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钛镍合金上制备类金刚石薄膜的性能研究

吴玲玲 , 梁海峰 , 蔡长龙 , 徐均琪 , 杭凌侠 , 严一心

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.02.011

Ti-Ni形状记忆合金是目前唯一用作生物医学材料的形状记忆合金.它的主要缺点是不具有生物活性,会对机体造成不利影响.DLC膜以其优异的生物相容性、抗腐蚀性及化学稳定性倍受关注.利用脉冲真空电弧离子镀技术镀制DLC膜改善Ti-Ni合金的表面性能.对DLC膜的表面形貌、显微硬度、摩擦系数、耐磨性能及耐腐蚀性能进行了测试.结果表明:用脉冲真空电弧离子镀技术制备的DLC膜膜层表面形貌较好、硬度高、摩擦系数小、耐磨及耐腐蚀性能良好.

关键词: Ti-Ni合金 , 类金刚石薄膜 , 脉冲电弧

脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究

蔡长龙 , 王季梅 , 弥谦 , 杭凌侠 , 严一心 , 徐均琪

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.06.009

薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.

关键词: 脉冲电弧 , 沉积速率 , 类金刚石薄膜

类金刚石薄膜硬度的研究

蔡长龙 , 王季梅 , 杭凌侠 , 严一心 , 徐均琪

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.03.003

采用脉冲真空电弧离子源镀制了类金刚石薄膜,研究了影响类金刚石薄膜硬度的各种因素,包括:基片温度、主回路电压、清洗时间、膜层厚度和脉冲频率等,分析了各种镀制参数对薄膜硬度的影响机理,找出了最佳镀制工艺参数.

关键词: 类金刚石薄膜 , 脉冲电弧 , 硬度 , 工艺参数

基于复合靶制备Ti-DLC薄膜的研究

李传志 , 徐均琪 , 严一心

材料导报

利用非平衡磁控溅射技术溅射复合靶制备了一系列掺杂金属元素钛的类金刚石膜,并对薄膜的机械性能、沉积速率、电学性能及化学性能进行了测试,主要分析了影响机械性能、沉积速率的主要参数并确定了最佳工艺参数,同时阐述了其电学性能及化学性能结果.

关键词: 非平衡磁控溅射 , 钛掺杂 , 复合靶 , 正交实验

靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响

刘衡平 , 徐均琪 , 严一心

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.003

利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究.试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小.靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素.

关键词: 非平衡磁控溅射 , 类金刚石 , 性能 , 结构

脉冲电弧沉积类金刚石薄膜特性的研究

刘缠牢 , 梁海锋 , 严一心

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2006.04.012

利用脉冲电弧镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜的光谱特性、摩擦磨损特性、硬度、电阻率和稳定性.用椭圆偏振法测试拟合得到薄膜的光学常数,傅立叶变换红外光谱仪测试薄膜的光谱特性;利用摩擦磨损实验仪测量薄膜的耐摩擦性能;利用维氏硬度计表征薄膜的硬度.结果表明薄膜在光谱范围1.25～10μm内透明,光学常数随波长的变化而变化,具有高达40GPa的维氏硬度、高的电阻率、良好的摩擦学特性和化学稳定性等.

关键词: 类金刚石薄膜 , 脉冲电弧 , 光学特性 , 机械特性

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