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中频对靶磁控溅射合成TiN/Ti多层膜

于翔 , 王成彪 , 刘阳 , 于德洋

金属学报

利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN/Ti多层膜. 考察了不同Ti间隔层 对多层膜硬度和结合力的影响, 分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理; 利用正交 实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响, 对工艺参数进行了优化. 结果表明, 靶电流对缺陷密度的影响最大, 气体压力次之, 基体偏压对缺陷密度影响最小; 当靶电流I=20 A、气体压力p (Ar+N 2)=0.31 Pa、基体偏压V bias=-60 - -300 V和Ti间隔层厚度x=0.12 um时, 制备出硬度HV 0.2 N =2250、膜基间结合力(临界载荷)L c=48 N和表面缺陷密度ρs=58 mm -2的高质量TiN/Ti多层膜.

关键词: TiN/Ti多层膜 , magnetron sputtering , mechanical property

中频对靶磁控溅射制备含铬类金刚石薄膜

于翔 , 王成彪 , 刘阳 , 于德洋

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2006.02.007

利用新型中频对靶磁控溅射在硅和M2高速钢基体上沉积了一系列无氢含铬类金刚石膜.考察了类金刚石膜的表面形貌、显微结构、硬度、结合力和摩擦磨损性能.结果表明:合成的类金刚石薄膜具有优良的综合性能,硬度为30-46GPa、结合力Lc达50-65N、大气环境下摩擦系数约为0.1.

关键词: 含铬类金刚石薄膜 , 中频对靶磁控溅射 , 多层梯度结构

中频对靶磁控溅射合成TiN/Ti多层膜

于翔 , 王成彪 , 刘阳 , 于德洋

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.06.018

利用新型中频对靶磁控溅射技术合成了一系列TiN/Ti多层膜.考察了不同Ti间隔层对多层膜硬度和结合力的影响,分析了膜表面大颗粒和坑的形成机理;利用正交实验法和方差分析探讨了靶电流、气体压力和基体偏压对薄膜表面缺陷密度的影响,对工艺参数进行了优化.结果表明,靶电流对缺陷密度的影响最大,气体压力次之,基体偏压对缺陷密度影响最小;当靶电流I=20 A、气体压力p(Ar+N2)=0.31 Pa、基体偏压Vbias=-160--300 V和Ti间隔层厚度x=0.12 μm时,制备出硬度HV0.2 N=2250、膜基间结合力(临界载荷)Lc=48 N和表面缺陷密度ρs=58 mm-2的高质量TiN/Ti多层膜.

关键词: TiN/Ti多层膜 , 磁控溅射 , 力学性能 , 表面缺陷

MoS_2-LaF_3共溅膜潮湿贮存后的摩擦学性能

王均安 , 于德洋 , 欧阳锦林

材料研究学报

本文考察了MoS_2-LaF_3共溅膜在潮湿空气中贮存后结构及摩擦学性能的变化。结果表明,少量稀土化合物使共溅膜组织更加致密,防止了底材腐蚀,稳定了薄膜结构,MoS_2-LaF_3共溅膜经潮湿贮存后仍具有长的耐磨寿命和稳定的摩擦系数。

关键词: MoS_2-LaF_3 , humidity , structure , texture , tribological property

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