Stress Corrosion Cr。king of Alloy 800 Part 2.The Effect of Thiosul执e……………………………………… KONG De-sheng YANG Wu ZHAO Guo-zheng HUANG De.ltL。ZHANG Yu。。he CHEN She。g-bac(13)SERS slid E16CttOCh6iniC81 Stlldy Of Illhibit1Oli M6ch&tllsth Of ThlollY68 Oil ITOll ID H....

关键词:

Correctness and completeness of the theory of bio-energy transport Reply to the comments on "The theory of bio-energy transport in the protein molecules and its properties"

Physics of Life Reviews

Commentaries by Philip W.T. Pong, Nongyue He, S.D. Liang, Tao Song, Yuri Gaididei and Sergey Volkov and Alexander Y. Grosberg on my review article (Pang, 2011 [1]) are answered. The validity of Davydov's mechanism of bio-energy transport, the completeness of theory, outstanding problems, the normalization and validity of wave function of the system in Pang' model as well as other related problems are elucidated in detail. (C) 2011 Elsevier B.V. All rights reserved.

关键词: biological temperature;3 channels;soliton;model

镀钽TiNi形状记忆合金表面的XPS分析

成艳 , 蔡伟 , 李洪涛 , 郑玉峰 , 赵连城

功能材料

采用多弧离子镀的方法在Ti-50.6%(原子分数)Ni形状记忆合金表面沉积了钽镀层.通过X射线光电子能谱(XPS)剖面分析发现TiNi合金表面钽镀层厚度均匀,并且在镀层与基体之间形成一薄层过渡层.将镀钽TiNi合金曝露于空气中后,通过XPS的全谱和高分辨谱图对其表面的成分和价态分析发现,镀钽层表面由于钽在空气中自然氧化形成了一层很薄的钽的氧化膜,最表面为高价钽的氧化物(Ta2O5),次表面为低价钽氧化物的混合物TaO2、TaO和TaOx(x<1).

关键词: TiNi形状记忆合金 , 多弧离子镀 , , 镀层

C/C复合材料表面TaC涂层的制备和生成机制

李江鸿 , 张红波 , 熊翔 , 肖鹏 , 黄伯云

稀有金属材料与工程

报道了一种在C/C复合材料基体上制各抗烧蚀TaC涂层的新方法.采用红外光谱、XRD及SEM表征了生成TaC涂层的Ta源:TaO2F·rH2O·TaF5.采用SEM观察了不同温度下转变生成的TaC涂层的形貌.在1200℃高温热处理,TaC涂层形貌为细颗粒状,在1800℃高温热处理后,TaC涂层为柱状晶.TaC的生成机制为:TaO2F·rH2O·TaF5高温分解凝聚生成的Ta2O5沉积在C/C复合材料基体表面,碳原子在Ta2O5中扩散反应生成TaC,TaC涂层形貌可由生成Ta2O5的凝聚成核理论解释.

关键词: TaC涂层 , 制备 , 生成机制

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