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FeCl3-HCl体系紫铜化学抛光工艺的探讨

张忠诚 , 井涛 , 付莹莹 , 熊丽君

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.03.003

研究了紫铜在FeCl3-HCl微酸性体系中化学抛光的工艺.介绍了该化学抛光工艺的流程及各前、后处理工序的配方.通过筛选实验,确定抛光液中光亮剂为脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-9),辅助光亮剂为乙醇,缓蚀剂为苯并三氮唑(BTA).采用正交试验,得到最佳化学抛光液配方为:每100 mL抛光液中含8 gFeCl3,8mL盐酸,0.1 mLAEO-9,0.2 gBTA,1.2mL乙醇.最佳抛光温度为30℃左右.根据正交试验结果,讨论了抛光液组成及温度对抛光效果的影响.各因素对抛光效果的影响作用由大到小依次为:抛光液温度>FeCl3质量浓度>AEO-9体积分数或BTA质量浓度>乙醇体积分数>盐酸体积分数.该工艺操作简单,抛光速度快,效果好,低污染,易于推广.

关键词: 紫铜 , 化学抛光工艺 , 光亮剂 , 缓蚀剂 , 正交试验 , FeCl3 , AEO-9 , BTA

弱碱性条件下紫铜化学抛光新工艺

井涛 , 张忠诚 , 李广武 , 赵芳

腐蚀学报(英文)

开发出了弱碱性溶液中紫铜化学抛光新工艺,确定了抛光液中的光亮剂(包括缓蚀剂和表面活性剂).经过一系列正交实验,获得了最佳工艺条件,并分析了影响抛光效果的各种因素.该工艺抛光速度快、腐蚀性低、环境污染小、成本低.

关键词: 紫铜 , null , null , null

弱碱性条件下紫铜化学抛光新工艺

井涛 , 张忠诚 , 李广武 , 赵芳

腐蚀学报(英文) doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2007.05.016

开发出了弱碱性溶液中紫铜化学抛光新工艺,确定了抛光液中的光亮剂(包括缓蚀剂和表面活性剂).经过一系列正交实验,获得了最佳工艺条件,并分析了影响抛光效果的各种因素.该工艺抛光速度快、腐蚀性低、环境污染小、成本低.

关键词: 紫铜 , 弱碱性溶液 , 光亮剂 , 缓蚀剂 , 表面活性剂

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