李铸国
,
俞海良
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0—10.0% 的Ti-Cu-N膜, 研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响. 结果表明, 添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度. Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性, 硬度HV达到42, 约为纯TiN薄膜硬度的2倍. 超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜, 具有柱状晶结构. 薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构.
关键词:
磁控溅射
,
ion irradiation
,
nanocomposite film
,
hardness
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到25GPa, 残余压应力小。
关键词:
TiN薄膜
,
null
,
null
李铸国
,
华学明
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.016
用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji/JTi≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25 GPa,残余压应力小.
关键词:
TiN薄膜
,
物理气相沉积(PVD)
,
择优取向
,
离子照射
李铸国
,
俞海良
,
吴毅雄
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.09.019
利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0-10.0%的Ti-Cu-N膜,研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响.结果表明,添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度.Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性,硬度HV达到42,约为纯TiN薄膜硬度的2倍.超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜,具有柱状晶结构.薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构.
关键词:
磁控溅射
,
离子照射
,
纳米复合膜
,
硬度
李铸国
,
三宅正司
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2009.00480
采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO_2薄膜,通过X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征.结果表明,叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性,在金属溅射模式和低于200℃的沉积条件下,制备了高质量的锐钛矿相TiO_2薄膜;该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51和7.8×10~(-4)
关键词:
TiO_2薄膜
,
磁控溅射
,
金属溅射模式
,
低温沉积
,
折射率
